1153万例文収録!

「pattern on pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(466ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > pattern on patternに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

pattern on patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 29471



例文

The template 1 used for an imprint which is used to transfer a pattern to the curable material applied on a processed substrate has the substrate having a surface 2 in contact with the curable material comprises a recess 5 which is formed at the surface 2 and corresponds to the pattern transferred to the processed substrate, and a protrusion 6 which is arranged in the recess 5 to reduce the volume of the recess 5.例文帳に追加

テンプレートは、被加工基板上に塗布された硬化性材料にパターンを転写するために使用されるインプリント用のテンプレート1であって、前記硬化性材料と接触する面2を有する基板と、面2上に設けられ、前記被加工基板に転写されるパターンに対応した凹部5と、凹部5の体積を小さくするために、凹部5内に配置された凸部6とを具備してなることを特徴する。 - 特許庁

Thus, in a probability variation suggestion performance, by changing the determination form of the development on the basis of kind of information for control which specifies the kind of the pattern determined as the special pattern when the previous (latest) jackpot game is drawn, suggestion biased only to the drawing probability state among the game states simply is not performed and the suggestion reflecting the development of the game states including other elements as well is achieved.例文帳に追加

このため、確変示唆演出では、前回(直近)の大当り遊技の当選時に特別図柄として決定した図柄の種類を特定する統括用種別情報に基づいて展開の決定態様を変更することで、単に遊技状態のうち抽選確率状態のみに偏った示唆がされるのではなく他の要素も含んだ遊技状態の展開を反映した示唆が実現される。 - 特許庁

If a shift to the short winning is performed by a shift part 503 based on winning to a first start port while the time shortening game state is set by a setting part 504, a selection part 506 selects a time shortening special 1 short winning pattern for shorter execution time compared to the short winning pattern used when a normal game state is set among the short winning patterns stored in the storage part 505.例文帳に追加

選択部506は、設定部504によって時短遊技状態が設定されている際に、移行部503によって第1始動口への入賞に基づく短当たりに移行された場合、記憶部505に記憶されている短当たりパターンのうち、通常遊技状態が設定されている際に用いられる短当たりパターンに比べて実行時間の短い時短特1短当たりパターンを選択する。 - 特許庁

The charged particle beam microscope acquires a plurality of frame images by scanning the field of view of the sample (S304, 305), adds the images together (S307), computes the dimensions of the pattern formed on the sample (308), and at the same time acquires pattern information (314) using a separated image (309, 310) composed of a single frame image comprising a frame image, a subframe image, and the like.例文帳に追加

荷電粒子線顕微鏡において、試料の観察視野を走査して得られたフレーム画像を複数枚取得し(S304、S305)、それらの画像を積算し(S307)、試料上に形成されたパターンの寸法を算出(S308)すると共に、フレーム画像を構成する1フレーム画像またはサブフレーム画像等からなる分別画像(S309,S310)を用いてパターン情報を取得する(S314)。 - 特許庁

例文

In the printed wiring board (TAB tape 1) wherein a plurality of wiring regions 3 forming a wiring pattern are disconnected and disposed at intervals mutually on one continuous rectangular insulating substrate 2, a reliability test circuit 5 which is disconnected to a wiring pattern inside the wiring region 3 is provided along a plurality of wiring region 3 in a void region outside the wiring region 3.例文帳に追加

1つの連続した矩形状の絶縁性基板2上に、配線パターンを形成してなる配線領域3が互いに間隔を置いて非接続に複数配置されたプリント配線板(TABテープ1)であって、その配線領域3の外側の空き領域に、配線領域3内の配線パターンとは非接続な信頼性試験回路5を、複数の配線領域3に亘って沿うように設けた。 - 特許庁


例文

The photo development equipment includes a developing solution supplier for supplying a negative development solution; and a first photo apparatus to form a positive photoresist pattern, by using a positive photoresist containing a novolac resin as a base and containing an acrylic resin with the above negative development solution, wherein the photoresist pattern is necessary for forming a black matrix by patterning a light-shielding metal layer formed on a substrate.例文帳に追加

