「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(86ページ目) - Weblio英語例文検索

The sound shielding material and the thickness of the sound shielding layer 2 can be optimized to attain a sufficient sound shielding effect and the radio wave absorbing material, and the thickness of the radio wave absorbing layer 1 can be optimized to attain a sufficient radio wave absorbing effect.例文帳に追加

この場合、遮音層２の遮音材料、厚さ等を十分な遮音性を得るために最適化することができ、電波吸収層１の電波吸収材料、厚さ等を十分な電波吸収性能を得るために最適化することができる。 - 特許庁

Then, the toner T is made to flow as indicated by an arrow F due to roundness of an arc part B of the layer thickness restricting member 10 and the toner T is fed so that it is sucked in between the layer thickness restricting member 10 and the periphery surface of the developing roll 8.例文帳に追加

そして、トナーＴは層厚規制部材１０の弧状部Ｂの丸みにより矢印Ｆで示すように流動し、当該トナーＴは層厚規制部材１０と現像ローラ８の周面との間に吸い込まれるように送り込まれる。 - 特許庁

After a silicon single crystal wafer is bonded thereon at the bonding surface 29 with a direct bonding technique; this wafer is reduced in the thickness to obtain a photoelectric converting layer 32 of the desired thickness, and a transparent electrode 33 is formed on this photoelectric converting layer 32.例文帳に追加

この上部に直接接合技術で、シリコン単結晶ウェハを接合面２９にて接合後、所望の厚さの光電変換層３２を得るために薄膜化し、この光電変換層３２の上に透明電極３３が形成されている。 - 特許庁

A photoreceptor layer film thickness of a photoreceptor as a reproduced toner image forming element performing independent monochromatic image formation which does not participate in the color image forming process is made thicker than a photoreceptor layer film thickness of a photoreceptor as an image forming element used for the color image forming process.例文帳に追加

カラー画像形成プロセスに関与しない独立したモノクロ画像形成を行う再生トナー画像形成要素の感光体の感光層膜厚を、カラー画像形成プロセスで用いる画像形成要素の感光体の感光層膜厚より厚くする。 - 特許庁

The first yoke portion layer 8b has, in an area facing the first magnetic pole portion layer 8a, an extended portion of which the thickness is relatively thick and a reduction portion of which the thickness is relatively thin so that the extended portion is located in the medium facing surface ABS side.例文帳に追加

第１ヨーク部分層８ｂは、第１磁極部分層８ａと対向する領域で、厚さが相対的に厚い拡張部と、厚さが相対的に薄い縮小部とを、拡張部が媒体対向面ＡＢＳ側に位置するように有している。 - 特許庁

When an average thickness of the covering layer 12 on an inner-periphery surface side of the magnet body 11 is taken as Di [μm], and an average thickness of the covering layer 12 on an outer-periphery surface side of the magnet body 11 is taken as Do [μm] , a relationship of Di < Do is satisfied.例文帳に追加

また、磁石本体１１の内周面側における被覆層１２の平均厚さをＤｉ［μｍ］、磁石本体１１の外周面側における被覆層１２の平均厚さをＤｏ［μｍ］としたとき、Ｄｉ＜Ｄｏの関係を満足する。 - 特許庁

To provide a wet image forming device where visible image density is easily and inexpensively made an intended density by regulating the layer thickness of liquid developer on a coating roller carrying the liquid developer applied to a developing roller to a desired layer thickness.例文帳に追加

現像ローラに塗布する液体現像剤を担持する塗布ローラ上で液体現像剤の層厚を所望の層厚に規制して、可視像濃度を容易にかつ低コストで意図する濃度にすることができる湿式画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition method by which an alignment layer having a uniform film thickness can be deposited on a substrate by preventing a variation in the film thickness of a material liquid when the material liquid including an alignment layer material is applied to a substrate using a liquid droplet ejecting means.例文帳に追加

液滴吐出手段を用いて基板上に配向膜材料を含む材料液を塗布する際に材料液の膜厚変動を防止して、基板上に均一な膜厚の配向膜を形成することができる成膜方法を提供する。 - 特許庁

By forming the holding projections 10 having approximately the same length at a predetermined interval in contact with the tops of convex portions of the wrinkle-like concavo-convex layer 6, the thickness of a liquid crystal layer 12 can be easily controlled to the thickness of a design value.例文帳に追加

ほぼ同じ長さに形成された保持用突起部１０を皺状凹凸層６の凸部上に接するように所定の間隔で形成することにより、液晶層１２の厚さを設計値通りの厚さに容易に制御することができる。 - 特許庁

