「layer pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(110ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a thermosetting composition which is capable of maintaining etching performance and forming a satisfactory rectangular pattern, has a sufficient curing property and can provide excellent solvent resistance and adhesiveness with an adjacent layer.例文帳に追加

エッチング性能を維持し、良好な矩形パターンの形成が可能であると共に、硬化性が良好で、優れた耐溶剤性及び基体や隣接層との密着性が得られる。 - 特許庁

Since the average particle size of the inorganic fire retardant is 50-350 nm, the substrate pattern layer can be looked without lowering the transparency of the decorative sheet and fire retardancy can be imparted to the decorative sheet.例文帳に追加

無機系難燃剤の平均粒径が５０〜３５０ｎｍであるので、透明性を下げることなく、下地の絵柄層が良く見え、かつ難燃性を付与することが可能となる。 - 特許庁

To provide a magnetic layer processing process for simply performing a microfabrication without damaging a magnetic material in a magnetic material processing accompanying a pattern transfer by means of imprint.例文帳に追加

インプリントによるパターン転写に伴う磁性体加工において、磁性体にダメージを与えることなく簡易に微細化を行うための磁性層加工プロセスを提供する。 - 特許庁

By making the projecting parts 102...103, etc., into the mesh shape, even if pattern deviation is generated in an upper and lower layer, a convex shape of an intersection point does not change but uniform reflexivity is obtained.例文帳に追加

凸部１０２…１０３…をメッシュ形状とすることで、上下の層でパターンずれが発生しても交点の凸形状は変化せず、均一な反射性能が得られる。 - 特許庁

By this setup, a hemispherical opening 200 is formed in a via forming region on the interlayer resin layer 180 so as to expose a part of a wiring pattern 160.例文帳に追加

これにより、層間樹脂層１８０におけるビアの形成領域に、配線パターン１６０の一部を露出させる半球状開口部２００が形成される。 - 特許庁

The optical element has a glass layer formed of a pattern of periodic structures which are arrayed with a fine constant periodic interval corresponding to wavelength of light made incident on a resin substrate.例文帳に追加

樹脂基板上に入射する光の波長に対応する微小な一定周期間隔で配列された周期構造のパターンが形成されているガラス層を有する。 - 特許庁

To prevent movement of a conducting film pattern when a BPSG film is subjected to reflow in a method for manufacturing a semiconductor element wherein a multilayer structure is flattened by using a silicate glass layer.例文帳に追加

シリケートガラス層を用いて多層構造を平坦化させる半導体素子の製造方法において、ＢＰＳＧ膜をリフローしても伝導膜パターンが移動しないようにする。 - 特許庁

The color arrangement information of the microcapsule layer 17 of a display panel 1 is inputted from a color arrangement information recording part 34 to a pixel electric field pattern generation part 33 of a processing device 3.例文帳に追加

処理装置３の画素電界パターン生成部３３に、色配置情報記録部３４から表示パネル１のマイクロカプセル層１７の色配置情報を入力する。 - 特許庁

Subsequently, application liquid containing a polymer electrolyte material is applied by a spin coating method, thereby forming a solid electrolyte layer in conformity with the uneven pattern (a step S103).例文帳に追加

次いで、高分子電解質材料を含む塗布液をスピンコート法により塗布することで、凹凸パターンに追従した固体電解質層を形成する（ステップＳ１０３）。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electromagnetic wave shielding filter capable of preventing dark room contrast from being deteriorated by a conductor pattern layer tinged with white by silver particles, and the electromagnetic wave shielding filter.例文帳に追加

導電体パターン層が銀粒子等で白味を帯びて明室コントラストが低下するのを防げる電磁波遮蔽フィルタの製造方法及び電磁波遮蔽フィルタとする。 - 特許庁

To provide a logo-pattern in which color quickly changes from interference color shown by pearlescent pigment to color shown by a colored base layer according to a visibility angle of an observer.例文帳に追加

観察者の視認角度によって真珠光沢顔料の呈する干渉色から、有色下地層の呈する色へとクイックに色彩が変化するロゴパターンを提供する。 - 特許庁

To provide a logo pattern which varies its color, depending on the visible angle, from the interference color which pearlescent pigment presents to the color which colored base layer presents.例文帳に追加