本発明によるフォト装備は、ネガティブ現像液を供給する現像液供給部と、基板上に形成された光遮断金属層をパターニングして、ブラックマトリクスを形成する際に必要であるポジティブフォトレジストパターンを、ノボラック系の樹脂を基本として、アクリル系の樹脂を含むポジティブフォトレジストと前記ネガティブ現像液とを利用して形成する第1フォト装備を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the patterned medium includes a step for forming a pattern of a magnetic film having ruggedness corresponding to a track part, a servo part or a data part on the substrate having a shape having a hole at its center and a step for jetting a gas stream generated by diffusing a liquidized gas to the center hole of the substrate before or after the pattern of the magnetic film is formed.例文帳に追加

中心に孔を有する形状を持つ基板上に、トラックあるいはサーボ部あるいはデータ部に対応する凹凸をなす磁性膜のパターンを形成する工程と、 前記磁性膜のパターンの形成前または形成後に、液状化したガスを拡散させることで生じたガス流を前記基板の中心孔に対して噴射する工程とを含むことを特徴とするパターンド媒体の製造方法。 - 特許庁

This game machine is characterized by shifting to an advantageous state for a player while determining the win when a relative positional relation of identification information in a preset pattern relation out of a plurality of identification information stopped and displayed on a display part is a preset pattern, for example, when the same identification information is mutually adjoining relation, without setting a prescribed win line.例文帳に追加

所定の入賞ラインを設定することなく、表示部に停止表示された複数の識別情報について、予め定められた図柄関係にある識別情報同士について、その相対位置関係が予め定められたパターンにあるとき、例えば、同一の識別情報が互いに隣接する関係にあるとき、に当選判定が行われて、遊技者にとって有利となり得る状態に移行することを特徴とする。 - 特許庁

The electrode pattern composed of the ink is formed on the substrate by offset printing using the ink for forming the plasma display panel electrode, containing conductive powders, a resin composition removable by baking and a thixotropy-imparting agent having 200-450°C pyrolysis temperature, wherein the ratio of the thixotropy-imparting agent is 0.1-5 wt.% of the whole, followed by baking the printed electrode pattern.例文帳に追加

導電性粉体と、焼成により除去可能な樹脂分と、熱分解温度が200〜450℃であるチキソトロピー性付与剤と、を含み、かつ当該チキソトロピー性付与剤の含有割合が全体の0.1〜5重量%である、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの電極形成用インキを用いて、当該インキからなる電極パターンをオフセット印刷によって基板上に形成し、次いでこの電極パターンを焼成する。 - 特許庁

例文

In order to set the adjusting amount, a referential identifier is indicated in association with the pattern for notifying the user of the deviation from the preset adjusting amount, and the print, in which the pattern based on all the available adjusting amount is printed, is output.例文帳に追加

基準タイミングからのずれ量を視覚で識別させるためのパターンに当該パターンを選択するための識別子が印字された印刷物に基づいて印字位置の調整量を設定させるために、設定されている調整量に基づくずれ量を識別させるためのパターンに基準となる識別子が対応づけられ、且つ設定可能な全ての調整量に基づくパターンが印字された前記印刷物を出力する。 - 特許庁

例文

The interface board 100 having an interface for input corresponding to an analog signal or a digital signal outputted from the pattern control board 44 and an interface for output corresponding to the interface of the liquid crystal display panel 28 is provided between the pattern control board 44 controlling patterns to be displayed on the liquid crystal display panel 28 of the pachinko machine and the liquid crystal display panel 28.例文帳に追加

パチンコ機の液晶表示パネル28に表示させる図柄を制御する図柄制御基板44と液晶表示パネル28との間には、図柄制御基板44から出力されるアナログ信号又はデジタル信号の何れかに対応した入力用インターフェースと、液晶表示パネル28のインターフェースに対応した出力用インターフェースとを備えたインターフェース基板100が設けられている。 - 特許庁

In the contact probe sheet 10 for inspecting display panels used for performing prescribed tests by energizing each electrode of the display panel, a plurality of lead patterns 2 extended from one end side to the other end side of a flexible substrate 1 are formed on the flexible substrate 1, and a dummy pattern 5 for suppressing the position deviation of the lead pattern 2 is formed.例文帳に追加