A cardboard 12 is adhered entirely to both sides of a synthetic resin foam plate 11 having a thickness of 3.5 to 6.5 mm using an adhesive with a skin layer 11a and a bonded layer 11b on a face side and an intermediate portion, respectively so that the total thickness is ≤9 mm.例文帳に追加

表面にスキン層１１ａ、中間部に融着層１１ｂを有する厚さ３．５ｍｍ乃至６．５ｍｍの合成樹脂発泡板１１の両面に、接着剤によって板紙１２を全面接着して、総厚が９ｍｍ以下とした。 - 特許庁

Measuring of the thickness of the surface deterioration layer is performed, by etching the torn surface of the resist mask by an isoamyl acetate, after making a non-exposed resist with a surface deterioration layer as a convex part, and making a derotate section conspicuous as a recess, the thickness of the convex part of the section is measured by SEM.例文帳に追加

表面変質層の膜厚の測定は、レジストマスクの破断面を酢酸イソアミルでエッチングし、表面変質層を凸部、未露光レジストを凹部として断面に顕彰化させた後、ＳＥＭで断面の凸部の厚さを測定する。 - 特許庁

To provide a record display medium which keeps up constant thickness of a liquid crystal layer, prevents deviation in the thickness of the liquid crystal layer and in concentration of a liquid crystal compound (a coloring state) due to a flow of the liquid crystal compound and with which uniform and beautiful display is feasible.例文帳に追加

液晶層の厚みを一定に保持でき、液晶化合物の流動による液晶層の厚みや液晶化合物濃度（発色状態）の偏りを防ぐことができ、均一で綺麗な表示が可能な記録表示媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method of joining two members so that the thickness of the joined layer is substantially uniform using solder or a filler metal and the like, and also to provide a joined body having a substantially uniform thickness of the joined layer using a joining material such as the solder or the filler metal and the like.例文帳に追加

半田またはろう材等を用いて、接合層の厚さが略均一になるように二つの部材を接合する方法および接合層の厚さが略均一な半田またはろう材等の接合材を用いた接合体を提供する。 - 特許庁

In an organic electroluminescent element having one or more of organic layer between positive and negative electrodes, the organic electroluminescent element has a thickness of the organic layer less than 2000 Åand a thickness of the negative electrode satisfies conditions expressed by an expression 400 [Å]≤L≤n×0.8 [Å].例文帳に追加

陰極と陽極との間に１層以上の有機層を有する有機ＥＬ素子において、有機層の厚さが２０００Å未満であり、かつ、陰極の厚さＬ［Å］が下記の式で示される条件を満たす有機ＥＬ素子とする。 - 特許庁

The semiconductor device, having a bottom gate type thin film transistor, comprises a semiconductor layer 4 disposed at a lower part of a source/drain electrode 6 and having a thickness t2 smaller than a thickness t1 of the layer 4, at a gap between the source and drain electrodes 6.例文帳に追加

ボトムゲート型の薄膜トランジスタを有する半導体装置においてソース・ドレイン電極６の下部にある半導体層４の層厚ｔ２をソース・ドレイン電極６間のギャップ部にある半導体層４の層厚ｔ１よりも薄くする。 - 特許庁

In addition, when an average thickness of the coating layer 12 in the side of the inner peripheral face of a magnet body 11 is Di[μm] and an average thickness of the coating layer 12 in the side of the outer peripheral face of the magnet body 11 is Do[μm], relation of Di>Do is satisfied.例文帳に追加

また、磁石本体１１の内周面側における被覆層１２の平均厚さをＤｉ［μｍ］、磁石本体１１の外周面側における被覆層１２の平均厚さをＤｏ［μｍ］としたとき、Ｄｉ＞Ｄｏの関係を満足する。 - 特許庁

To form a coating such as a luminescent layer having uniform thickness in each section by eliminating thickness irregularity of the coating conventionally generated when the luminescent layer or the like of an EL element is formed of a coating liquid for every section surrounded by barrier ribs on a substrate.例文帳に追加

基板上の隔壁で囲まれた区域毎に、ＥＬ素子の発光層等を塗液で形成する際、従来、生じていた塗膜の厚みムラを解消し、各区域内に厚みの均一な発光層等の塗膜を形成することを課題とする。 - 特許庁

