意味 | 例文 (212件) |
ion laserの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 212件
The third stage is performed by a wet etching process, and the fourth stage is performed by laser beam work or reactive ion etching.例文帳に追加
第3段階は湿式蝕刻工程によりなされ、第4の段階はレーザービーム加工または反応性イオン蝕刻によりなされる。 - 特許庁
The carbon nano structure is manufactured by irradiating a carbon material with a high energy beam such as an ion beam, a laser beam and an electron beam.例文帳に追加
炭素ナノ構造体は、炭素材料にイオンビーム、レーザビーム、電子ビーム等の高エネルギービームを照射することにより製造される。 - 特許庁
A surface-emitting semiconductor laser 100 oscillating at a wavelength λ includes an ion-implanted current narrowing layer 14 near an active layer 13.例文帳に追加
面発光半導体レーザ100は、発振波長がλであり、活性層13の近傍にイオン注入型の電流狭窄層14を有する。 - 特許庁
The irradiation is carried out with ultraviolet rays, an excimer laser beam, an electron beam, an ion beam or their combined beam as the energy beam 2.例文帳に追加
エネルギービームとしては、紫外線、エキシマレーザ、電子ビーム、イオンビームまたはこれらを組合せたビームを照射する。 - 特許庁
In this case, pouring of impurity ion can be effected before or after the laser irradiation.例文帳に追加
その際、不純物イオンの注入は、レーザ線照射の前に行ってもよく、レーザ線照射の後に行ってもよい。 - 特許庁
By the irradiation of laser light, the implanted ion impurities and the crystal damaged at the time of implantation are subjected to the activation and the restoration process, respectively.例文帳に追加
レーザ光を照射してイオン注入した不純物の活性化と注入時に損傷を受けた結晶の回復処理を行う。 - 特許庁
Significantly improved measurement sensitivity is obtained by applying laser pulses to the ion source at a high pulse rate of about 500 Hz or higher.例文帳に追加
約500Hz以上の高いパルスレートでレーザパルスをイオンソースに付与することによって有意に向上した測定感度が得られる。 - 特許庁
To achieve jointing process of an X-ray target material and a heat pipe in shorter time than physical vapor deposition such as ion sputter and laser ablation.例文帳に追加
X線ターゲット材料とヒートパイプの接合工程をイオンスパッタ、レーザーアブレーション等の物理蒸着法よりも短時間に実現する。 - 特許庁
The optical fiber 51 doped with neodymium ion as a laser active medium is wound spirally onto a low melting glass member 50.例文帳に追加
低融点ガラス部材50に、レーザ活性媒質としてネオジウムイオンがドープされた光ファイバー51を螺旋状に巻き付ける。 - 特許庁
To provide a laser ablation inductively coupled plasma mass spectroscope capable of reducing variations in ion intensity.例文帳に追加
イオン強度のばらつきを低減させることができるレーザアブレーション誘導結合プラズマ質量分析装置を提供する。 - 特許庁
To provide an EUV light source device which can effectively collect high-speed ion debris generated when a laser beam is applied to a target.例文帳に追加
EUV光源装置において、ターゲットにレーザ光を照射することによって発生する高速なイオンデブリを効率良く回収する。 - 特許庁
Next, a P^+-drain layer 1 is formed on the rear surface of the N^+-buffer layer 2 by means of the ion implantation and irradiation of a second laser light beam.例文帳に追加
次に、N^+バッファ層2の裏面にイオン注入と第2のレーザ照射によりP^+ドレイン層1を形成する。 - 特許庁
After selecting precursor ions by capturing the ions in an ion trap 1, ethylene gas is introduced into the ion trap 1 from an introducing part 23 for gas to be excited, and is irradiated with laser beam having a prescribed wavelength (10.6 μm) oscillating and exciting the gas molecules from an exciting laser irradiating source 22.例文帳に追加