表示パネルの各電極に通電させて、所定の試験を行うために使用する表示パネル検査用コンタクトプローブシート10であって、 前記コンタクトプローブシート10は、可撓性基板1上に該可撓性基板1の一端側から他端側に向かって延びた複数のリードパターン2が形成され、前記リードパターン2のパターン付置ずれを抑制するダミーパターン5が形成されていることを特徴とする表示パネル検査用コンタクトプローブシート。 - 特許庁

In the liquid crystal device constituted of holding a liquid crystal layer 50 between a pair of substrates 1a, 2a, a metallic film 24 having a striped pattern of a predetermined period is arranged on the liquid crystal layer 50 side of at least one substrate 2a, and the liquid crystal layer side surfaces of individual gratings 25 constituting the striped pattern of the metallic film 24 are constituted in saw teeth shape.例文帳に追加

本発明の液晶装置は、一対の基板1a,2a間に液晶層50を挟持してなる液晶装置であって、少なくとも一方の基板2aの前記液晶層50側には、所定周期の縞状パターンを有した金属膜24が配設されており、前記金属膜24は、前記縞状パターンを構成する個々の格子25の前記液晶層側表面が、鋸歯状に構成されていることを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of a printed wiring board wherein an interlayer insulating layer formed by dispersing scaly grains into a curing resin is formed on a board, and a wiring pattern and via holes can easily and accurately be transferred to the inter layer insulating layer by an imprint method, using a mold having bumps and dips corresponding to the wiring pattern and the via holes without using an optical transferring method and complicated etching treatment.例文帳に追加

硬化樹脂中に鱗片状粒子を分散させてなる層間絶縁層を基板上に形成し、光学的な転写方法や煩雑なエッチング処理を用いることなく、配線パターンやバイアホールに対応する凹凸を有するモールドを用いたインプリント法によって、配線パターンやバイアホールを層間絶縁層に容易かつ正確に転写できるプリント配線板の製造方法を提案する。 - 特許庁

The performance determination means 132, when receiving the advance determination information, determines appearance or nonappearance of a prescribed game state together with pattern variation thereafter, by taking the opportunity of pattern variation display corresponding to the entered ball on the basis of the result of the win/lose lottery and, when determining the appearance of the prescribed game state, determines that the game explanation performance of the game state is displayed.例文帳に追加

演出決定手段132は、事前判定情報を受信したときに、その当否抽選の結果に基づいてその入球に対応する図柄変動表示を契機にその後の図柄変動とともに所定の遊技状態を出現させるか否かを決定し、所定の遊技状態を出現させる旨を決定した場合にはその遊技状態の遊技説明演出を表示させる旨を決定する。 - 特許庁

In SEM image comparison type inspection equipment, the potential contrast image is compared between a specified pattern being inspected and a reference pattern to generate a comparison image including one of two binarized contrasts, dimensions based on the contrast of the comparison image are measured and characterized dimensions being varied through fabrication of the semiconductor device are analyzed from the measurements.例文帳に追加

SEM式画像比較型検査装置において、所定のパターンを有する被検査パターンとおよび参照パターンの電位コントラスト画像を比較することにより、二値化されているコントラストの一方のコントラストのみを含む比較画像を生成し、当該比較画像のコントラストに基づく寸法を測定し、当該測定結果から、前記半導体形成によりばらつきが生じる特性化寸法を解析する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having metal wires formed on an upper layer wire by RIE using tungsten as a contact burying material in which tungsten can be prevented from being etched by chemical due to the misalignment of a pattern at the time of patterning the upper layer interconnect, no inclusion margin is required at the time of patterning the upper layer interconnect, and the reduction of a pattern size is facilitated.例文帳に追加

コンタクト埋め込み材としてタングステンを用い、その上層配線にRIEを用いて加工するメタル配線をもつ半導体装置の製造に際して、上層配線のパターニングの際にパターンの合わせずれに起因してタングステンが薬液でエッチングされてしまうことを防止でき、上層配線のパターニングの際に包含余裕をとる必要がなくなり、パターンサイズの縮小が容易になる半導体装置を提供する。 - 特許庁

A pattern variation display picture G1 for vary-displaying three patterns L, M and R and a special game animation G2 for displaying a special game animation in occurrence of a big win right are overlapped with the pattern variation display picture G1 on a front line to make a layer.例文帳に追加

