| 意味 | 例文 |
or Lessの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 24745件
A maximum outside diameter D of the blade edge part 11 is set to 1 mm or less and a ratio L/D between an effective blade length L and the maximum outside diameter D to 5 or more.例文帳に追加
刃先部11の最大外径Dが1mm以下、かつ有効刃長Lと最大外径Dとの比L/Dが5以上とした。 - 特許庁
This two-dimensional surface plasmon resonator provides a reflected image having distortion of 4% or less from a square area of 25 mm^2 or more on a chip.例文帳に追加
チップ上の25mm^2以上の正方形領域からの反射像の歪みが4%以下である2次元表面プラズモン共鳴装置。 - 特許庁
Therefore, the setting operation can be performed quickly with less influence from the wiring resistance or parasitic cross capacitance in the wiring or the like.例文帳に追加
したがって、配線などに寄生する交差容量や配線抵抗の影響を受けにくくして、すばやく、設定動作が行うことが出来る。 - 特許庁
The pollen scattering inhibitor for the cypress, the white birch and the alder is composed of a sorbitan oleic acid ester or a sorbitan linoleic acid ester which has an HLB value of 5 or less.例文帳に追加
HLB値が5以下のソルビタンオレイン酸エステルまたはソルビタンリノール酸エステルからなるヒノキ、シラカンバ、またはハンノキ用花粉飛散防止剤。 - 特許庁
A pressure sensor 123 or an elastic member 102 is provided in a movable part of a robot whose clearance between a body part 101 becomes 12 mm or less.例文帳に追加
ロボットの可動部の胴部(101)との隙間が12mm以下になる部分に、圧力センサ(123)あるいは弾性部材(102)を備える。 - 特許庁
A distance between the tops (2a and 8a) of the electrodes 2 and 8 and the front face 1 of the substrate body H or the rear face 10 is 19 μm or less.例文帳に追加
前記電極2,8の頂部(2a,8a)と基板本体Hの表面1または裏面10との距離は、19μm以下である。 - 特許庁
GaAs is used for a base layer 7 and InGaP with an In mixed crystal ratio of 0.49 or more and 0.56 or less for an emitter layer 6 to construct a heterojunction.例文帳に追加
ベース層7にGaAs、エミッタ層6にIn混晶比が0.49以上0.56以下のInGaPを使用し、ヘテロ接合を構成する。 - 特許庁
The slit grooves 2 are processed by grinding or cutting a metal mold raw material by using the rotary tool having the thickness of 150 μm or less.例文帳に追加
スリット溝2の加工は,150μm以下の厚みを有する回転工具を用いて金型素材を研削又は切削することにより行う。 - 特許庁
The passive coating of a film thickness of 4 nm or less is formed by the immersion of stainless steel in a nonoxidizing acid solution of hydrochloric acid, sulfuric acid or the like.例文帳に追加
膜厚:4nm以下の不動態皮膜は、塩酸、硫酸等の非酸化性酸液にステンレス鋼を浸漬することにより形成される。 - 特許庁
(xlvii) Among trigger spark gaps with a cathode delay time of 15 microseconds or less , those with a peak current of 500 amperes or more 例文帳に追加
四十七 トリガー火花間げきであって、陽極遅延時間が一五マイクロ秒以下のもののうち、せん頭電流が五〇〇アンペア以上のもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
1. Freezing equipment capable of cooling hydrogen or helium to -250 degrees centigrade or less, and with a freezing capacity exceeding 150 watts 例文帳に追加
(一) 水素又はヘリウムを零下二五〇度以下の温度に冷却することができる冷凍装置であって、冷凍能力が一五〇ワットを超えるもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
Article 16 (1) Business operators who fail to report pursuant to the provisions of Article 14, or who file false reports shall be punished by a fine of 200,000 yen or less. 例文帳に追加
第十六条 第十四条の規定による報告をせず、又は虚偽の報告をした者は、二十万円以下の罰金に処する。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
A cemented carbide basic material containing tungsten carbide and cobalt and having content of cobalt of 4 mass % or more and 12 mass % or less is provided.例文帳に追加
炭化タングステンとコバルトとを含み、コバルトの含有量が4質量%以上12質量%以下である超硬合金基材を備える。 - 特許庁
This intermediate layer 330 includes zirconia containing a stabilizing agent less than 4.5 mol%, or zirconia comprises monoclinic crystals of 5% or higher.例文帳に追加
この中間層330は、4.5(mol%)未満の安定化剤を含むジルコニア、または5(%)以上の単斜晶からなるジルコニアを含有する。 - 特許庁
This composition for polishing has concentration is 10 ppb or less in either sodium ions in a composition for polishing or acetate ions.例文帳に追加
本発明の研磨用組成物は、研磨用組成物中のナトリウムイオン及び酢酸イオンのいずれか一方の濃度が10ppb以下である。 - 特許庁
The substrate layer has a thickness of 2 nm or more and 100 nm or less and includes an Al-containing intermediate layer that contains a nitride semiconductor containing Al.例文帳に追加
下地層は、2nm以上100nm以下の厚さを有し、Alを含む窒化物半導体を含むAl含有中間層を含む。 - 特許庁