The joining part 2 is formed by arranging an Ag/Cu-based brazing material 5 having the thickness of 0.01 to 0.1 mm between an electrolytic nickel plating layer 6, by applying the electrolytic nickel plating layer 6 having the thickness of 3 μm or more to an interface surface of the opposed stainless sheets 1.例文帳に追加

接合部分２は、対向するステンレスシート１の接合面に厚さ３μｍ以上の電解ニッケルメッキ層６を施し、更に電解ニッケルメッキ層６間に厚さ０．０１〜０．１ｍｍのＡｇ／Ｃｕ系ロウ材５を配置したものである。 - 特許庁

Since the light reflectance relating to the visible light is different by thickness of the layer 14, the light reflectance is regulated to be 50% or less by adjusting the thickness, that is, by thinning a film forming the layer 14.例文帳に追加

可視光に対する光反射率は金属電極層１４の厚さにより異なり、厚さを調節することにより、すなわち金属電極層１４を形成している膜を薄膜化することにより光反射率が５０％以下となる。 - 特許庁

The thickness of the free magnetic layer is 30-100 Å and the ratio of the thickness of the Co or Co alloy film to that of the free magnetic layer is >0 to 0.5.例文帳に追加

フリー磁性層５をＮｉＦｅ合金膜で形成した場合、前記フリー磁性層の膜厚を３０〜１００オングストロームで形成し、ＮｉＦｅ合金膜のＮｉ組成比を適性に選択すれば、磁歪を—２×１０^-6〜１×１０^-6の範囲内に収めることができる。 - 特許庁

The first and the third layer 10a, 10c which are the same temperature sensitive magnetic material are designed to have the same thickness while the second layer 10b is designed to have the thickness to minimize thermal deformation due to difference in thermal expansion coefficient.例文帳に追加

同じ感温磁性材である第１の層１０ａおよび第３の層１０ｃとは、同じ厚さ寸法とし、それに対する第２の層１０ｂの厚さ寸法も、熱膨張率の違いに起因する熱変形を最小限とするべく設定する。 - 特許庁

The reflection plane is not only deformed according to thickness distribution of the layer 32, but deformed by balance of stress distribution corresponding to thickness distribution of the layer 32 and internal stress of each film generated at the time of manufacturing.例文帳に追加

反射面は膜厚調整層３２の厚み分布に従って変形しているだけではなく、膜厚調整層３２の厚み分布に対応する応力分布と、作製時に発生した各膜の内部応力とのバランスによって変形している。 - 特許庁

Total sum of 0.2% strength and thickness of each of the one or more layers constituting the first wiring layer 52 is smaller than total sum of 0.2% strength and thickness of each of the one or more layers constituting the second wiring layer 56.例文帳に追加

第１配線層５２を構成する前記１又は複数の層のそれぞれの０．２％耐力と厚みの積の合計が、第２配線層５６を構成する前記１又は複数の層のそれぞれの０．２％耐力と厚みの積の合計よりも小さい。 - 特許庁

Electromotive force generated by temperature difference between the insulating substrates is measured by a voltmeter 23, and a thickness of a wear lining layer is detected on the basis of the measured electromotive force based on the predetermined relationship of the thickness of the wear lining layer 2 and the electromotive force.例文帳に追加

絶縁基板間の温度差によって発生する起電力を電圧計２３によって測定し、予め求めておいたウエアライニング層２の厚みと起電力との関係から、測定した起電力に基づいて、ウエアライニング層の厚みを検出する。 - 特許庁

The separation preventive layer 19 is formed of SiO_2 with an atomic density of ≥6.1×10^22 atoms/cm^3, and the thickness thereof is sufficiently small, for example, ≤1/2, preferably ≤1/10 of the thickness of the dielectric layer 20.例文帳に追加

剥離防止層１９は、例えば原子密度が６．１×１０^22ａｔｏｍｓ／ｃｍ^3 以上であるＳｉＯ_2 からなり、その厚みは誘電体層２０の厚みの２分の１以下、好ましくは１０分の１以下と十分に薄く形成される。 - 特許庁

The panel thickness T1 of the expansion panel part 3 is formed so as to be made larger than the panel thickness T2 of the solid panel part 9 and an erected wall 21 comprising a solid layer 20 erected in the panel thickness direction is formed to the boundary of the expansion panel part 3 and the solid panel part 9.例文帳に追加

膨張パネル部３の板厚Ｔ１をソリッドパネル部９の板厚Ｔ２より厚く形成するとともに、膨張パネル部３のソリッドパネル部９との境界に板厚方向に起立するソリッド層２０からなる起立壁２１を形成する。 - 特許庁