3個の図柄L、M、Rを変動表示する図柄変動表示画G1と大当り権利が発生しているときの特別遊技動画を表示する特別遊技動画G2とを図柄変動表示画G1が前列になるよう重ねてレイヤーとし、大当り権利が発生したときには図柄変動表示画G1うち3個の図柄L,M,Rの数字部分C2を除くすべての部分を透明化して特別遊技動画が透かして見えるようにする。 - 特許庁

In the surface defect data display management device 3, a risk level calculation part 33 calculates an influence degree of a defect upon yield of the final product on the basis of a defect size of the wafer detected by an appearance inspection device 12 and a review device 10 and a pattern density obtained from design data of a pattern figure corresponding to neighbors of the position of the defect.例文帳に追加

表面欠陥データ表示管理装置3において、危険率算出部33は、外観検査装置12やレビュー装置10によって検出されたウェーハの欠陥サイズと、その欠陥の位置の近傍に対応するパターン図の設計データから得られるパターン密度とに基づき、その欠陥が最終製品の歩留まりに影響を及ぼす影響度を表面欠陥の危険率として算出する。 - 特許庁

The interface board 100 having an input interface corresponding to an analog signal or a digital signal outputted from the pattern control board 44 and an output interface corresponding to the interface of the liquid crystal display panel 28 is provided between the pattern control board 44 controlling patterns to be displayed on the liquid crystal display panel 28 of the pachinko machine and the liquid crystal display panel 28.例文帳に追加

パチンコ機の液晶表示パネル28に表示させる図柄を制御する図柄制御基板44と液晶表示パネル28との間には、図柄制御基板44から出力されるアナログ信号又はデジタル信号の何れかに対応した入力用インターフェースと、液晶表示パネル28のインターフェースに対応した出力用インターフェースとを備えたインターフェース基板100が設けられている。 - 特許庁

The salient pattern of the letterpress is provided with multiple micro salient patterns 7 on the outside of the edge of the salient pattern 6.例文帳に追加

インク剥離性を有するブランケットにインク液膜を形成する工程と、ブランケット上のインク液膜に凸版を接触させて凸部形状にインク液膜を除去する工程と、残ったインク液膜に基材を接触させてインク液膜パターンを基材に転写させる工程と、を有するパターン形成方法に使用する凸版3であって、該凸版の凸パターンは、凸パターン6の縁の外側に複数の微小凸パターン7を備えることを特徴とする凸版である。 - 特許庁

The lithography apparatus is provided with an array of individually controllable elements configured to modulate sub-beams of radiation and a data path that includes at least one data manipulation device arranged to at least partly convert data defining a requested pattern to a control signal suitable for controlling the array of individually controllable elements to form substantially the requested pattern on the substrate.例文帳に追加

放射線のサブビームを変調するように構成された個々に制御可能な素子のアレイを備えたリソグラフィ装置において、個々に制御可能な素子のアレイを制御するのに適した信号を制御して基板上に要求されたパターンを実質的に形成するために要求されたパターンを定めるデータを少なくとも部分的に変換するようにアレンジされた少なくとも1つのデータ操作デバイスを備えたデータ経路も含む。 - 特許庁

In addition, the metal film forming method includes a process to form a photo resist pattern of a desired shape on the metal film divided into a plurality of areas and the resin film, and a process to form the metal film pattern of a desired shape by removing a part of the metal film divided into a plurality of areas by the chemical etching method, a plasma etching method or the ion beam etching method.例文帳に追加

さらに、上記複数の領域に分けて形成した金属膜および樹脂フィルム上に、所望形状のフォトレジストパターンを形成する工程と、化学エッチング法またはプラズマエッチング法もしくはイオンビームエッチング法により、上記複数の領域に分けて形成した金属膜の一部を除去し、所望形状の金属膜パターンを形成する工程とを含む金属膜の形成方法とする。 - 特許庁

The system stores a model pattern introduced by analyzing the requirement specifications according to the predetermined method (step S11), generates program modules specifying the respective functions following the user instructions (step S12, S13), converts the generated program modules and the functions specified for them into the information that conforms with the model pattern (step S14), and generates software codes based on the information converted.例文帳に追加