The electric charge generating layer 4 includes metal having a work function of 3.0 eV or less, one kind or more of its compound and metal-doped molybdenum oxide.例文帳に追加
電荷発生層4は、仕事関数が3.0eV以下の金属およびその化合物の1種類以上と、金属ドープモリブデン酸化物とを含む。 - 特許庁
Article 70 When a fraction of less than one day remains as a result of reduction of the imprisonment with or without work, or misdemeanor imprisonment without work, such fraction shall be rounded down. 例文帳に追加
第七十条 懲役、禁錮又は拘留を減軽することにより一日に満たない端数が生じたときは、これを切り捨てる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
The width W of each of the plurality of regions S is 5 times or more and 100 times or less of an average particle diameter of the particles in a plan view of the display layer 400.例文帳に追加
表示層400の平面視にて、領域Sの幅Wは、粒子の平均粒子径の5倍以上100倍以下である。 - 特許庁
A distal end face 49 of the multi-core ferrule 14 is finished into a convex spherical face having radius of curvature R2 of 18.3 mm or more and 38.7 mm or less.例文帳に追加
多心フェルール14の先端面49を、曲率半径R2が18.3mm以上38.7mm以下の凸球面状に仕上げる。 - 特許庁
On the High-k film 412, an extremely thin silicon nitride film 413 of 10 Å or less is further formed by an ALD (atomic layer deposition) method or the like.例文帳に追加
このHigh−k膜412上にALD法などにより10Å以下の極薄のシリコン窒化膜413を形成する。 - 特許庁
The distance between one wall 1 and the other wall 2 is 35 mm or more, and the height of the solid plate-like rib 3 is 30 mm or less.例文帳に追加
一方の壁1と他方の壁2との距離は35mm以上であるとともに、中実板状のリブ3の高さは30mm以下である。 - 特許庁
The proportion Sb of particles with boundary specific gravity Db or lower to the whole composition obtained is equal to or less than the compounding ratio Ss of the raw material.例文帳に追加
また、得られた組成物全体に対する境界比重Db以下の粒子の割合Sbは、原料の配合比Ss以下である。 - 特許庁
Moreover, the angle θ2 made by the tip face TS2 of the noble metal chip 32 on the ground electrode side and the axial line CL1 is made 0° or more and 3° or less.例文帳に追加
また、接地電極側貴金属チップ32の先端面TS2と、軸線CL1とのなす角度θ2が0°以上3°以下とされる。 - 特許庁
An inter-frame motion detecting part 4 detects the existence of a motion between frames based on whether the difference between the frames is equal to or less than a setting value or not.例文帳に追加
フレーム間動き検出部4は、フレーム間差分が設定値以下であるか否かに基づいてフレーム間の動きの有無を検出する。 - 特許庁
In the step S2, the gas concentration judgement device judges whether or not the gas concentration measured by the gas detection sensor is a first set valuer or less.例文帳に追加
ステップS2において、ガス濃度判定装置は、ガス検知センサで測定したガス濃度が、第1設定値以下であるか否かを判定する。 - 特許庁
In this case, assuming that dielectric constant of the surrounding insulating member is 1.0, dielectric component of the insulating member 19 is set to 0.3 or more and 1.0 or less.例文帳に追加
この場合、絶縁部材19の誘電率は、周囲絶縁部材の誘電率を1としたときに0.3以上1以下に設定されている。 - 特許庁
(h) The rated coverage shall be such that it will not decrease to 90% or less of its original value because of the variation of antenna constant or power supply voltage. 例文帳に追加
チ 定格通達距離は、空中線定数又は電源電圧の変動等により九〇パーセント以下に低下しないものであること。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
(l) A rated coverage shall not be such that it will not decrease to 90% or less of its original value because of the variation of antenna constant or power supply voltage. 例文帳に追加
ヲ 定格通達距離は、空中線定数又は電源電圧の変動等により九〇パーセント以下に低下しないものであること。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
(w) The identification signal shall be composed of a pulse pair having a pulse pair interval of 90 microseconds or more to 110 microseconds or less. 例文帳に追加
ム 識別信号は、パルス対間隔が九〇マイクロ秒以上一一〇マイクロ秒以下である対のパルス対により構成されるものであること。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
a. When the angle formed by a glide path and a horizontal plane varies in excess of 0.925 times or more to 1.10 times or less of its set value 例文帳に追加
a グライドパスと水平面とのなす角の角度が設定値の〇・九二五倍以上一・一〇倍以下の範囲を超えて変動したとき。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
(h) The total of the number of pulse pair transmissions of a response signal and of random pulses shall be 700 or more to 2,790 or less per second. 例文帳に追加
