「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(84ページ目) - Weblio英語例文検索

An adsorbent filling layer is formed by filling a periphery 22 of a heat medium tube with an adsorbent 24, wherein the thickness L [mm] of the adsorbent filling layer is set to the range represented by 0.5≤L≤6.例文帳に追加

熱媒体管の周辺部２２に吸着剤２４が充填されて形成される吸着剤充填層の厚さＬ［ｍｍ］は、０．５≦Ｌ≦６の範囲に設定される。 - 特許庁

To provide a friction cladding method and a friction cladding device by which the width of a formed cladding layer is uniformized and the variation of the thickness of the cladding layer is decreased.例文帳に追加

形成される肉盛層の幅を一定にし、該肉盛層の厚みのバラつきを低減することが可能な摩擦肉盛法及び摩擦肉盛装置を提供する。 - 特許庁

To manage thickness of a film on a resin layer to be molded with high precision in a process for molding the resin layer on a surface of a glass member being a base material of an optical element integrally.例文帳に追加

光学素子の母材であるガラス部材の表面に樹脂層を一体成形する工程において、成形される樹脂層の膜厚を高精度に管理する。 - 特許庁

Most of uneven thickness is eliminated by the first abrasive grain layer 43L, and subsequently, the grinding wheel part 4 is slid in the axial direction to perform finishing with the second abrasive grain layer 43R.例文帳に追加

そして、第１砥粒層４３Ｌで大部分の偏肉を除去し、次いで砥石部４を軸方向に対しスライドさせて第２砥粒層４３Ｒで仕上げを行う。 - 特許庁

The incline composition base layer 4 is an inclined composition GaAs1-xSbx layer which has a carrier concentration of 5.0×1019/cm3, a band gap energy ΔE of 8 kV and a thickness of 50 nm.例文帳に追加

組成傾斜型ベース層４は、キャリア濃度が５．０×１０^19／cm^3 、バンドギャップエネルギーΔＥが８ｋＶで、膜厚が５０ｎｍの組成傾斜型ＧａＡｓ_1-X Ｓｂ_X 層である。 - 特許庁

Furthermore, it is preferable that the compressible layer has a hardness of 50 to 90JIS-A, the separate layer has a hardness of 50JIS-A to 80JIS-D and a thickness of 0.05 mm or more.例文帳に追加

また、圧縮性層の硬度は５０〜９０ＪＩＳ−Ａであり、セパレート層の硬度は５０ＪＩＳ−Ａ〜８０ＪＩＳ−Ｄで、厚さが０．０５ｍｍ以上であることが好ましい。 - 特許庁

The light transmissive image has 100-800 μm thickness as a whole including a superimposing image formed from the first image forming layer (4) and the second image forming layer (5).例文帳に追加

光透過性イメージは、第１イメージ形成層（４）と第２イメージ形成層（５）とから形成された重畳イメージを含み、全体として１００〜８００μｍの厚さを有する。 - 特許庁

A refractive index Δn of the liquid crystal material forming the liquid crystal layer and the thickness of the liquid crystal layer (d) are selected, so as to make their product Δn.d into 600-900 nm.例文帳に追加

液晶層を形成する液晶材料の屈折率Δｎと液晶層の厚みｄとを、その積Δｎ・ｄが６００ｎｍ〜９００ｎｍとなるように選択する。 - 特許庁

When the ratio of X/t is less than 0.9, the thickness t of the coat layer can be secured relative to the differential value X, securing the endurance of the coat layer.例文帳に追加

この比Ｘ／ｔが０．９未満では、差分値Ｘに対して相対的にコート層の厚さｔを確保可能であるため、コート層の耐久性を確保することができる。 - 特許庁

Preferably, the clay-like mineral has a multi-layered structure, has an average diameter of 100 to 500 nm, when seen from the layer direction, and has each layer thickness of 0.8 to 1.2 nm.例文帳に追加

好ましくは、粘土状鉱物は多層構造を有し、層方向から見たときの平均直径が１００〜５００ｎｍであり、それぞれの層厚が０．８〜１．２ｎｍである。 - 特許庁

The absorption layer 2 is formed at a constant thickness along the surface contour of the reflection layer 1, with a protruding part 2a composed of a part of a spherical shell distributed.例文帳に追加

吸収層２は、上記反射層１の表面形状に沿って一定の厚みに形成され、球殻の一部からなる凸部２ａが分布形成されている。 - 特許庁

Assuming that the average particle diameter is D(nm), and that thickness of the protection layer 140 is TH (nm), the protection layer 140 is formed to satisfy an inequality: 20≤TH/D≤500.例文帳に追加