所定の手法に従って要求仕様を分析して導かれるモデルパターンを記憶し(ステップS11)、ユーザの指示により、プログラム構成要素を生成し、その機能を指定し(ステップS12、S13)、生成されたプログラム構成要素と、これに対して指示された機能とを、前記モデルパターンに則った情報へ変換し(ステップS14)、変換された情報に基づいてソフトウエアコードを生成する(ステップS16)。 - 特許庁

In the method of manufacturing the semiconductor device having the resistance element 41 comprising a resistance pattern 17b and a metal silicide layer 40 formed on a surface thereof, the method has a step S5 of designing the resistance element 41 so that contact resistance R_c between the resistance pattern 17b and metal silicide layer 40 is included in a design resistance value R_d of the resistance element 41.例文帳に追加

抵抗パターン17bとその表面に形成された金属シリサイド層40とで構成される抵抗素子41を備えた半導体装置の製造方法であって、抵抗パターン17bと金属シリサイド層40との接触抵抗R_cを抵抗素子41の設計抵抗値R_dに含めて抵抗素子41を設計するステップS5を有することを特徴とする半導体装置の製造方法による。 - 特許庁

To provide a projection aligner for forming a specified pattern on a printed wiring board by transferring the image of a mask where a specified pattern is formed to the printed wiring board, where the height of a mask's image forming surface or the height of the photosensitive surface of a printed board need not be manually adjusted even in the case of exposing several kinds of printed boards having different thicknesses.例文帳に追加

所定のパターンが形成されたマスクの像をプリント配線基板に転写してプリント配線基板に所定のパターンを形成する投影露光装置であって、異なる厚さを有する複数種類のプリント基板に露光する場合であっても手動でマスクの像の結像面の高さまたはプリント基板の感光面の高さを調整する必要のない投影露光装置を提供することである。 - 特許庁

As a result, the manufacturing industry shows a pattern ofexternal procurement and external distribution,” which minimally affects Akasaka Town when considering the ripple effect to the regional economy. As for the agricultural industry, on the other hand, while its output is small, its rates of purchase and distribution are the highest among the major industries, at 76.2 percent. It shows a pattern ofregional procurement and regional distribution,” and its ripple effect to the regional economy is high compared to the manufacturing industry.例文帳に追加

このため赤坂町にとって製造業は「地域外調達・地域外販売」という地域経済への波及効果を考えると効果が少ないパターンを示している。一方で農業は、生産額自体は小さいものの、町内での購入・分配率は76.2%と主要産業の中で最も高く、「地域内調達・地域外販売」というパターンであり、地域経済への波及効果は製造業に比べて高い。 - 経済産業省

The counter substrate has a color filter 30 formed on a glass substrate, a counter electrode 32 formed on the color filter, an alignment film 33 formed on the counter electrode 32, and a protruding pattern 40 and a plurality of columnar spacers 42 for alignment division protruding from the alignment film to the array substrate.例文帳に追加

対向基板は、ガラス基板上に形成されたカラーフィルタ30と、このカラーフィルタ上に形成された対向電極32と、対向電極上に形成された配向膜33と、配向膜からアレイ基板に向かって突出した配向分割用の突起パターン40および複数の柱状スペーサ42と、を有している。 - 特許庁

This hollow cylindrical printing base material is a cylindrical laminate comprising a photosensitive resin cured matter layer with uneven pattern formed on the surface thereof on a hollow cylindrical support, wherein at least one through hole or recess for the alignment is formed on the hollow cylindrical support.例文帳に追加

中空円筒状支持体上に、表面に凹凸パターンを有する感光性樹脂硬化物層が形成された円筒状積層体であって、前記中空円筒状支持体に位置合わせ用の貫通孔あるいは凹部が少なくとも1箇所に形成されていることを特徴とする中空円筒状印刷基材。 - 特許庁

In the wiring sheet for a solar cell which feeds a current generated on the surface of a back contact type solar cell to an electrode on the rear surface, a laminate of an insulating substrate and a conductor is laminated with an ionomer resin interposed therebetween, and a wiring pattern is formed on the conductor.例文帳に追加

