「pattern on pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(462ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a supporting method and a supporting device for manufacturing a three-dimensional structure capable of giving a concrete form to a design of clothing and accessories, creation of a paper pattern and an image of them being worn on a body without actually making clothes.例文帳に追加

衣料服飾品類のデザイン、型紙の作成、人体への着装状態を現実の服を作成することなく具現化するようにした３次元構造体の製造支援方法及び製造支援装置を提供する。 - 特許庁

To provide a supporting method and a supporting device for manufacturing a three-dimensional structure capable of giving a concrete form to a design of clothing and accessories, creation of a paper pattern and an image of them being worn on a body without actually making clothes.例文帳に追加

衣料服飾品類のデザイン、型紙の作成、人体への着装状態を現実の服を作成することなく具現化するようにした３次元構造体の製造支援方法および製造支援装置を提供する。 - 特許庁

Parts are arranged like a quilt pattern on the main substrate 15, and each of bridge interconnect connectors 30 is fitted between the edges of two adjacent chip holders 20, and then the power connectors 50 are arranged at one or more corners of the respective holders 20.例文帳に追加

部品は主基板１５にキルト状のパターンに配置され、各ブリッジ相互連結コネクタ３０は２個の隣接したチップ担体２０のエッジの間に取り付けられ、電源コネクタ５０は各担体２０の１個以上のコーナーに配置される。 - 特許庁

A metallized pattern 3 is formed on the upper surface of a mount 2 that is made of a pyrogenic conductive material such as ceramics, the width is set nearly equal to the width of a light-emitting device 1, and the length is set shorter than a length L of the light-emitting device 1 by α.例文帳に追加

セラミックス等の高熱伝導材料から成るマウント２の上面にメタライズパターン３を形成し、その寸法を幅は発光素子１の幅と略等しく、長さは発光素子１の長さＬよりαだけ短くしておく。 - 特許庁

A diagnosis standard generator 11 generates the standard pattern by extracting the status changes of 'on' and 'off' of the contacts selected by the contact selector 14 from the time-series information stored in the detecting and storage mean 13.例文帳に追加

診断基準作成手段１１では、接点選別手段１４で選択した接点群のオンオフの変化を検知・記録手段１３に記録されている時系列情報から抽出することにより基準パターンを作成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a push-button switch body capable of relatively precisely forming a shape on a key top part, and of reducing risk of occurrence of restriction in design or a product shape by facilitating formation and determination of a small pattern.例文帳に追加

キートップ部に形状を比較的精密に形成でき、小さな模様の形成や判別を容易にして意匠や製品形状に制約の生じるおそれを減少させ得る押釦スイッチ体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a package structure that improves damp-proofing of the package structure for sealing, in a space which is enclosed by a photosensitive and heat resistive resin, a main substrate surface (element surface), such as, a SAW element on which a pattern that functions as an element is formed.例文帳に追加

素子として機能するパターンが形成されたＳＡＷ素子等の基板主面（素子面）を感光性耐熱樹脂で囲まれた空間に封止するパッケージ構造の防湿性を高めるパッケージ構造体を提供する。 - 特許庁

The composite diaphragm structure is realized in this way, electrodes 103, 104 to stimulate thickness vibration are formed to this diaphragm part, and the crystal vibrator on which pattern electrodes of lead-out electrodes 105, 106 are formed can be realized.例文帳に追加

このように複合ダイヤフラム構造を実現し、このダイヤフラム部に厚み振動を励振する電極１０３，１０４を形成し、さらに引出し電極１０５，１０６のパターン電極も形成された水晶振動子を実現する。 - 特許庁

Fine particles are selectively arranged in an exposed area 2 by laminating the photosensitive silane coupling agent on the surface of a base board, exposing the photosensitive silane coupling agent layer 2 in a pattern-like shape and generating the secondary amino groups in the exposed area 3.例文帳に追加

基板１の表面に前記感光性シランカップリング剤を積層し、前記感光性シランカップリング剤層２にパターン状に露光を行ない、露光部３に２級アミノ基を発生させ、露光部２に選択的に微粒子を配する。 - 特許庁