また、保護層１４０は、平均粒子径をＤ（ｎｍ）、保護層１４０の厚みをＴＨ（ｎｍ）としたとき、２０≦ＴＨ／Ｄ≦５００となる形態とされている。 - 特許庁

To obtain a coated plastic optical fiber having an excellent dispersion characteristic of an additive and a protective layer of a constant thickness by forming a colored protective layer on a plastic optical fiber (POF).例文帳に追加

プラスチック光ファイバ（ＰＯＦ）に着色した保護層を形成し、添加剤の分散性に優れ且つ保護層の厚みが均一なプラスチック光ファイバ心線を得る。 - 特許庁

To prevent increase in resistance and the occurrence of disconnection due to the thickness reduction of a conductive layer in the contact etching section of the conductive layer, which becomes the source, drain, and channel sections of a TFT(thin-film transistor).例文帳に追加

ＴＦＴのソース・ドレイン・チャンネル部分となる導電層のコンタクトエッチング部において、導電層の薄膜化による抵抗の増大や断線の発生を防止する。 - 特許庁

To provide an organic EL element capable of remarkably increasing the thickness of an organic material layer, and allowing the organic material layer even in a liquid state to be formed under normal pressure.例文帳に追加

有機物層の層厚を大幅に大にすることができ、この有機物層を常圧下で液体状態でも成膜することができる有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated optical film capable of suppressing variation of retardation value Rth of the thickness direction as a whole even if retardation value of the thickness direction of each layer varies due to temperature change.例文帳に追加

温度変化により各層の厚み方向のレターデーション値が変化しても、全体として厚み方向のレターデーション値Ｒｔｈの変化を抑制できる積層光学フィルム等の提供。 - 特許庁

The thickness T of a part where an opening part is formed and the thickness R of a part where no opening part is formed in a liquid crystal layer 1 are specified to satisfy the relational formula R<T≤2R.例文帳に追加

液晶層１は、開口部の設けられている部分の厚みをＴとし、開口部の設けられていない部分の厚みをＲとすると、Ｒ＜Ｔ≦２Ｒの関係とする。 - 特許庁

For the purpose of enhancing the uniformity of the film thickness of the alignment layer 107, the thickness of coated films P1-P5 for every one coating is suppressed to be ≤20 nm and the coated films are pre-baked after coating.例文帳に追加

配向膜１０７の膜厚の均一性を向上させるために、１回当たりの塗布による塗布膜Ｐ１〜Ｐ５を２０ｎｍ以下に抑え、かつ塗布後にプリベイクを行う。 - 特許庁

The plate-like compound powder contains a plate-like compound of which the ratio of end surface thickness to central thickness of a layer surface is 0.9-1.0 by 60% or more.例文帳に追加

端面の厚み／層面中央部の厚みが０．９〜１．０である板状化合物を６０％以上含むことを特徴とする板状化合物粉体及びその製造方法。 - 特許庁

The thickness of the ferrite mixed resin layer is made constant on the whole periphery of a cable cross section, and of the internal peripheral surface, the thickness of a portion in contact with each signal line is made 1/2 or less.例文帳に追加

そして、フェライト混合樹脂層の厚さをケーブル断面について全周で一定化するとともに、その内周面のうち各信号線が接触する部分は１／２以下にする。 - 特許庁

The film form sound absorbing layer 3 is formed from a non-organic felt etc. of 3 mm in thickness and 342 g/m^2 in surface density, or 5 mm in thickness and 570 g/m^2 in surface density.例文帳に追加

膜状吸音層３は、厚さが３ｍｍで面密度が３４２ｇ／ｍ^２の無機フェルト若しくは厚さが５ｍｍで面密度が５７０ｇ／ｍ^２の無機フェルトなどで形成されている。 - 特許庁

A resist 7 is formed on a printed board 1 with a predetermined thickness excluding an electrode opposing part 1a (Fig.a), and on the resist 7, a silk printing layer 9 is formed with a predetermined thickness (Fig.b).例文帳に追加

プリント基板１上に電極対向部１ａを除いてレジスト７を所定の厚みで形成し（図（ａ））、レジスト７上にシルク印刷層９を所定の厚みで形成する（図（ｂ））。 - 特許庁

A film thickness detection sensor 50 detects the film thickness of the thin developer layer formed on a liquid carrying roller 41 at least at every timing of the liquid concentration detection by an optical sensor 45.例文帳に追加