バックコンタクト型太陽電池の表面で発生する電流を裏面の電極に流すための太陽電池用配線シートであって、絶縁性を有する基材と導電体からなる積層体がアイオノマー樹脂を介して積層され、該導電体に配線パターンを施してなることを特徴とする太陽電池用配線シートである。 - 特許庁

This manufacturing method comprises a process to deposit a thin film 12 on the surface of a base material 11, a process to form an exposing position reference mark 21 having the particular shape on the thin film, a process to form a resist layer 13 on the thin film and exposing position reference mark and a process to execute pattern exposure of the resist layer using an electron beam drawing apparatus.例文帳に追加

基体11の表面に薄膜12を堆積する工程と、薄膜上に特定の形状を有する露光位置参照マーク21を形成する工程と、薄膜及び露光位置参照マーク上にレジスト層13を形成する工程と、レジスト層を電子ビーム描画装置を用いてパターン露光を行う工程とを有する。 - 特許庁

To obtain a method for manufacturing a thin film transistor having no protrusion on the peripheral edge of a semiconductor layer, because there is a problem that protrusions on the semiconductor layer which exist along the pattern peripheral edge of the semiconductor layer may become leak current routes in the thin film transistor of a display device, and thereby adverse effects may be exerted on display quality.例文帳に追加

表示装置の薄膜トランジスタにおいて、半導体層のパターン周縁部に沿って存在する半導体層の隆起がリーク電流経路となり、表示品質に悪影響を与えるという問題があったため、半導体層周縁部に隆起の無い薄膜トランジスタの製造方法を得る。 - 特許庁

Based on the results obtained by driving the light source of the reader by a plurality of different driving electric currents and by detecting the amounts of reflected light on respective electric current values respectively in a test pattern for calibration printed on a medium and the blank region of the medium, a correction factor for correcting the detection by the reader is obtained.例文帳に追加

メディアにプリントされたキャリブレーション用のテストパターンとメディアのブランク領域のそれぞれにおいて、読取器の光源を複数の異なる駆動電流により駆動して電流値毎に反射光量を検出した結果に基づいて、前記読取器による検出を補正するための補正係数を求める。 - 特許庁

This irreversible component is the center-electrode assembly 1 for an isolator with a ferrite 31, the center-electrode patterns 21-23 and an insulating layer 26 laminated on the surface 31a of the ferrite 31, a ground pattern 25 formed on the rear-face 31b of the ferrite 31, and the connecting electrode 24 formed on side 31c of the ferrite 31.例文帳に追加

フェライト31と、フェライト31の表面31aに積層された中心電極パターン21〜23及び絶縁膜26と、フェライト31の裏面31bに設けられたグランドパターン25と、フェライト31の側面31cに設けられた接続電極24とを備えたアイソレータ用の中心電極組立体1。 - 特許庁

A light source device X1 includes: a light emitting element 10; a light guide substrate 30 into which light emitted from the light emitting element 10 is made incident; a mounting substrate 20 on which the light emitting element 10 is mounted; and a conductive pattern 21 formed on the mounting substrate 20 for removing static electricity charged in or on the light guide plate 30.例文帳に追加

光源装置X1は、発光素子10と、発光素子10から出射された光が入射される導光板30と、発光素子10が実装された実装基板20と、実装基板20に形成されており、かつ導光板30に帯電した静電気を除去するための導体パターン21と、を備える。 - 特許庁

This display device has a constitution wherein a background pattern 13 on a background plate 12 for forming a virtual image K is formed as a two-dimensional image of a solid irradiated with light from the oblique upside, and the virtual image K is viewed to be on the back of a gradation 21, numerals 22 and characters 23 which are a display design on a dial plate 2 in the viewing direction.例文帳に追加

虚像Kを作成するための背景板12の背景パタン13を、斜め上方から光を照射された立体の二次元画像として形成するとともに、虚像Kが、視認方向において、文字盤2の表示意匠である目盛21、数字22および文字23の背後にあるように視認される構成とした。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a high-density printed circuit board by applying a strippable adhesive layer on a reinforced substrate (rigid substrate or carrier film) used as a base substrate, forming a metal foil on the adhesive layer by means of plating, lamination, or sputtering, and forming a high-density circuit on the metal foil serving as a seed layer by means of pattern plating.例文帳に追加