To prevent increase in substrate thickness, as much as possible, while making it possible to form each of first and second wirings of different thickness in one-time patterning on a wiring substrate having wirings of different thickness on one surface of a wiring formation layer.例文帳に追加

配線形成層の一面上に異なる厚さの配線を有する配線基板において、厚さの異なる第１の配線および第２の配線のそれぞれを１回のパターニングで形成可能なものとしつつ、基板厚さの増加を極力防止する。 - 特許庁

The liquid crystal layer 30 on the solid part 14a of the 1st electrode 14 has a 1st region having a 1st thickness d_1 and a 2nd thickness d_2 less than the 1st thickness d_1 and also has a 2nd region located nearby the non-solid part 14b.例文帳に追加

第１電極１４の中実部１４ａ上の液晶層３０は、第１の厚さｄ_1を有する第１の領域と、第１の厚さｄ_1よりも小さい第２の厚さｄ_2を有し、非中実部１４ｂの近傍に位置する第２の領域とを有する。 - 特許庁

Then at least any of the type and thickness of the insulating film, the thickness of the electrode film on the insulating film, and the type and thickness of the clad layer on side of the ridge are set so that a combination of Δn and W satisfies the above three equations.例文帳に追加

次いで、ΔｎとＷの組み合わせが、上記３式を満足するように、絶縁膜の膜種及び膜厚、絶縁膜上の電極膜の膜厚、並びにリッジ脇のクラッド層の膜種及び膜厚の少なくともいずれかを設定する。 - 特許庁

In some embodiments, the thickness of the cavity is maintained constant by incorporating an etching stop layer into the device and then thinning the layer of the device by a process which terminates on the etch-stop layer.例文帳に追加

幾つかの実施形態においは、当該装置にエッチング停止層を組込み、次いで該エッチング停止層上で停止するプロセスによって、当該装置の層を薄膜化することにより、前記キャビティの厚さは一定に維持される。 - 特許庁

Further, an insulation layer to make thickness of the liquid crystal layer of the transmissive display region and that of the reflective display region mutually different is formed on the first substrate, and a recessed part is formed on the insulation layer corresponding to the transmissive display region.例文帳に追加

また、透過表示領域と反射表示領域とで液晶層の厚みを異ならせるための絶縁層が第１基板に形成され、透過表示領域に対応して絶縁層に凹部が形成されている。 - 特許庁

An elastic layer is provided in at least one layer of the image translucent film, the International rubber hardness (M method) of materials for that elastic layer is ≤75 IRHD, the thickness is ≥20 μm, preferably ≥40 μm.例文帳に追加

画像透光性フィルムの少なくとも一層に弾性層を設け、その弾性層材料の国際ゴム硬度（Ｍ法）を７５ＩＲＨＤ以下とし、その厚み２０μｍ以上、好ましくは４０μｍ以上とする。 - 特許庁

This light emitting element has a luminescent layer or a plurality of organic layers containing the luminescent layer between a pair of electrodes, a thickness of the luminescent layer is 300 nm or more, and a voltage for providing 10 cd/m^2 of light emission is 5 V or less.例文帳に追加

一対の電極間に、発光層又は発光層を含む複数の有機層を有し、発光層の膜厚が300nm以上であり、かつ10cd/m^2の発光が得られる電圧が５V以下であることを特徴とする発光素子。 - 特許庁

To provide a developing device which can maintain uniformity of a developer layer for a long period by forming the developer layer which is free of layer thickness unevenness and electrostatic charging unevenness axially and circumferentially on a developer carrier.例文帳に追加

現像剤担持体上において、軸方向および周方向に対して層厚ムラおよび帯電ムラのない現像剤層の形成を可能にし、長期に亘りその均一性を維持できる現像装置を提供する。 - 特許庁

Elastic members 32 for reducing the variation of the thickness of the gas diffusion layer 30 caused by the swelling of the electrolyte layer 23 forming the electrolyte/electrode assembly 20 are arranged on the gas diffusion layer 30 at equal intervals.例文帳に追加

ガス拡散層３０には、電解質・電極接合体２０を構成する電解質層２３の膨潤によるガス拡散層３０の層厚の変化を緩和する弾性部材３２が等間隔に設けられている。 - 特許庁

A projection amount of the nitride film from the side wall of the silicon layer or the second silicon layer further becomes lesser than the thickness of the nitride film to structurally eliminate breakage of the end of the nitride film caused by stress when the oxide film layer is formed.例文帳に追加