膜厚検出センサ５０は、液担持ローラ４１上に形成された現像液薄層の膜厚を少なくとも光学センサ４５による液濃度検出のタイミングごとに検出する。 - 特許庁

The thickness of the metal mask 10 is set to a thickness so that etching of an opening 22 reaches a source electrode 1 at the same time as etching in the opening 23 almost reaches a semiconductor device formation layer 4.例文帳に追加

メタルマスク１０の厚さは、開口２３内のエッチングが半導体デバイス形成層４にほぼ到達すると同時に、開口２２のエッチングがソース電極１に到達する厚さに設定する。 - 特許庁

To form gate insulating films which are different in film thickness on the same substrate and also lower reduction in thickness of semiconductor layer, while controlling the deterioration in quality of a gate insulating film interface.例文帳に追加

ゲート絶縁膜界面の品質の劣化を抑制しつつ、膜厚の異なるゲート絶縁膜を同一基板上に形成するとともに、半導体層の薄膜化を低減させる。 - 特許庁

The polishing pad 20 includes an elastic sheet 1 buffed to be uniform in thickness and a surface layer 11 coated in an approximately uniform thickness on a buffed surface of the sheet 1.例文帳に追加

研磨パッド２０は、厚みが一様となるようにバフ処理された弾性シート１および弾性シート１のバフ処理面側に略均一な厚みで塗着された表面層１１を備えている。 - 特許庁

Micro lenses 3 are formed at the surface part of one side in a thickness direction of a substrate 2 and a photosensitive layer 4 made of a photosensitive material is formed at the surface part of another side in the thickness direction of the substrate 2.例文帳に追加

基板２の厚み方向一方側の表面部にマイクロレンズ３が形成され、厚み方向他方側の表面部に感光性材料から成る感光層４が形成される。 - 特許庁

To provide a method for electrospinning polymer fibers to create a polymer fiber material with large thickness and smaller varied thickness or uneveness of a deposited layer on counter electrodes; and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

対向電極の厚さが大きく、しかも対向電極の厚さ分布（ムラ）も小さいポリマー繊維体を製造することができる電界紡糸方法及び電界紡糸装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, the mounting reliability of the semiconductor device can be secured, because the thickness of the adhesive layer can be maintained within the appropriate thickness range in a state where the semiconductor element 2 is bonded to the bumper 4.例文帳に追加

これにより、半導体素子２をバンパ４に接着した状態において、接着層の厚みを適正厚み範囲に保つことができ、実装信頼性を確保することができる。 - 特許庁

Thereby, Mr×t same as before can be secured even if thickness t2 of the hard bias layer 26 is reduced in order to reduce total thickness t1 of the both side lamination parts 22.例文帳に追加

これにより両側積層部２２のトータル厚ｔ１を薄くするために、ハードバイアス層２６の膜厚ｔ２を薄くしても、従来と同等以上のＭｒ×ｔを確保できる。 - 特許庁

A thermoplastic resin layer 25 of the wall surface films 3a, 3b has thickness of not less than 25 μm, and each of the shape retaining members 12a, 12b has a thickness of not less than 0.4 to 0.6 mm.例文帳に追加

壁面フィルム３ａ 、３ｂ内面の熱可塑性樹脂層２５の厚さは２５μｍ以上であり、各形状保持部材１２ａ、１２ｂの厚さは０．４ｍｍ以上０．６ｍｍ以下である。 - 特許庁

To obtain a high inductance by connecting ends of adjacent coils in an element and providing a nonmagnetic layer having a thickness not exceeding the thickness between outermost conductor layers.例文帳に追加

大電流通電時でも、所定の周波数範囲内で、高いインダクタンスが得られ、かつ電流重畳によるインダクタンス低下の少ない積層型インダクタンス素子を提供すること。 - 特許庁

The lubricating coating layer is formed with a thickness t changed according to a space (a) between a pair of sidewall parts 47L, the thickness (b) of the collar part 53a, and the axial width (c) of the drive roller 56L.例文帳に追加

一対の側壁部４７Ｌの間隔ａと、鍔部５３ａの厚さｂと、ドライブローラ５６Ｌの軸線方向幅ｃとに応じて厚さｔを変えた潤滑性皮膜層を形成する。 - 特許庁

To provide the ranges of composition x and thickness of two well layers of a coupled quantum well and the ranges of composition y and thickness of a coupled layer in a coupled quantum well structure.例文帳に追加

本発明は、結合量子井戸構造において、結合量子井戸の二つの井戸層の組成x及び厚さの範囲、結合層の組成y及び厚さの範囲を提供することを課題とする。 - 特許庁

To prevent cracks of a power generation cell during power generation by improving strength of the power generation cell, and improve power generation performance by thinning a thickness dimension of a solid electrolyte layer rather than conventional thickness dimension.例文帳に追加

発電セルの強度を向上させて、発電中の発電セルの割れを防止するとともに、固体電解質層の厚さ寸法を従来よりも薄くして発電性能を向上させる。 - 特許庁

The thickness of a chip-preventing layer 4, which is formed on the rear surface of the piezoelectric vibrator 1 by an adhesive containing fine particles, is regulated by the thickness of the like of FPCs 3a, 3b for signal.例文帳に追加

圧電振動子１の下表面に微粒子を含有した接着剤により形成されたチッピング防止層４の厚さを、信号用ＦＰＣ３ａ、３ｂの厚さ等により規制する。 - 特許庁

To provide a laminated ceramic electronic component as a laminated ceramic capacitor, which is long in means life, even in the case where the thickness of a ceramic layer is formed small in a thickness thinner than 3 μm and is superior in reliability.例文帳に追加

セラミック層の厚みが３μｍ以下と薄くなった場合でも、平均寿命が長く、信頼性に優れた積層セラミックコンデンサのような積層セラミック電子部品を提供する。 - 特許庁

The insect repelling sheet having excellent handleability and processability can be produced by setting the thickness of the intermediate layer 3 to ≥50% of the total thickness of the insect repelling sheet 1.例文帳に追加

中間層３の厚みが防虫シート１全体の厚みの５０％以上である構成を採用することにより、取扱性と加工性に優れたものとすることができる。 - 特許庁

An operation characteristic parameter in the amount of displacement δ of the actuator unit is calculated based on the actuator thickness t_0, electrostatic capacitance C, and active layer thickness t_1.例文帳に追加

アクチュエータ厚ｔ_０、静電容量Ｃ及び活性層厚ｔ_１に基づいてアクチュエータユニットの変位量δに関する動作特性パラメータを算出する（動作特性パラメータ算出工程）。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor substrate which can control a thin BOX film thickness, ensure high film thickness uniformity, and make an SOI layer thin.例文帳に追加

薄いＢＯＸ膜厚を制御できると共に、高い膜厚均一性も確保することができ、しかも、ＳＯＩ層を薄くすることが可能な半導体基板の作製方法を提供する。 - 特許庁

The thickness not larger than the longitudinal stop range of the helium ion corresponding to the bias voltage to be used in the step (b) is selected as the thickness of the carbon layer deposited in the step (a).例文帳に追加

ステップ（ａ）で堆積させる炭素層の厚みとしてステップ（ｂ）で使用されるバイアス電圧に対応するヘリウムイオンの縦方向ストップレンジより大きくない厚みが選択される。 - 特許庁

In the case of the crystal growth of the gallium nitride compound semiconductor on the sapphire substrate, the thickness of the sapphire substrate is increased to the thickness of the crystal layer which performs the crystal growth.例文帳に追加

また、サファイア基板上での窒化ガリウム系化合物半導体の結晶成長に際しては、結晶成長させる結晶層の厚さに対してサファイア基板の厚さを厚くする。 - 特許庁

The thermal spray coatings 4A and 4B comprise first layers 2A and 2B with a thickness of 10 to 350 μm, cracks, and a secondary layer 3A with a thickness of 10 to 100 μm.例文帳に追加

溶射膜４Ａ、４Ｂが、厚さ１０μｍ以上、３５０μｍ以下の第一の層２Ａ、２Ｂと、クラックを含み、厚さ１０μｍ以上、１００μｍ以下の第二の層３Ａとを含む。 - 特許庁

The wiring width of the digit line 5 is shown by W2 and a distance between a center in the thickness direction of the bit line 10 and the center in the thickness direction of the free layer for the MTJ element 8 is shown by L2.例文帳に追加

ディジット線５の配線幅をＷ２とし、ビット線１０の厚み方向中心からＭＴＪ素子８のフリー層の厚み方向中心までの距離をＬ２とする。 - 特許庁

Consequently, the mounting reliability can be secured, because the thickness of the adhesive layer can be maintained within the appropriate thickness range in a state where the semiconductor element 2 is bonded to the bumper 4.例文帳に追加

これにより、半導体素子２をバンパ４に接着した状態において、接着層の厚みを適正厚み範囲に保つことができ、実装信頼性を確保することができる。 - 特許庁