The first electrode 240 includes a conductive electrode substrate 242 and a conductive electrode projection part 244 formed on the substrate 242 by plating and having a pattern corresponding to the polarization-inverted area 110.例文帳に追加

第１電極２４０は、導電性の電極用基板２４２と、電極用基板２４２上にメッキ法により形成されていて分極反転領域１１０に対応するパターンを有する導電性の電極用凸部２４４とを有する。 - 特許庁

A 1st coordinate transforming part 4 transforms the coordinates of the plotting coordinate system inputted from a coordinate inputting part 3 into the coordinates of the pattern coordinate system on the basis of the coordinate information generated by the part 2.例文帳に追加

座標入力部３から入力される描画座標系の座標は、第１の座標変換部４において、座標変換情報生成部２で生成した座標情報をもとに、パターン座標系の座標に変換する。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin molded product low in costs such as an artificial marble product or the like having the same grain pattern on the surface and cut surface thereof and having excellent design properties and high commodity value, and its manufacturing method.例文帳に追加

成型品の表面とその切断面に同様な石目模様を有するようにした意匠的に優れた商品価値の高い低コストの人工大理石製品等の熱硬化性樹脂成型品とその製造方法を提案する。 - 特許庁

The pattern contains three numerals selected in advance among numerals 0-9, for example, and three numerals are moved and displayed in three zones divided uniformly along the moving direction of the numerals on the screen of the monitor 12.例文帳に追加

前記パターンは、例えば、数字「０」〜「９」のうち、予め選択された３個の数字とされており、モニタ１２の画面を数字の移動方向に沿って３等分した３つの区間のそれぞれにおいて、前記３個の数字が移動表示される。 - 特許庁

The mold for producing the optical element is constituted inclusive of the core 38 having a diffraction lattice forming portion 37 wherein the predetermined uneven pattern molding the diffraction lattice of the optical element is formed on one surface of a substrate.例文帳に追加

また、光学素子１０の回折格子１７を成形する所定の凹凸パターンが、基板５１の一面に形成された回折格子形成部３７を有して成る入子３８を含んで光学素子製造用金型２０を構成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor integrated circuit card that eliminates the risk of damage to a semiconductor integrated circuit chip device and disconnection of electrodes from a circuit pattern on a board, and facilitates quality and yield control.例文帳に追加

半導体集積回路チップ装置が破損したり、その電極の基板の回路パターンに対する接続が外れたりするおそれがなく、しかも、品質や歩留りの制御の容易な半導体集積回路カードの製造方法を提案する。 - 特許庁

The semiconductor device 10 comprises a wiring substrate 11 having a resin layer 12 with a wiring pattern 13 formed on one surface for connecting outer connection terminals 19, and a semiconductor element 14 having projecting electrode terminals 16.例文帳に追加

半導体装置１０は、外部接続端子１９を接続する配線パターン１３が一方の面に形成された樹脂層１２を有する配線基板１１と、突起状の電極端子１６を有する半導体素子１４とを備える。 - 特許庁

Even when the light shielding region 2 is illuminated by stray light produced by the reticle illumination optical system of the reducing stepper, the image of the line-and-space pattern P on the semiconductor wafer can be prevented.例文帳に追加

したがって、縮小投影露光装置のレチクル照明光学系で発生した迷光により、遮光領域２が照明された場合にも、そのラインアンドスペースパターンＰが半導体ウェハ上に結像することを防止することができる。 - 特許庁

To provide a resistor modular substrate having a low cost, high performance resistor chip structure in which DC resistor chips can be connected within the pattern pitch of a bus wiring on a wiring circuit board while reducing parasitic capacity and inductance.例文帳に追加

直流抵抗チップを配線回路基板のバス配線パターンピッチの範囲内で接続することができ、寄生容量やインダクタンス等が小さくて、低コストで高性能な抵抗チップ構造を持つ抵抗モジュール基板を提供する - 特許庁

A manufacture of the silicone coat 3 includes a step for preparing a silicone wafer 4 as a base material of the silicone coat 3, and a step for forming the fine pattern 5 on the surface of the silicone wafer 4 by patterning by lithography and anisotropic dry etching.例文帳に追加

シリンコンコート３の作製は、シリコンコート３の基材としてシリコンウエハ４を準備する工程と、シリコンウエハ４の表面に、リソグラフィによるパターニングと異方性ドライエッチングとによって微細パターン５を形成する工程とを含む。 - 特許庁

The metallic-film transcription film has a structure in which a releasing layer and a metallic film are formed on the plastic film in this order and the metallic film has a prescribed pattern form formed by laser etching.例文帳に追加

プラスチックフィルム上に離型層および金属膜がこの順に成膜された構造を有しており、その金属膜がレーザーエッチングによって形成された所定のパターン形状を有している電子部品用金属膜転写フィルム。 - 特許庁

The film thickness measuring device has an imaging part 32 which acquires a plurality of monochromatic images corresponding to a plurality of wavelengths, respectively, and a plurality of reference monochromatic images which indicate a pattern on a reference substrate are acquired by the imaging part 32.例文帳に追加

膜厚測定装置は、複数の波長にそれぞれ対応する複数の単色画像を取得する撮像部３２を有し、撮像部３２により参照基板上のパターンを示す複数の参照単色画像が取得される。 - 特許庁

When performance is inputted from a pedal board within the prescribed fixed time, the pitch of the corresponding note on event in the accompaniment pattern data is replaced with the pitch specified by the performance input and the accompaniment sound is generated.例文帳に追加

上記所定の固定時間内に、前記足鍵盤から演奏入力があると、その演奏入力によって指定される音高で、伴奏パターンデータ中の対応するノートオンイベントの音高を差し替えて伴奏音を発生させる。 - 特許庁

The method for manufacturing the organic electroluninescence element includes a stage in which a predetermined area of a donor substrate is irradiated with a laser beam by using a laser irradiation apparatus equipped with a space light modulator to form an organic film layer pattern on a substrate.例文帳に追加

前記製造方法は、空間光変調器を備えるレーザーの照射装置を用いて前記ドナー基板の所定領域にレーザービームを照射して、前記基板上に有機膜層パターンを形成する段階を含む。 - 特許庁

The present invention provides the method for arranging dimples 12 on a golf ball surface in which the dimples 12 are arranged in a pattern derived from at least one irregular domain 14 generated from a regular or non-regular polyhedron.例文帳に追加

規則的または非規則的な多面体から生成された少なくとも１つの非規則的なドメイン１４から導出されるパターンでディンプル１２を配列する、ゴルフボール表面上にディンプル１２を配列する方法を提供する。 - 特許庁

The wide-band amplifier 100 is constituted by flip-chip mounting a field effect transistor 3 on a circuit pattern constituted of the strip conductors 2 of microstrip lines 50 so as to decide the characteristic impedance that decides an estimated band.例文帳に追加

マイクロストリップ線路５０のストリップ導体２にて構成された回路パターン上に、想定された帯域を定める特性インピーダンスを決定するように電界効果トランジスタ３をフリップチップ実装することで広帯域アンプ１００を構成する。 - 特許庁

The peripheral exposure method includes an ultraviolet irradiation unit (31) for irradiation with ultraviolet light, and exposes a peripheral area (EA) formed at a periphery of a circuit pattern area formed on a rectangular substrate (SW) with the ultraviolet light.例文帳に追加

紫外光を照射する紫外線照射ユニット（３１）を有し、矩形基板（ＳＷ）に形成される回路パターン領域の周囲に形成される周辺領域(ＥＡ)を紫外光で露光する周辺露光方法である。 - 特許庁

The softening temperature of the adhesive film 130 resembles to the setting temperature of the thermosetting resin 40, so that the thermosetting resin 40 is pressed in between the hard fiber-reinforced plastic fibers at the time of hot pressing to form the emboss pattern on the surface.例文帳に追加

接着フィルム１３０の軟化温度は、熱硬化樹脂４０の硬化温度に近似する特性を有し、ホットプレス時に熱硬化樹脂４０を硬質のＦＲＰ繊維の間に押し込み表面にシボ模様を形成する。 - 特許庁

Servo signals are recorded along spiral positions on the signal recording face of a magnetic disk 11 recorded and reproduced by a magnetic head 13 according to a fine irregular pattern formed by stamping a resin material.例文帳に追加

磁気ヘッド１３により記録再生を行う磁気ディスク１１として、樹脂材料をスタンピングすることによって形成された微細な凹凸パターンに応じて、信号記録面上でスパイラル状となる位置に沿ってサーボ信号を記録する。 - 特許庁

A conductive film 2 is formed on a substrate 1 and then the region excluding the region where the conductive pattern is formed is oxidized or nitrided (namely, insulated) by laser heating the conductive film 2 under an oxygen atmosphere or nitrogen atmosphere.例文帳に追加

基板１上に導電膜２を形成し、続いて酸素雰囲気下又は窒素雰囲気下において導電膜２をレーザ加熱することで、導電パターンを形成する領域以外の領域を酸化又は窒化（即ち、絶縁化）する。 - 特許庁

A first gate electrode 4 and a second gate electrode 5 are formed on a semiconductor substrate 1 and, thereafter, a resist pattern is formed so that a part comprising the superposed part of the first and second gate electrodes 4, 5 is opened.例文帳に追加

半導体基板１上に第１のゲート電極４および第２のゲート電極５を形成した後に、選択的に第１および第２のゲート電極４、５の重なり部を含む部分が開口するようにレジストパターンを形成する。 - 特許庁

A semiconductor electronic component 20 having a number of bumps 22 that are arranged in a lattice arrangement is mounted by soldering on a multilayer wiring board 10 where merely one first wiring pattern 14 can pass between lands 13.例文帳に追加

格子状に配置した多数のバンプ２２を有する半導体電子部品２０が、ランド１３間に１本の第１配線パターン１４のみが通過可能となっている多層配線基板１０の上に、ハンダ付けにて実装されている。 - 特許庁

A 2nd coordinate transforming part 5 can further transform the coordinates of the pattern coordinate system transformed in the part 4 into coordinates within an image area due to a simple residue operation based on the height and width of the image.例文帳に追加

さらに第２の座標変換部５によって、第１の座標変換部４において変換されたパターン座標系の座標を、画像の高さおよび幅に基づく簡単な剰余演算によって画像の領域内の座標に変換できる。 - 特許庁

To provide a rugged substrate and its manufacturing method suppressing voids and pinholes easily formed when forming a rugged pattern on a polyimide resin surface in the substrate with micro-ruggedness suitable for a solar cell or a light emitting device.例文帳に追加

太陽電池や発光装置用として好適な微細凹凸付き基板において、ポリイミド樹脂表面に凹凸パターンを形成する際に発生しやすいボイドやピンホールを抑制した凹凸付き基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The electrode layer includes: (i) an earth electrode formed so as to be corresponding to at least one frame region of the substrate; and (ii) an auxiliary electrode formed on the substrate so as to be connected to the earth electrode and having mesh or stripe pattern.例文帳に追加

電極層は、ｉ）基材の少なくとも一枠領域に対応して形成された接地電極と、ｉｉ）接地電極と連結するように基材上に形成され、メッシュまたはストライプパターンを有する補助電極とを含む。 - 特許庁

The number of pixels of an input video signal (display data) is converted by subjecting the video signal to interpolation processing based on coefficient information by a prescribed period pattern according to the ratio of conversion of the number of pixels.例文帳に追加

入力された映像信号（表示データ）に対し、画素数変換の比率に応じた所定の周期パターンによる係数情報に基づいた補間処理を行うことで、上記映像信号についての画素数変換を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing semiconductors in which the throughput of semiconductor device manufacturing can be improved by collectively exposing a large part of a signal wiring pattern to resist on a wafer by using only one block mask.例文帳に追加

ウエハ上のレジストに信号配線パターンの大部分を１個のブロックマスクを使用して一括露光できるようにし、半導体装置製造のスループット向上を図ることができるようにした半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A mask pattern switching part 13 switches at least two different mask patterns, and controls so that the different mask patterns are displayed on the transparent EL display 14 and the different mask patterns are transferred onto the same wafer 2.例文帳に追加

マスクパターン切換え部１３は、少なくとも２つの異なるマスクパターンを切換えて、透明ＥＬディスプレイ１４に異なるマスクパターンを表示させて、同一のウェハ２上に異なるマスクパターンが転写されるように制御を行なう。 - 特許庁

The semiconductor device comprises a semiconductor chip 10, in which an integrated circuit 12 is formed, a plurality of electrodes 20 arranged on the semiconductor chip 10, and a wiring board 30 having a wiring pattern 32 and mounted with the semiconductor chip 10.例文帳に追加

半導体装置は、集積回路１２が形成された半導体チップ１０と、半導体チップ１０上に配列された複数の電極２０と、半導体チップ１０が実装され、配線パターン３２を有する配線基板３０と、を含む。 - 特許庁

To provide a method for creating photomask data by which design data can be easily converted into photomask data on forming an integrated circuit pattern through a sidewall leaving process, and to provide a method for manufacturing a photomask and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

側壁残しプロセスで集積回路パターンを形成する場合に、設計データからフォトマスクデータへ容易に変換することが可能なフォトマスクデータの作成方法、フォトマスクの製造方法、半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The surface of a base material 11 made of aluminum or an aluminum alloy is roughened and an alumite layer 42 is further formed on the roughened surface of the base material in an unsealed state and the thermoplastic resin layer 13 of a pattern sheet is welded to the alumite layer 42.例文帳に追加

アルミニウム又はアルミニウム合金製の基材１１の表面を粗面化し、さらにその表面にアルマイト層４２を未封孔の状態で形成し、このアルマイト層４２に模様シートの熱可塑性樹脂層１３を溶着させた。 - 特許庁

To provide a semiconductor storage device which can prevent interference between adjacent bit lines on a memory cell plate by changing a wiring pattern of column selection signal lines in a layout of the conventional memory cell plate and a peripheral circuit.例文帳に追加

従来のメモリセルプレート及び周辺回路のレイアウトにおいて、カラム選択信号線の配線パターンを変えることにより、メモリセルプレート上で隣接するビット線同士の干渉を防ぐことのできる半導体記憶装置を提供すること。 - 特許庁

When the infrared pulses are output during an infrared output period by one projection pattern selected from among the plurality of kinds of projection patterns, the projection output on an infrared signal from the projector 2 is made variable.例文帳に追加

これら複数種類の投光パターンのうちから選択された一つの投光パターンで赤外線出力期間中に赤外線パルスが出力されることにより、投光器２からの赤外線信号の投光出力が可変とされる。 - 特許庁

Then, after bridging the polymer by heating the barrier film 103, it selectively radiates exposing light to the resist film 102 through the barrier film 103 to expose the pattern keeping the liquid 104 on the barrier film 103.例文帳に追加

続いて、形成されたバリア膜１０３を加熱してポリマーを架橋した後、バリア膜１０３の上に液体１０４を配した状態で、バリア膜１０３を介してレジスト膜１０２に露光光を選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

When a TFT array in which wiring lines and electrodes are formed on a substrate is formed, organic resist or resist in which metal particles are dispersed is formed as a print resist pattern 106 using a printer from over the substrate.例文帳に追加

基板上に配線や電極を形成したＴＦＴアレイを形成するにあたり、その上から、印刷装置を使用して有機レジスト或いは金属粒子などを分散したレジストを印刷レジストパターン１０６として形成する。 - 特許庁

Next, in an electroless plating step, an electroless plating layer 5 (a metal layer) is formed on the polymer complex layer 4 by the electroless plating by bringing the electroless plating liquid into contact with the polymer complex layer 4, and thereby constituting the metal pattern 7.例文帳に追加

次に、無電解めっき工程では、無電解めっき液を高分子錯体層４に接触させて高分子錯体層４上に無電解めっき層５（金属層）を無電解めっきにより形成し、金属パターン７を構成する。 - 特許庁