チ 応答信号のパルス対の発射数とランダムパルス対の発射数との合計は、毎秒七〇〇以上二、七九〇以下であること。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
c. The effective intensity at a level 1 degree below the horizontal plane comprising the light source center shall be 750 candela or more to 1,125 candela or less. 例文帳に追加
c 光源の中心を含む水平面下一度における実効光度は、七百五十カンデラ以上千百二十五カンデラ以下であること。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
(vii) Preparations and other substances which contain Benzotrichloride and the content of Benzotrichloride is 0.1% or more and 0.5% or less in weight (of these substances). 例文帳に追加
七 ベンゾトリクロリドを含有する製剤その他の物で、ベンゾトリクロリドの含有量が重量の〇・一パーセント以上〇・五パーセント以下であるもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
By letting w be over 5/3 and be 1.7 or more and 2.3 or less, the phosphor becomes one that has excellent luminous brightness compared to a conventional phosphor.例文帳に追加
wを5/3を超えて1.7以上2.3以下とすることにより、従来の蛍光体に比べ、優れた発光輝度をもつ蛍光体となる。 - 特許庁
A layer formed of the heat insulating blocks with a compressive strength of 5 MPa or more and heat conductivity of 0.4 W/mK or less is laid on the base course.例文帳に追加
路盤に圧縮強さが5MPa以上でかつ熱伝導率が0.4W/mK以下である断熱性ブロックからなる層を敷設する。 - 特許庁
The fluorescent lamp 7 is the one with a rated power consumption of 55 W or more and 120 W or less, and housed in a translucent cover 8.例文帳に追加
蛍光ランプ7は定格消費電力が55W以上120W以下のものであり、透光性のカバー8内に収容されている。 - 特許庁
A maximum outside diameter D of the blade edge part 11 is set to 1 mm or less and a ratio between an effective blade length L and the maximum outside diameter D is set to 5 or more.例文帳に追加
刃先部11の最大外径Dが1mm以下、かつ有効刃長Lと最大外径Dとの比L/Dが5以上とした。 - 特許庁
Thus, when the height of the second chute 64 is set to the prescribed value or more, the height of the first chute 52 can be restrained to the prescribed value or less.例文帳に追加
このため、第2のシュート64の高さを所定以上にした場合に、第1のシュート52の高さを所定以下に抑えることができる。 - 特許庁
JIS durometer A hardness is 59° or more and 72° or less, and the hardness of the three layers is as follows; hardness of the surface layer 2C ≥ hardness of the intermediate layer 2B ≥ hardness of the base layer 2A.例文帳に追加
(a)JISデュロメータAの硬度が、59゜以上かつ72゜以下、かつ表層2Cの硬度≧中間層2Bの同≧ベース層2Aの同。 - 特許庁
In this game machine, in an advance announcement setting processing, a CPU confirms whether or not a rotation number counter is 4 or less when the game state is a probability fluctuation state.例文帳に追加
予告設定処理において、CPUは、遊技状態が確変状態であれば、回転数カウンタが4以下であるか否か確認する。 - 特許庁
It is preferable that a curvature radius TR1 of the tread face 9 is 190 mm or more and 210 mm or less, and satisfies the following formula; 0.43≤H1/H0≤0.45.例文帳に追加
好ましくは、上記トレッド面9の曲率半径TR1が190mm以上210mm以下であり、下記の数式を満たす。 - 特許庁
After this is retained at first at 40°C or more and at 80°C or less for 30 minutes to 180 minutes, furthermore high temperature drying is carried out at 120°C to 250°C.例文帳に追加
まず40℃以上,80℃以下にて30分〜180分保持して乾燥させた後,さらに120℃〜250℃で高温乾燥を行う。 - 特許庁
The temperature of aluminium in a case of contacting the rotor core 200 stored in the cavity (C1 and C2) is set to 630[°C] or more and 660[°C] or less.例文帳に追加
キャビティ(C1、C2)内に収められているロータコア200に接触しているときのアルミニウムの温度を、630[℃]以上660[℃]以下にする。 - 特許庁
Further it is preferable that a specific surface area by a BET method is 0.09 m^2/g or less and an absolute specific gravity is 4.95 g/cm^3 or more.例文帳に追加
また、BET法による比表面積を0.09m^2/g以下、かつ真比重を4.95g/cm^3以上とするのが好ましい。 - 特許庁
Heat treatment using a temperature increasing process to a temperature which is 300°C or more and the Tg or less as an oxygen difference containing atmosphere is suitable for this sealing glass.例文帳に追加
この封着ガラスには、300℃以上Tg以下の温度までの昇温工程を酸素差含有雰囲気とした熱処理が適している。 - 特許庁
In addition, the concentration of surface impurity in the region 13 is 1.0×10^19 atoms/cm^3 or more and 5.0×10^19 atoms/cm^3 or less.例文帳に追加
また、抵抗素子領域13の表面不純物濃度が1.0×10^19atoms/cm^3以上5.0×10^19atoms/cm^3以下となっている。 - 特許庁
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| ※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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