ベース基板として使用する補強用基材(リジッド基板またはキャリアフィルム)上に剥離可能な接着層を塗布し、接着層上にメッキ、積層またはスパッタリング金属薄膜を形成し、形成された金属薄膜をシード層としパターンメッキで高密度回路を形成する高密度基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A plurality of FETs 70 are provided on the lower surface of a wiring board 16 which is provided on the lower surface of a motor 12, a metal plate 72 for a bus bar is arranged across these FETs 70 and both supporting portions 74 of the metal plate 72 for the bus bar are connected electrically with a wiring pattern 76 on the wiring board 16.例文帳に追加

モータ12の下面に設けられた配線基板16の下面に複数のFET70が設けられ、これらFET70を跨ぐようにバスパー用金属板72が配され、このバスパー用金属板72の両支持部74が配線基板16の配線パターン76と電気的に接続されている。 - 特許庁

In the apparatus for manufacturing a panel with a pattern having a mold and a lifter, the mold has (1) a base, (2) a form disposed on the base, (3) a decorating mold surrounded by the form and mounted on the base, and (4) a plurality of lifters disposed on the base near the form.例文帳に追加

型体および押し上げ装置とからなる模様付きパネルの製造装置において、該型体は、(1)基板(2)該基板の上に配置した型枠(3)該型枠に囲まれかつ該基板上に載置した加飾型(4)該型枠の内側近傍の該基板に配置した複数個の押し上げ装置からなることを特徴とする模様付きパネルの製造装置。 - 特許庁

An alignment layer 1 is provided on a transparent substrate 5 on which a transparent electrode 4 is formed, an optical mask 6 wherein a light transmission part and a light shielding part with respect to UV are disposed in a prescribed pattern is covered on the alignment layer and the alignment layer is irradiated with UV 7 to remove the alignment layer 1 positioned in a region corresponding to the UV light transmission part ((a) of Fig.).例文帳に追加

透明電極4が形成された透明基板5上に、配向膜1を設け、その上に、紫外線に対する透光部と遮光部が所定のパターンで配されてなる光学マスク6を被せ、紫外線7を照射し、紫外線透光部に対応する領域に位置する配向膜1を除去する(図1(a))。 - 特許庁

A first substrate 11 on which a conductive pattern functioning as a radiator 21 is formed and a second substrate 12 on which conductive patterns 22 and 23 functioning as a waveguide and a reflector, respectively, are formed are slidably stored in an inner case 15 and an outer case 16, and a resultant antenna assembly 10 is attached on an access point 40 through a three-dimensional joint 50.例文帳に追加

放射器として働く導体パターン21が形成された第1の基板11と、導波器および反射器としてそれぞれ働く導体パターン22,23が形成された第2の基板12とを、スライド可能に、インナケース15およびアウタケース16に収納し、アクセスポイント40の上部に3次元ジョイント50を介して設ける。 - 特許庁

At a failure variation stop timing t_4, a performance symbol indicating a failure is displayed on a valid line in the middle-stage variation row, and at a win variation stop timing t_6, a restart symbol is set for every special variation pattern so that the performance symbol indicating a win is displayed on the valid line on the middle-stage variation row.例文帳に追加

外れ変動停止タイミングt_4においては、中段変動行には外れを示す演出図柄が有効ライン上に表示され、当たり変動停止タイミングt_6においては、中段変動行に当たりを示す演出図柄が有効ライン上に表示されるように再開図柄が特殊変動パターンごとに設定される。 - 特許庁

Even when the marking line 1a described on the workpiece is assimilated to the workpiece depending on the hue, pattern, or the like of the workpiece or the marking line 1a is extremely hard to see due to the reflection of light, the marking line 1a is luminous on the workpiece and easily visible to permit accurate cutting work.例文帳に追加

被加工材の色合い、模様等によって被加工材に描かれた墨線(1a)が被加工材に同化したり、光の反射により墨線(1a)が非常に見難くなる場合であっても、墨線(1a)が被加工材上で発光して視認しやすくなり、正確な切断作業を行うことができる。 - 特許庁