さらに、シリコン層または第２のシリコン層の側壁からの窒化膜の突起量を、窒化膜の膜厚よりも小さくし、酸化膜層の形成時の応力により窒化膜端部が折れることが構造的になくす。 - 特許庁

Even though this intermediate plating layer has a thickness between 0.05 and 1.0 μm, a sufficient dam effect can be obtained, and it is possible to prevent tin, indium, etc., contained in the overlay layer 15 from dispersing into the alloy layer 13.例文帳に追加

これにより、中間めっき層を０．０５〜１．０μｍとしても、十分なダム効果を得ることができ、オーバレイ層１５中の錫やインジウム等が銅基軸受合金層１３に拡散しないようにすることができた。 - 特許庁

At the surface layer part of the epitaxial layer 3, an N^+ type source region 9 and a body contact region 10 which penetrates the center part of the N^+ type source region 9 along the layer thickness are formed between mutually adjacent trenches 6.例文帳に追加

エピタキシャル層３の表層部には、互いに隣り合うトレンチ６間において、Ｎ^+型のソース領域９、およびソース領域９の中央部を層厚方向に貫通するボディコンタクト領域１０が形成されている。 - 特許庁

The glass cap has a through hole penetrating in the thickness direction and have a coaxial structure by concentrically forming a metal layer 22, a dielectric layer 23 and a signal layer 24 from an internal circumference surface to the center of the through hole.例文帳に追加

ガラスキャップは、厚さ方向に貫通する貫通孔２１を有し、その貫通孔の内周面から中心に向かって同心状に、金属層２２，絶縁層２３，信号層２４を形成し、同軸構造をとる。 - 特許庁

The base layer 71 and the protecting layer 73 of the flexible substrate 7 have the equal thickness, and a portion corresponding to a neutral axis of portions 76, 77 folded into round corners in the flexible substrate 7 is the wiring layer 72.例文帳に追加

可撓性基板７のベース層７１および保護層７３が等しい厚さであり、可撓性基板７で角丸に折り曲げられている部分７６、７７の中立軸に相当する部分は配線層７２である。 - 特許庁

When representing the oscillating wavelength of the laser beam as λ, an optical film thickness T of the summation of the contacting layer 114 and an uppermost layer 112c of the upper DBR which is contacted with the contacting layer 114 is made smaller than λ/4.例文帳に追加

レーザ光の発振波長をλとしたとき、コンタクト層１１４と当該コンタクト層１１４が接する上部ＤＢＲの最上膜１１２ｃとの光学膜厚Ｔがλ／４よりも小さいことを特徴とする。 - 特許庁

The developer roller 107 is a roller coated with an elastic rubber layer 108, and the elastic rubber layer 108 is set to a hardness capable of preventing the toner from being deteriorated by pressure concentration in the abutting part on a layer thickness regulating member 110.例文帳に追加

現像ローラ１０７は、弾性ゴム層１０８を被覆したローラで、弾性ゴム層１０８は、層厚規制部材１１０との当接部での圧力集中によるトナー劣化を防止できる硬度に設定する。 - 特許庁

A masking layer 40 for suppressing damage of the overhanging part 14 of the liquid crystal panel 10 is laminated on the self-adhesive layer 20 so that the thickness of the masking layer 40 corresponds to that of a color filter 11 of the liquid crystal panel 10.例文帳に追加

そして、自己粘着層２０に、液晶パネル１０のオーバーハング部１４の損傷を抑制するマスキング層４０を積層してその厚さを液晶パネル１０のカラーフィルタ１１の厚さに対応させる。 - 特許庁

To provide a resin multilayer substrate such that sufficient adhesion between a first resin layer and a second resin layer is secured and the thickness of the second resin layer is made thin, and a method of manufacturing the resin multilayer substrate.例文帳に追加

本発明は、第１樹脂層と第２樹脂層との密着性を十分に確保し、第２樹脂層の厚みを薄くすることが可能な樹脂多層基板及び該樹脂多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an overprint card allowing improvement of whiteness without thickening a film thickness of a concealed layer, in the overprint card applied with printing of a white layer on the concealed layer concealing a magnetic stripe.例文帳に追加

磁気ストライプを隠蔽する隠蔽層の上に白色層の印刷を施したオーバープリントカードにおいて隠蔽層の膜厚を厚くすることなく、白色度を向上させることの可能なオーバープリントカードを提供すること。 - 特許庁