観察者の視認角度によって真珠光沢顔料の呈する干渉色から、有色下地層の呈する色へと色彩が変化するロゴパターンを提供すること。 - 特許庁

To provide a production method of a multilayer wiring circuit board capable of bonding a metal thin film and a conductive pattern with an adequate strength inside an opening of an insulating layer.例文帳に追加

絶縁層の開口部内で金属薄膜と導体パターンとを十分な強度で接着することが可能な多層配線回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE INK ABSORBING LAYER, CONDUCTIVE INK ABSORBING BASE MATERIAL AND SUBSTRATE FOR FORMING CIRCUIT AS WELL AS PRINTED MATTER, CONDUCTIVE PATTERN AND CIRCUIT SUBSTRATE例文帳に追加

導電性インク受容層形成用樹脂組成物、導電性インク受容基材及び回路形成用基板ならびに印刷物、導電性パターン及び回路基板 - 特許庁

To dissolve pattern deviation and to enhance productivity when a rugged structure of a reflecting layer of a reflection type liquid crystal display element is formed from a plurality of layered patterns.例文帳に追加

反射型液晶表示素子の反射層の凹凸構造を複数の積層したパターンから形成する際のパターンずれを解消し生産性を向上する。 - 特許庁

A wiring layer 7 is formed according to a pattern of a display segment 10 on the inner surface of a substrate 3 constituting a part of an envelope whose inside is kept in a high vacuum state.例文帳に追加

内部が高真空状態に保持された外囲器の一部を構成する基板３の内面には、表示セグメント１０のパターンに応じて配線層７が形成される。 - 特許庁

Thus the wiring layer can be made flat, and the phenomenon that an iridescent color pattern is visually recognized on a background of a display picture to degrade the display quality can be suppressed.例文帳に追加

配線層を平坦化させることができ、虹色状の色彩模様が表示画面の背景に視認され表示品質を低下させてしまう現象を緩和できる。 - 特許庁

The layers 14 and the layer 12 are etched into a prescribed pattern, but the layers 14 are etched into an invertedly slanted form to spread outward as they become more distant from the substrate 10.例文帳に追加

マスク層及びパッド層を所定のパターンにエッチングするが、マスク層１４はＳｉ基板１０から離れるにつれて、外方に広がる逆傾斜形状にエッチングする。 - 特許庁

To provide a double-face drawing apparatus which can directly draw a pattern with an exposure light beam on a resist layer on the top and the back surfaces of a substrate, and to provide a method for drawing an image.例文帳に追加

基材の表面および裏面のレジスト層に露光ビームでパターンを直接描画できる両面描画装置およびその描画方法を提供する。 - 特許庁

At the time of transferring and exposing a gate pattern layer 52, the line 55 is made to pass on such a detouring subfield boundary line 56 that is shown in the lower part of the figure.例文帳に追加

また、ゲートパターン５２層の転写露光を行う際には、中央のトランジスタ領域５７の図の下方に示したような迂回サブフィールド境界線５６を通るようにする。 - 特許庁

To provide a photosensitive element having superior adhesion to a substrate and capable of forming a dielectric layer of a high-precision uniform pattern shape at a high yield rate.例文帳に追加

本発明は、基板との密着性に優れ、高精度で均一なパターン形状の誘電体層を、歩留り良く形成することができる感光性エレメントを提供すること。 - 特許庁

To provide a coating liquid that can well form a film of an organic EL layer in pattern formation of organic EL element, and an organic EL ele ment and method of manufacturing the same.例文帳に追加

有機ＥＬ素子のパターン形成における有機ＥＬ層の成膜を良好に行うための塗液並びに有機ＥＬ素子及びその製造方法を提案する。 - 特許庁

To provide a photosensitive film having sufficiently high release property of a photosensitive layer comprising a photosensitive resin composition from a support film and allowing formation of a resist pattern free of defects.例文帳に追加

感光樹脂組成物からなる感光層の支持体フィルムからの剥離性が十分に高く、欠陥のないレジストパターンを形成できる感光性フィルムを提供すること。 - 特許庁

A ratio D_0/D' of the mask pattern D_0 for the each opening to the each opening inside diameter D' is corrected in response to the density of the plurality of openings distributed in a plane of the solder resist layer.例文帳に追加

ソルダーレジスト層の面内に分布する複数の開口の密度に応じて、開口用マスクパターン外径Ｄ_０と開口内径Ｄ’との比Ｄ_０／Ｄ’を補正する。 - 特許庁

An interlayer insulating film 3 which has at least an uppermost layer composed of the SiOC based material is formed on a substrate, and a trench pattern 3a is formed on the interlayer insulating film 3.例文帳に追加

基板上に、少なくとも最上層がＳｉＯＣ系材料からなる層間絶縁膜３を成膜し、層間絶縁膜３に溝パターン３ａを形成する。 - 特許庁

To provide an organic EL device in which an electrode layer and a conductive film pattern can be certainly electrically connected without widening a contact part, and electronic equipment.例文帳に追加

コンタクト部を広げなくても、電極層と導電膜パターンを確実に電気的に接続することのできる有機ＥＬ装置、および電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a colored silica coating film-forming composition for forming a colored layer suitable for concealing a pattern shape formed on a semiconductor device or the like.例文帳に追加

半導体素子等に形成されているパターン形状を隠すために好適な着色層を形成するための着色シリカ系被膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a metallic particle paste of which a sintered layer or a sintered pattern having high conductivity is efficiently formed even at a low temperature (in particular, at about 150°C or less).例文帳に追加

低温（特に１５０℃以下程度の低温）であっても、高い導電性を有する焼結層又は焼結パターンを効率よく形成できる金属粒子ペーストを提供する。 - 特許庁

Thereby, the water-based ink that constitutes the design pattern layer 2 is caused to adhere to the surface of the substrate 1 without being repelled by it.例文帳に追加

これにより、模様層２を構成する水性インクが基材１の表面に弾かれることなく付着し、水性インクを基材１の表面に定着させることができる。 - 特許庁

A printing pattern is formed by engraving the polymer layer for laser processing of the laminate by using laser, and the flexography printing plate can be obtained.例文帳に追加

このレーザー加工用積層体のレーザー加工用重合体層の表面をレーザーで彫刻することによって印刷パターンを形成し、フレキソ印刷版とすることができる。 - 特許庁

A photoresist diffraction grating pattern 21 is manufactured according to a holographic exposure method by two beam interference on a substrate made by forming a photoresist layer 2 on the surface of a substrate 1.例文帳に追加

基板１の表面に、フォトレジスト層２を形成した基板１１に、２光束干渉によるホログラフィック露光法で、フォトレジスト回折格子パターン２１を作製した。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of securely preventing misrecognition as an alignment mark by a simple structure by forming a dummy pattern used for a CMP method on a wiring layer.例文帳に追加

ＣＭＰ法に用いるダミーパターンを配線層に形成し、簡単な構造でアライメントマークとの誤認識を確実に防止し得る半導体装置を提供する。 - 特許庁

A pattern of an integrated circuit is formed of a predetermined wiring layer and after ending plasma treatment, the contact path 171 is cut by irradiating a trimming portion 171B with a laser beam.例文帳に追加

所定の配線層による集積回路のパターンが形成され、プラズマ処理終了後、接続経路１７１は、トリミング部１７１Ｂにレーザービームを照射して切断される。 - 特許庁

To provide a method suitable for efficiently manufacturing a magnetic recording medium having a recording magnetic part having a prescribed pattern in a recording layer and a recording surface having high flatness.例文帳に追加

所定パターンの記録磁性部を記録層内に有し且つ記録面の平坦性の高い磁気記録媒体を効率よく製造するのに適した方法を、提供すること。 - 特許庁

On the polyimide insulation layer 11 side of a flexible single-sided CCL 10, the liquid-crystal polymer cover lay 22 is pasted which is formed with a wiring pattern 24 on one side.例文帳に追加

フレキシブル片面ＣＣＬ１０のポリイミド製の絶縁層１１の側に、片面に配線パターン２４を形成された液晶ポリマ製のカバーレイ２２を貼り合わせる。 - 特許庁

This resin molded article (3) is characterized by mixing and dispersing a pattern material (2) comprising the crushed product of the cured resin mixture of a vinyl ester resin with an unsaturated polyester resin in a vinyl ester resin layer (1).例文帳に追加

ビニルエステル樹脂層（１）に、ビニルエステル樹脂と不飽和ポリエステル樹脂との混合硬化樹脂粉砕品よりなる柄材（２）を混合分散させて成る樹脂成形品（３）。 - 特許庁

To obtain a memory cell of SRAM comprising a well contact cell and a memory cell in which disturbance of periodicity is suppressed in the layout of pattern of a diffusion region or a polysilicon layer.例文帳に追加

ウェルコンタクトセルとメモリセルとを有するＳＲＡＭのメモリセルにおいて、拡散領域やポリシリコン層等のパターンのレイアウトの周期性が乱れるのを抑制する。 - 特許庁

Next, at the necessary place of the conductor layer on which the wiring pattern is formed, surface work such as plating is performed to obtain the flexible printed circuit board such as a TAB tape carrier.例文帳に追加

次いで、配線パターンを形成した導電層の所要の個所に、メッキなどの表面加工を施して例えばＴＡＢ用テープキャリアなどのフレキシブルプリント回路基板を得る。 - 特許庁

A pattern 34a made mainly of silicon is formed on a semiconductor substrate 31 made of single cryatl silicon with a pad oxide film 32 and a stopper layer 33 in between.例文帳に追加

単結晶シリコンからなる半導体基板３１上に、パッド酸化膜３２及びストッパ層３３を介してシリコンを主材料とするパターン３４ａを形成する。 - 特許庁

However, the pattern has sensitivity with the light having a shorter wavelength than 300 nm, and has no sensitivity to the light used to expose the coating resin layer.例文帳に追加

ただし、前記パターンは、３００ｎｍより短い波長の光には感度を有し、前記被覆樹脂層を露光するために用いられる光に対しては、感度をもたない。 - 特許庁

A dielectric layer 14 made of a material with a lower dielectric constant than that of a dielectric board 11 is formed between the pattern face of the resonator patterns 13a and 13b and the ground conductor.例文帳に追加

共振器パターン１３ａ，１３ｂのパターン面と接地導体間に誘電体基板１１よりも誘電率の低い材料を用いた誘電体層１４を形成する。 - 特許庁

Then, with the wafer W being turned, pure water E is supplied onto the wafer W to remove the upper layer portion of the resist pattern size shrinking agent off the wafer W.例文帳に追加

その後ウェハＷを回転させた状態でウェハＷに純水Ｅを供給して、レジストパターン寸法縮小剤の上層部分をウェハＷ上から除去する。 - 特許庁

A part corresponding to the diode 2 of the lower part insulating layer 4 is irradiated with laser beam 11 to form a hole 12 reaching the metal film pattern 3 by laser abrasion.例文帳に追加

下部絶縁層４のダイオード２に対応する位置にレーザ光１１を照射して、金属膜パターン３に達する孔１２をレーザアブレーションによって形成する。 - 特許庁

Besides, a component containing the SAW element 21, a conductor pattern and a conductor layer are not formed in a conductor location inhibited area 14 within 100 μm from the periphery of the multilayer substrate 10.例文帳に追加

また、ＳＡＷ素子２１を含む部品、導体パターン、導体層は、多層基板１０の周囲から１００μｍ以内の導体配置禁止領域１４には形成しない。 - 特許庁

After a hole corresponding to a gate electrode pattern is formed at the silicon nitride film 16, the surface of amorphous silicon layer is selectively oxidized with the silicon nitride film 16 as a mask.例文帳に追加

シリコン窒化膜１６にゲート電極パターンに対応した孔を形成した後、シリコン窒化膜１６をマスクとしてアモルファスシリコン層１４の表面を選択酸化する。 - 特許庁