イオントラップ1内にイオンを捕捉してプリカーサイオンを選別した後、被励起ガス導入部23よりエチレンガスをイオントラップ1内に導入し、該ガス分子を振動励起させる所定波長(10.6μm)のレーザ光を励起レーザ照射源22から照射する。 - 特許庁
The method of generating high speed ion comprises a process of converging a laser by 10^15 W/cm^2 or higher on a low-density conductive first target having an effective thickness of 0.3 mm or thinner, and emitting the high speed ion from a back side of the laser irradiation part of the first target.例文帳に追加
有効な厚みが0.3mm以下である低密度導電性第一ターゲットにレーザーを10^15W/cm^2以上に集光し、該第一ターゲットのレーザー照射部の裏側から高速イオンを放出させる工程を含む、高速イオンの発生方法を提供する。 - 特許庁
The transmittance for light of an optical material is suppressed by laser irradiation at a time of ion irradiation without melting or softening the optical material for a crystal or amorphous transparent optical material in a damaging environment by an ion injection process or ion irradiation.例文帳に追加
イオン注入プロセスもしくはイオン照射損傷環境下における結晶質あるいは非晶質の透明性光学材料に対し、これら光学材料の溶融あるいは軟化を行うことなく、イオン照射と同時にレーザーを照射して光学材料の光透過率の低下を抑える。 - 特許庁
An exciting laser beam for triggering photodissociation is irradiated on the center of a capturing zone A in an ion trap 1, and an exciting signal for making the fragment ion excite without exciting a precursor ion is applied on end cap electrodes 12 and 13.例文帳に追加
光解離を起こすための励起レーザ光をイオントラップ1内の捕捉領域Aの中央に照射し、それとともにプリカーサイオンを励振させずにフラグメントイオンを励振させるような励振信号をエンドキャップ電極12、13に印加する。 - 特許庁
Since an ion source 6 is positioned on an end surface of a housing 5, the ion beam axis can be made coincident with the center axis of the ion source 6 and that of the extraction electrode 3 by adjusting the position of the extraction electrode 3 to maximize the intensity of the laser beam.例文帳に追加
イオン源6は、ハウジング5の端面で位置決めされるため、レーザビームの強度が最大となるように引出電極3を位置調整することにより、イオンビーム軸をイオン源6と引出電極3の中心軸と一致させることができる。 - 特許庁
To provide a method for analyzing secondary ion masses, capable of specifying an analyzing position, even with respect to a sample, where the hole formed by the irradiation with ion beam is difficult to be discriminated, because the optical surface reflectivity is low, by irradiating the surface of the sample with a laser beam through the route of a secondary ion optical system.例文帳に追加
二次イオン光学系の経路を通して試料表面にレーザを照射することにより、表面の光学的な反射率が低いため、イオンビームを照射して形成された穴が判別しにくい試料であっても分析位置を特定することができる二次イオン質量分析方法を提供する。 - 特許庁
Moreover, when the n-type impurity is ion-implanted at a high temperature, a region being ion-implanted is heated to 180°C or higher by substrate heating or laser irradiation, a silicon pair between boron and lattice is sufficiently disassociated and the n-type impurity is ion-implanted under existence of an even stress.例文帳に追加
また、N型不純物の添加を高温イオン注入で行う場合は、基板加熱やレーザー照射などでイオン注入する領域を180℃以上に加熱し、ボロン・格子間シリコンペアを十分解離させ、一様な応力が存在する状態の下で、N型不純物のイオン注入を行う。 - 特許庁
This is the minute ion beam generating method in which the minute ion beam is formed because light is condensed of laser in a target gas to generate plasma, and ions in the generated plasma are extracted and focused.例文帳に追加
この出願の発明は、レーザーをターゲット気体中で集光させてプラズマを発生させ、発生したプラズマ中のイオンを引き出して集束させることにより微小イオンビームを形成することを特徴とする。 - 特許庁
To shut up particles generated by laser irradiation into an ion source container and to restrain the particles from flowing out to the devices of latter stages connected to a vacuum evacuation system or ion source.例文帳に追加
レーザ照射の際に発生する微粒子をイオン源容器内に閉じ込め、真空排気系やイオン源に接続される後段の装置へ微粒子が流出するのを抑制する。 - 特許庁
The quantum dot 12 is irradiated with the excitation light pulse 15A of a wavelength shorter than the wavelength of emitted light from the metal ion 13 with a shorter pulse width than the light emission life of the metal ion 13, by using the laser irradiation apparatus 15.例文帳に追加
レーザ照射装置15により金属イオン13の発光寿命よりも短いパルス幅で、金属イオン13の発光波長よりも短い波長の励起光パルス15Aを量子ドット12に照射する。 - 特許庁
A mode of forming a thin film made of the fluorine-based resin by means of at least one of methods of ionization deposition, ion plating, laser ablation and ion beam sputtering is preferable.例文帳に追加
イオン化蒸着法、イオンプレーティング法、レーザアブレション法、イオンビームスパッタ法から選択される少なくとも1種によりフッ素系樹脂からなる薄膜を成膜する態様等が好ましい。 - 特許庁
The structure part and/or the electrode layers and the buffer part are consecutively formed by a sputter method, a vapor deposition method, an aerosol deposition method, an ion plating method, an ion cluster method, a laser beam abrasion method, etc.例文帳に追加
緻密構造部及び/又は電極層と上記バッファ部とを、スパッタ法、蒸着法、エアロゾルデポジション法、イオンプレーティング法、イオンクラスタ法及びレーザービームアブレーション法などによって連続して形成する。 - 特許庁
To provide a mass spectrometer equipped with a MALDI (Matrix Assisted Laser Desorption/Ionization) ion source capable of performing easily individual management of a sample plate and mass calibration based on distortion information of the sample plate, and the sample plate for the MALDI ion source.例文帳に追加
サンプルプレートの個別管理や、サンプルプレートのゆがみ情報に基づく質量較正を容易に行なうことのできるMALDIイオン源を備えた質量分析装置およびMALDIイオン源用サンプルプレートを提供する。 - 特許庁
A sensor chip 2 disposed on a substrate 1 is sealed by a sealing resin 5, and a section of the sealing resin 5, which seals an ion sensitive section 2a of the sensor chip 2, is removed using excimer laser so as to expose the ion sensitive section 2a.例文帳に追加
基体1に配設されたセンサチップ2を封止樹脂5で封止し、封止樹脂5におけるセンサチップ2のイオン感応部2aを封止する部位を、エキシマレーザーにより除去してイオン感応部2aを露出させる。 - 特許庁
To realize an illuminated defect repair using an ion beam device in which the deterioration in the quality in the periphery of a repair region due to a Ga ion diffusion in cleaning after post treatment of a halo component by a laser beam repair machine does not occur.例文帳に追加
レーザー修正機によるハロー成分のポストトリートメント後の洗浄時にGaイオン拡散に起因する修正領域周辺の品質劣化の起こらないイオンビーム装置を用いた白欠陥修正を実現する。 - 特許庁
The laser device comprises a laser slab (10) having ion layer (12) and a nonion layer (14) coupled through an optical interface (16).例文帳に追加
レーザー装置は光学質のインターフェース(16)を介して結合されたイオン層(12)及びノンイオン層(14)を有するレーザースラブ(10)を使用する。 - 特許庁
The ion implantation device 1 includes a laser beam radiating part 11 to radiate to a principal plane of the substrate to be treated a laser beam whose optical axis angle against the principal plane is adjustable.例文帳に追加
イオン注入装置1は、処理基板の主面に対する光軸の角度を調節可能なレーザー光を主面に向けて発するレーザー光照射部11を含む。 - 特許庁
The laser irradiation may be either in an atmosphere or under a vacuum, but when the laser irradiation is carried out in an atmosphere, the substrate is carried in a vacuum tank for the ion beam irradiation.例文帳に追加
レーザ照射は大気中及び真空中のいずれでも良いが、大気中でレーザ照射した場合は、イオンビームを照射するために、基板を真空槽内に搬送する。 - 特許庁
This laser ablation mass spectrometer 1 of the present invention includes a sample stage 10, a laser irradiation part 20, a pneumatic conveying system 30, an ion source 40 and an analytical part 50.例文帳に追加
本発明にかかるレーザーアブレーション質量分析装置1は、試料ステージ10と、レーザー照射部20と、気流搬送系30と、イオン源40と、分析部50とを備えている。 - 特許庁
Between the laser element portion 10A and the LED element portion 10B, an ion implantation layer 10C is provided for current constriction to the laser element portion 10A.例文帳に追加
レーザ素子部10AおよびLED素子部10Bの間には、イオン打ち込み層10Cが設けられ、これによりレーザ素子部10Aへの電流狭窄がなされる。 - 特許庁
To use laser light having lower power than hitherto, in a method for desorbing a material immobilized on the substrate surface from the surface by laser light irradiation, capturing ion therefrom, and performing mass spectrometry.例文帳に追加
基板の表面に固定した物質をレーザ光照射により該表面から脱離させ、そのイオンを捕捉して質量分析する方法において、従来と比べてより低パワーのレーザ光を使用可能とする。 - 特許庁
Therefore, a light emitting part 55 emitting a laser beam on the ion beam axis is attached to a housing 5 instead of the source head, and a reflecting part 56 reflecting the laser beam is attached to the extraction electrode 3.例文帳に追加
このため、イオンビーム軸上にレーザビームを発射する発光部55をソースヘッドの代わりにハウジング5に取り付け、一方、引出電極3には、このレーザビームを反射する反射部56を取り付ける。 - 特許庁
A color laser print 1 with which the multi-color image is obtained by sequentially transcribing each color toner image (positive polarity) of magenta (M), cyan (C), yellow (Y) and black (BK), is provided with an ion supply unit 20 which transmits the ion air containing ion of negative polarity and a feed tube 22 which feeds the ion air to a predetermined part.例文帳に追加
マゼンタ(M)、シアン(C)、イエロー(Y)、ブラック(BK)の各色トナー像(正極性)を順次転写して多色画像を得るカラーレーザプリンタ1において、負極性のイオンを含むイオンエアーを送出するイオン供給ユニット20と、そのイオンエアーを所定部位へ送給する送給チューブ22とを備える。 - 特許庁
The ion beam generating device is composed of a high frequency discharge tube 1 to generate helium plasma by high frequency discharge, a laser generating device 13 capable of adjusting a wavelength and carrying out optical pumping, a laser irradiating device to irradiate laser light from the laser generating device to the inside of the high frequency discharge tube, and an observing device to observe the wavelength of laser light.例文帳に追加
イオンビーム発生装置は、高周波放電によりヘリウムプラズマを発生させる高周波放電管1と、波長調整可能で光ポンピングが可能なレーザ発生装置13と、レーザ発生装置からのレーザ光を高周波放電管内に照射するレーザ照射装置と、レーザ光の波長を観察する観察装置とからなる。 - 特許庁
A MALDI ion source 10 includes a sample plate 15, a laser 30, a first optical element 32 arranged so as to direct the laser radiation along a first optical path toward the target area, and a second optical element 38 arranged along the first optical path to focus the laser radiation onto the target area.例文帳に追加
MALDIイオン源10は、サンプルプレート15と、レーザ30と、レーザ放射を第1の光路に沿って目標エリアに向けて誘導するよう配置された第1の光学素子32と、レーザ放射を目標エリア上に集束させるよう第1の光路に沿って配置された第2の光学素子38とを含む。 - 特許庁
In the laser beam machining process, the laser beam machining is performed while ions generated with an ion generating device 47 provided on a laser machining device 100 (printed wiring board manufacturing device) are supplied together with an auxiliary wind to the work substrate W and the swarf generated from the substrate during the machining is deelectrified.例文帳に追加
該レーザ加工工程においては、レーザ加工装置100(プリント配線基板製造装置)の備えるイオン発生装置47にて発生させたイオンを補助風とともに、ワーク基板Wに向けて供給し、加工の最中に生じた基板加工屑を徐電しつつレーザ加工を行う。 - 特許庁
As to this laser module 4, if a control part 50 detects that a protective casing 1 is separated from the laser module 4 via connecting elements 24, 25, the control part 50 sends instructions to a switching element 27 so as to short-circuit a circuit inside of which a lithium ion battery 11 in the laser module 4 is installed.例文帳に追加
レーザモジュール4は、制御部50が接続用素子24,25を介して保護筐体1とレーザモジュール4とが分離したことを検知すると、レーザモジュール4内のリチウムイオン電池11が設置された回路を短絡させるように、制御部50がスイッチ素子27に対して指令を送る。 - 特許庁
A molecular beam 3 of a measuring-objective molecule is irradiated with a flat laser beam 4 having a major axis in a molecular beam 3 flowing direction as the laser beam 4 for ionization to ionize the measuring-objective molecule, in a laser inonization mass spectrometer wherein the molecular beam 3 is irradiated with the laser beam 4 to ionize the objective molecule, so as to conduct mass spectrometric analysis by detecting an ion current therein.例文帳に追加
レーザー光4を測定対象分子の分子ビーム3に照射して、前記測定対象分子をイオン化してそのイオン電流を検知して質量分析を行うレーザーイオン化質量分析装置において、前記イオン化のためのレーザー光4として、前記分子ビーム3の流れ方向に長軸を有する偏平なレーザー光を前記分子ビームに照射して、イオン化を行う。 - 特許庁
To provide a doping system generating plasma (ion), accelerating it by high voltage to form an ion current, irradiating a substrate with it and furthermore, irradiating the substrate with a linear laser beam, and especially suitable for treatment of a wide area substrate.例文帳に追加
プラズマ(イオン)を発生させて、これを高電圧で加速してイオン流を形成し、これを基板に照射し、更に基板に線状レーザー光を照射するドーピング装置において、特に大面積基板を処理するのに適した装置を提案する。 - 特許庁
To solve a problem wherein an inclined pattern is formed due to absorption of the light by the photoresist resin at the wavelength used for the light source in a lithographic process using KrF or ArF laser, VUV rays, EUV rays, electron beams, ion beams or the like as the light source.例文帳に追加
KrF、ArF、VUV、EUV、電子線(E-beam)及びイオンビーム(ion beam)等の光源を利用したリソグラフィー工程時に、フォトレジスト樹脂が光源に用いられる波長の光を吸収して傾斜したパターンを形成することを解決する。 - 特許庁
The all-solid electrochromic element is obtained by depositing an electrochromic thin film and a transparent electrode by laser ablation on an ion exchange membrane impregnated with a metal cation and sandwiching the membrane with transparent substrates, or by adhering a color developing layer to an ion exchange membrane.例文帳に追加
金属陽イオンを含ませたイオン交換膜にエレクトロクロミック薄膜および透明電極をレーザーアブレーションにより堆積し、それらを透明基盤でサンドウィッチし、あるいは、発色層をイオン交換膜に密着させた全固体エレクトロクロミック素子。 - 特許庁
Laser beams Ls1, Ls2 are irradiated from the lateral side of the target 12 in synchronization with the movement of the ion bunch B that moves inside the target 12 toward a terminal e2 so that plasma of the fusion fuel is generated inside the target 12 to promote the fusion reaction of the ions in the ion bunch B.例文帳に追加
ターゲット12の内部を終端e2に向けて進行するイオンバンチBの動きに同期させてターゲット12の側方からレーザLs1,Ls2を照射することで、ターゲット12の内部に核融合燃料のプラズマを生じさせて、イオンバンチB中のイオンの核融合反応を促進する。 - 特許庁
A steel material B compound species specification method uses the resonance multiphoton ionization sputter neutral particle mass analysis method of ionizing neutral particles 5, sputtered with an active primary ion beam 2, with laser light and taking mass analysis of an ion species taken in a mass analyzer 7 through a lead electrode 6 for the steel material containing the B compound.例文帳に追加
B化合物を含有する鋼材に対して、不活性な一次イオンビーム2によってスパッタリングされた中性粒子5をレーザー光でイオン化し、引出電極6を介して質量分析計7に取り込まれたイオン種の質量分析をするスパッタ中性粒子質量分析法を利用する。 - 特許庁
This coating material comprises an epoxy resin, a hardening agent, a filler, a laser color coupler, an ion trapping agent and a phosphate-based flame retarder, wherein the laser color coupler contains a metallic salt compound and the ion trapping agent contains a zeolite and hydrotalcite.例文帳に追加
エポキシ樹脂、硬化剤、充填材、レーザー発色剤、イオン捕捉剤及びリン酸エステル系難燃剤を含有するレーザー印字用難燃性エポキシ樹脂粉体塗料であって、上記レーザー発色剤は金属塩類化合物を含有し、上記イオン捕捉剤はゼオライト類とハイドロタルサイト類とを含有することを特徴とする、レーザー印字用難燃性エポキシ樹脂粉体塗料。 - 特許庁
In the photoreduction method for metal complex ions where laser light is condensed and emitted on a metal complex ion-dispersed body dispersed into a material, thus the metal complex ions are photoreduced, so as to produce a metal structure, prescribed pigment is added to the material in which the metal complex ion-dispersed body is dispersed, and the laser light is condensed and emitted on the material to which the prescribed pigment is added.例文帳に追加
材料中に分散された金属錯イオン分散体にレーザー光を集光照射することにより金属錯イオンを光還元して金属構造体を作製する金属錯イオンの光還元方法において、金属錯イオン分散体が分散された材料中に所定の色素を添加し、上記所定の色素が添加された材料にレーザー光を集光照射するようにした。 - 特許庁
As the laser oscillation medium, a plastic rod is used which is obtained by doping a transparent resin with a rare earth ion complex which is irradiated with predetermined pumping light to produce fluorescence, wherein the ion complex contains at least one rare earth ion selected from a group of Eu^3+, Tb^3+, Yb^3+, Nd^3+, Er^3+, and Sm^3+.例文帳に追加
所定の励起光を照射することにより蛍光を発し且つ希土類イオンとしてEu^3+、Tb^3+、Yb^3+,Nd^3+,Er^3+およびSm^3+からなる群から選択される少なくとも1つを含有する希土類イオン錯体を、透明樹脂にドープしてなるプラスチックロッドをレーザー発振媒体として用いる。 - 特許庁
This RNA sequence determination method comprises subjecting a sample containing RNA to a Matrix-Assisted Laser Desorption/Ionization Time-of-Flight mass spectrometer using 2,4-dihydroxyacetophenone as a matrix to obtain a fragment ion group originated from the RNA by ISD and then analyzing the sequence of the RNA on the basis of a mass difference between the ion peaks of the fragment ion group.例文帳に追加
RNAを含む試料を、2,4−ジヒドロキシアセトフェノンをマトリクスとしたマトリクス支援レーザー脱離イオン化−飛行時間型質量分析に供し、ISDにより前記RNA由来のフラグメントイオン群を得て、前記フラグメントイオン群のイオンのピーク間の質量差に基づいて前記RNAの配列解析を行う、RNA配列決定法。 - 特許庁
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