A method for manufacturing an inkjet printhead includes a process for: forming an aperture plate by disposing a silicon layer on the aperture plate; using photolithography to create a textured pattern on an outer surface of the silicon layer; and chemically modifying the textured surface by disposing a conformal oil repellent coating on the textured surface.例文帳に追加

アパチャプレート上にシリコン層を配置することでアパチャプレートを形成する工程と、写真平版術を用いてシリコン層の外面にテクスチャード加工パターンを作成する工程と、テクスチャード加工面に共形の撥油性被覆を配置することでテクスチャード加工面を化学的に改質する工程とを含む。 - 特許庁

A method for evaluating an arteriosclerosis lesion includes: a step of detecting a marker protein that shows a characteristic expression pattern (variation of an expression) on a specific disease stage of an arteriosclerosis lesion on a subject; and a step of evaluating the arteriosclerosis lesion of the subject based on the detection result.例文帳に追加

被験体において、動脈硬化病変において特定の疾患ステージに特徴的な発現パターン(発現の変動)を示すマーカータンパク質を検出するステップと、 その検出結果に基づいて被験体における動脈硬化病変を評価するステップとを含む、動脈硬化病変の評価方法。 - 特許庁

In the reflective mask blank for exposure having a multilayer reflective film 2 for reflecting exposure light on a substrate 1, and an exposure light absorber layer 4 formed on the multilayer reflective film 2, the mask blank has a convex surface on the side opposite to the surface for forming a transfer pattern.例文帳に追加

基板1上に、露光光を反射する多層反射膜2と、該多層反射膜2上に形成された露光光を吸収する吸収体層4とを有する露光用反射型マスクブランクであって、前記マスクブランクの転写パターン形成面とは反対側の面の形状が、凸面を有する形状である。 - 特許庁

To provide a foamed wallpaper formed with at least a foam resin layer on a papery base material, having a top coat layer on the top surface through a pattern layer, delustered on the surface, excelling in cellophane tape peeling resistance of the top coat layer and restrained from a luster change by friction.例文帳に追加

紙質基材上に少なくとも発泡樹脂層が形成されており、更に絵柄模様層を介して最表面にトップコート層を有する発泡壁紙であって、表面が低艶化されており、しかもトップコート層の耐セロハンテープ剥離性が良好であり、摩擦による艶変化も抑制されている発泡壁紙を提供する。 - 特許庁

In the imprint method for imprinting a pattern formed on a mold onto a resin, a wavelength of light incident on an imaging device is controlled in accordance with a gap between the mold and the substrate when an alignment mark provided on the mold is imaged by the imaging device.例文帳に追加

本発明の第1の側面は、モールドに形成されたパターンを基板上の樹脂にインプリントするインプリント方法であって、該モールドに設けられているアライメントマークを撮像素子で撮像する場合に、該モールドと該基板との間のギャップに応じて、該撮像素子に入射する光の波長を制御する、インプリント方法である。 - 特許庁

A holding means holds a processed surface of a substrate downward, a film is formed by spraying a gas supplied from a gas supplying means through a gas introduction means on the laser irradiation point with radiating the laser beam on the processed surface downward from the substrate, and corrects the clear defect of the pattern film on the substrate.例文帳に追加

保持手段で基板の加工面を下向きに保持し、基板の下方から基板の加工面に対してレーザ光を照射するとともに、ガス供給手段から供給されるガスをガス導入手段を通じて基板のレーザ照射部に吹き付けて、基板上に膜を形成し、基板上のパターン膜の白欠陥を修正する。 - 特許庁

例文

In the one line printing processing, the flushing printing is executed on a cloth while moving a cloth holding frame in the forward moving direction in a main scanning direction, and pattern printing is executed on the cloth so as to overlap on the flushing printing while moving the cloth holding frame in the backward moving direction in the main scanning direction.例文帳に追加

その1ライン印刷処理においては、主走査方向において、布保持枠を主走査方向における往動方向へ移動させながら布地にフラッシング印刷を行い、布保持枠を主走査方向における復動方向へ移動させながら、フラッシング印刷に重ねるように布地に模様印刷を行う。 - 特許庁




  
Copyright Ministry of Economy, Trade and Industry. All Rights Reserved.
  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS