「pattern on」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

A correction pattern comprising lines parallel to the moving direction is formed on the scale in addition to a slanting pattern for moving position detection, and the position detected by detection of the slanting pattern is corrected by using information acquired by detection of the correction pattern.例文帳に追加

移動位置検知用の傾斜パターンに加えて移動方向に平行な線からなる補正パターンをスケール上に形成し、傾斜パターンの検知により検知された位置を補正パターンの検知により得られた情報を用いて補正する。 - 特許庁

The integrated test pattern is generated by generating a pattern for merge to properly connect plural test patterns and simultaneously merging the test pattern for merge into the plural test patterns based on condition information by the test pattern generating part 17.例文帳に追加

テストパタン生成部１７は、条件情報に基づいて、複数のテストパタンを適正に接続するためのマージ用パタンを生成すると共に、該マージ用パタンと複数のテストパタンとをマージして、一体化したテストパタンを生成する。 - 特許庁

On a substrate, solution containing fine particles is ejected with an action force by mechanical displacement to form a rectangular pattern or to form an electrode pattern by combining the rectangular patterns wherein the corner part of the pattern is covered with a dot pattern.例文帳に追加

基板上において、機械的変位による作用力で微粒子含有溶液を噴射させて、矩形パターンもしくは矩形パターンの組み合わせにより構成される電極パターンのコーナー部をドットパターンにより被覆するように打ち込む。 - 特許庁

On forming a second forming part, the second lower forming pattern 5 takes over the role of the first lower forming pattern 4, and the first lower forming pattern 4 returns to the initial position as the second lower forming pattern 5 performed previously.例文帳に追加

第２の成形部分を成形するにあたり、第２の下方成形型５が第１の下方成形型４の役割を引き継ぎ、第１の下方成形型４は、先に第２の下方成形型５が行ったようにして初期位置に戻る。 - 特許庁

When making a pattern by a travel duration pattern making device 12, the pattern is made on the basis of a result of filtering and normalizing or simulating the made pattern by a road traffic flow simulator.例文帳に追加

走行所要時間パターン作成手段１２によってパターンを作成する際、作成されたパターンをフィルタリングしたり、正規化したり、あるいは道路交通流シミュレータによりシミュレーションした結果に基づいてパターンを作成したりしている。 - 特許庁

An auxiliary pattern 102 that diffracts exposure light, but is not transferred through the exposure is formed in a side of the main pattern 101 on the transmissive substrate 100, so as to interpose a light-transmitting portion between the auxiliary pattern and the main pattern 101.例文帳に追加

透過性基板１００上における主パターン１０１の側方には、露光光を回折させ且つ露光により転写されない補助パターン１０２が、主パターン１０１との間に透光部を挟むように設けられている。 - 特許庁

A first pattern 1 is formed on a substrate 3, and a layer 2 made of a material to be patterned is formed in the opening 4 of the first pattern 1, and then the first pattern 1 is removed to form a second pattern made of a material to be patterned.例文帳に追加

基板３上に第一のパターン１を形成し、その第一のパターン１の開口部４に被パターン材料からなる層２を形成し、その後、第一のパターン１を除去して被パターン材料からなる第二のパターンを形成する。 - 特許庁

A code image generation part 113 generates a code image on the basis of the pattern data created by the first pattern data creation part 111 and the plurality of pattern data items created by the second pattern data creation part 112 and permuted.例文帳に追加

コード画像生成部１１３は、第１パターンデータ作成部１１１にて作成されたパターンデータおよび第２パターンデータ作成部１１２で作成され且つ並べ替えられた複数のパターンデータに基づいてコード画像を生成して出力する。 - 特許庁

Design pattern density for a correction object area on the mask is computed and correction data for the mask pattern density corresponding to the design pattern density are selected to correct design pattern data of the correction object area according to the data.例文帳に追加

一方、マスク上の補正対象領域に対する設計パターン密度を算出し、この設計パターン密度に対応するマスクパターン密度の補正データを選択し、これに基づいて、補正対象領域の設計パターンデータに補正を行う。 - 特許庁

To provide a mask pattern inspecting method for electron beam exposure, with which a position relation between a first complementary pattern and a second complementary pattern, which are formed by dividing an original mask pattern for electron beam exposure, by a cut line, is inspected on a computer.例文帳に追加

元の電子線露光用マスクパターンを切断線で分割して形成した第１の相補パターン及び第２の相補パターンの位置関係を計算機上で検査することができる電子線露光用マスクパターン検査方法を得る。 - 特許庁

After that, the left pattern and the right pattern are temporarily stopped (d), 'press' 03a is displayed on the side of the UFO character 03, and this is output by voice, thereby informing that the left pattern and the right pattern again vary to develop (e).例文帳に追加

その後、左図柄及び右図柄を仮停止させた後（ｄ）、ＵＦＯのキャラクタ０３の横に「プレス」０３ａと表示させると共に、これを音声出力して、左図柄及び右図柄が発展的に再変動することを報知する（ｅ）。 - 特許庁

A resist pattern 3a including hole patterns 6b and a hole pattern 6c is formed on a semiconductor substrate 1, and a resin-layer pattern 7a is buried selectively in the hole pattern 6c of a region C wherein its distributive density is made low relatively to others.例文帳に追加

半導体基板１上にホールパターン６ｂおよびホールパターン６ｃを含むレジストパターン３ａを形成し、ホールパターンの分布密度が相対的に疎な領域Ｃのホールパターン６ｃを樹脂層パターン７ａで選択的に埋め込む。 - 特許庁

A mask pattern 4 consisting of a first mask pattern 4a in the shape of a line of with a width WT of 0.15 μm and a second mask pattern 4b in the shape of a line with a width WF of 1.0 μm parallel with the pattern 4a is made on a mask 1.例文帳に追加

マスク１に、線幅Ｗ_Ｔが０．１５μｍの線形状の第１マスクパターン４ａ、このパターン４ａに平行な線幅Ｗ_Ｆが１．０μｍの線形状の第２マスクパターン４ｂからなるマスクパターン４を形成する。 - 特許庁

A code image generating section 113 generates and outputs a code image, based on the pattern data created by the first pattern-data creating section 111, and the plurality of pattern data items created by the second pattern-data creating section 112 are permuted.例文帳に追加

コード画像生成部１１３は、第１パターンデータ作成部１１１にて作成されたパターンデータおよび第２パターンデータ作成部１１２で作成され且つ並べ替えられた複数のパターンデータに基づいてコード画像を生成して出力する。 - 特許庁

To provide a recessed/projecting pattern forming method capable of surely processing a desired recessed/projecting pattern on a resin layer even if wide recessed parts are included in the recessed/projecting pattern, and an information recording medium manufacturing method using the recessed/projecting pattern forming method.例文帳に追加

凹凸パターンに幅が広い凹部が含まれる場合であっても所望の凹凸パターンに樹脂層を確実に加工できる凹凸パターン形成方法及びこれを用いた情報記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a data processor which prevents outer contour of embroidery pattern and inner contour or outer contour of printing pattern from moving and can unite embroidery and printing when embroidery pattern is embroidered and printing pattern is printed on a cloth.例文帳に追加

布地に刺繍模様を刺繍し且つ印刷図柄を印刷する場合に、刺繍模様の外形輪郭と、印刷図柄の内形輪郭又は外形輪郭とがずれることなく、刺繍と印刷とを融合できるようにすること。 - 特許庁

The controller further includes an upward slope gear shift control unit performing the upward slope control on the basis of the gear shift pattern selected by the gear shift pattern selecting unit or the gear shift pattern changed by the gear shift pattern changing unit.例文帳に追加

制御装置は更に、変速パターン選択ユニットにより選択された変速パターン又は変速パターン変更ユニットにより変更された変速パターンに基づいて、登坂制御を行う登坂変速制御ユニットを含んでいる。 - 特許庁

The pattern film 100 includes: a first film 110 with a built-in first pattern array; and a second film 120 with a built-in second pattern array partially overlapping the built-in first pattern array, which is arranged on the first film 110.例文帳に追加

パターンフィルム１００は、第１パターンアレイが内蔵された第１フィルム１１０、及び第１フィルム１１０上に配置され前記第１パターンアレイと部分的に重なる第２パターンアレイが内蔵された第２フィルム１２０を含む。 - 特許庁

Then, when the power is restored, the CPU for the main control reads the pattern tables TP1-TP5 included in the backup information, and determines a variation pattern on the basis of the pattern tables TP1-TP5 when executing a pattern variation game.例文帳に追加

そして、主制御用ＣＰＵは、復電した際、バックアップ情報に含まれるパターンテーブルＴＰ１〜ＴＰ５を読み出し、図柄変動ゲームを実行する際、当該パターンテーブルＴＰ１〜ＴＰ５に基づき、変動パターンを決定するようにした。 - 特許庁

To provide a resin composition that can preferably maintain adhesiveness between a pattern image and a substrate with the pattern image formed thereon when the pattern image is formed, while maintaining water repellency and ink repellency on the upper face of the pattern image.例文帳に追加

パターン画像を形成した場合に、該パターン画像上面の撥水性及び撥インク性を保持しつつ、該パターン画像と該パターン画像が形成される基板との密着性を良好に保つことができる樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a step for thickening a resist pattern by coating the surface of the pattern with the thickening material after forming the pattern on an underlayer and a step for patterning the underlayer by etching through the pattern.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成後、該パターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該パターンを厚肉化する工程と、該パターンを用いてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having high sensitivity and high resolution, excellent in adhesion and temporal stability of sensitivity, and capable of forming a high-definition pattern with less residue on development, and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

高感度及び高解像度で、密着性及び感度の経時安定性に優れ、現像残渣が少なく、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

At heat treatment on the resist pattern for adjusting the dimension of the pattern after the pattern has been formed by lithography, heat treatment is performed at a temperature T1(°C), which falls within the range of T2(°C) to T+4°C (where T2 is the softening temperature of the resist forming the pattern).例文帳に追加

リソグラフィによりレジストパターンを形成した後、パターン寸法を調整するために加熱処理を行う場合に、レジストの軟化温度Ｔ_2 （℃）に対し、Ｔ_2 ≦Ｔ_1 ≦Ｔ_2 ＋４℃の範囲内の温度Ｔ_1 （℃）で加熱処理を行う。 - 特許庁

A control circuit pattern is extended to at a position corresponding to the second bonding pattern on the front surface of the control board 8, and the control circuit pattern and a main circuit pattern are electrically connected together with a wire 3 at the extended part.例文帳に追加

制御基板８の表主面上において、制御回路パターンは、第２の接合パターンと対応する位置に延在させられ、該延在部における制御回路パターンと主回路パターンとが、ワイヤ３で電気的に接続されている。 - 特許庁

The photomask includes a base, a plurality of chip pattern regions where a light-shielding pattern comprising a metal material is formed on the base, and scribe regions comprising a light-shielding pattern formed between the chip pattern regions.例文帳に追加

基体と、基体に金属材料による遮光パターンが形成されている複数のチップパターン領域と、チップパターン領域同士の間に形成されている遮光パターンからなるスクライブ領域とを備えるフォトマスクを構成する。 - 特許庁

The pattern display device 22 has a pattern display part 23 for variably displaying the figures and a stop pattern display part 24 which displays stoppable figures that is stopped and displayed pertaining to the figures variably displayed on the pattern display part 23.例文帳に追加

図柄表示装置２２は、図柄を変動表示する図柄表示部２３と、その図柄表示部２３に変動表示される図柄に関し停止表示され得る停止可能図柄を表示する停止図柄表示部２４とを有する。 - 特許庁

When generating the base pattern image, whether the base pattern image is to be generated by the density parameter having been used for generating which base pattern image patch out of the plurality of base pattern image patches arranged in the test printing image, is determined based on the selection of a user.例文帳に追加

そして、地紋画像を生成するにあたり、試し刷り画像に配置された複数の地紋画像パッチのうち、どの一つの地紋画像パッチの生成に用いられた濃度パラメータで生成するかはユーザの選択に基づく。 - 特許庁

A resist pattern which is larger than the desired resist pattern by a prescribed size is formed on a substrate and corroded by exposure to an atmosphere of gaseous ozone in such a way that the resist pattern is made smaller by the prescribed size to obtain the desired fine resist pattern.例文帳に追加

基板上に所望レジストパターンよりも所定寸法だけ大きなレジストパターンを形成し、レジストパターンが所定寸法だけ小さくなるようにオゾンガス雰囲気に曝して侵食させ、もって所望の微細なレジストパターンを得る。 - 特許庁

Accordingly, in the case that the number of starting held balls is four, the patterns of the respective lines of the pattern display device are simultaneously stopped on the basis of a simultaneous stop variable pattern earlier than the stop timing of a final pattern in a successive stop variable pattern.例文帳に追加

従って、始動保留球数が４の場合、図柄表示装置の各列の図柄は、順次停止変動パターンで最終図柄が停止するタイミングよりも早い同時停止変動パターンに基づいて同時に停止する。 - 特許庁

A plurality of alignment marks 4R for the coloring pattern of R, a plurality of alignment marks 4G for the coloring pattern of G, and a plurality of alignment marks 4B for the coloring pattern B are disposed on a mask 2 at different intervals for each coloring pattern.例文帳に追加

マスク２に、Ｒの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｒ、Ｇの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｇ、及びＢの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｂを、着色パターン毎に異なる間隔で設ける。 - 特許庁

A stamper 1 comprising a pattern whose protrusions/recesses are opposite to a wiring pattern is used to transfer the wiring pattern to at least a resin on the surface of a board 20, and a wiring pattern comprising a groove whose width is 30 μm or less is formed.例文帳に追加

配線パターンと凹凸が逆のパターンを備えたスタンパ１を用いて、基板２０の少なくとも表面にある樹脂に前記配線パターンを転写させることにより、溝幅が３０μｍ以下の溝を含む配線パターンを形成する。 - 特許庁

The pattern formation layer 2a can be cured by irradiating an ionization radiation to the pattern formation layer 2a which is formed on the irregular pattern of the mold 5 by using a PTFE dispersant to the pattern formation layer 2a being a transfer part 2.例文帳に追加

転写部２となるパターン形成層2aにPTFE分散液を用いたことにより、モールド５の凹凸パターン上に形成したパターン形成層2aに対し電離放射線を照射することで、当該パターン形成層2aを硬化させることができる。 - 特許庁

To provide a pattern data high-speed drawing method of large-scale pattern data for rapidly and rationally drawing large-scale pattern data expressed by XY coordinate on a display device, and a pattern data high-speed drawing device suitable for the execution of the method.例文帳に追加

ＸＹ座標で表現される大規模図形データを、ディスプレイ装置上に迅速かつ合理的に描画する大規模図形データ高速描画方法および該方法の実行に適する図形データ高速描画装置を提供する。 - 特許庁

There is so provided a lead frame 41, wherein a circuit pattern 43 having the shape corresponding to the power pattern 2 is connected with the peripheral portion comprising a frame-form portion 49 as to superimpose it fixedly on the power pattern 2, and as to cut off the frame-form portion 49 from the fixed circuit pattern 43.例文帳に追加

一方、パワーパターン２に対応した形状を有する回路パターン43を、周囲部である枠状部49に繋げてなるリードフレーム41を備え、パワーパターン２に重ね合せて固着した回路パターン43から、枠状部49を切り離す。 - 特許庁

In this pattern forming method, a first mask pattern 320A is formed in a first region A by patterning a dual mask layer on a substrate 300, and a second mask pattern 320B which is wider than the first mask pattern 320A is formed in a second region B.例文帳に追加

基板３００上のデュアルマスク層をパターニングして第１領域Ａには第１マスクパターン３２０Ａを形成し、第２領域Ｂには第１マスクパターン３２０Ａより幅広である第２マスクパターン３２０Ｂを形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a fine pattern with high precision, while improving the productivity of the pattern formation and for forming a predetermined pattern on a photosensitive composition with high resolution.例文帳に追加

微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The position detector detects the position of the reference pattern and the position of the measurement pattern, and the optical state of the position detector is inspected based on the relative relation between the position of the reference pattern and the position of the measurement pattern thus detected.例文帳に追加

位置検出装置により、基準パターンの位置および計測パターンの位置を検出し、検出した基準パターンの位置と計測パターンの位置との相対関係に基づいて位置検出装置の光学状態を検査する。 - 特許庁

When the pattern of a photomask 4 is transferred on a semiconductor wafer using a scanner, transfer regions 7A and 7b, provided on different regions on the photomask 4 and constituted of the same pattern, are superposed on the same region on the wafer to contrive to expose the regions 7A and 7B.例文帳に追加

フォトマスク４のパターンをスキャナを用いて半導体ウエハ上に転写する際に、フォトマスク４の異なる領域に設けられた同一のパターン構成の転写領域７Ａ，７Ｂを、半導体ウエハの同一領域に重ねて露光するようにした。 - 特許庁

A grounding conductor pattern is also formed on the double-sided wiring board 20; moreover the double- sided wiring board 20 is mounted on a board 30 on which a shielding pattern has been formed; and then the dielectric block 10 and boards 20 and 30 are jointed together.例文帳に追加

両面配線基板20には、アース用の導体パターンも形成し、さらにシールド用のパターンを形成した基板30上に搭載して、誘電体ブロック10と2枚の基板20、30とを接合する。 - 特許庁

The production control means refers the pattern arrangement table based on the received stopped pattern command, and registers the kinds of the three patterns on the upper, central and lower stages regarding the applicable reels on a display state table (b).例文帳に追加

演出制御手段は、受信した停止図柄コマンドに基づいて図柄配列テーブルを参照し、当該リールについての上中下段の３つの図柄の種別を表示状態テーブル（ｂ）に登録する。 - 特許庁

Exposed parts 33 of a grounding circuit pattern are formed on a circuit board 3 so as to face openings 10 formed on the case, and a solder 30 is applied on the exposed parts 33 of the grounding circuit pattern.例文帳に追加

筐体に形成された開口部１０に対向するように、回路基板３に接地回路パターンの露出部分３３を形成し、接地回路パターンの露出部分３３に半田３０を設ける。 - 特許庁

A chip pattern and a dummy pattern are formed on an effective area 2 and a non-effective area 3 respectively and simultaneously by vapor etching on a wafer 1 in which a silicon layer is formed on an oxide film.例文帳に追加

酸化膜上にシリコン層が配置されたウェハ１を用意し、気相エッチングにより、このウェハ１における有効エリア２に対してはチップパターンを、非有効エリア３に対してはダミーパターンを同時に形成する。 - 特許庁

The colored pattern layer 2 is formed by applying a coating material compounded with coloring pigment on the surface of the substrate and baking the applied coating material or by attaching a film on which a prescribed pattern is printed on the surface of the substrate.例文帳に追加

着色模様層２は、着色顔料を配合した塗料を基材表面に塗布・焼付けし、或いは所定の模様を印刷したフィルムを基材表面に貼付することにより形成される。 - 特許庁

A mask 3 is irradiated by an illuminating optical system, and electron rays passing through the pattern are image-formed on a wafer by lens 1 and 2, and a pattern on the mask 3 is reduced and transferred on the wafer 4.例文帳に追加

照明光学系によりマスク３が照射され、その上のパターンを通過した電子線が２つのレンズ１、２により、ウェハ上に結像され、マスク３上のパターンをウェハ４上に縮小転写する。 - 特許庁

An ATO driving pattern being the objective velocity on ATO side is set, based on the ATC emergency brake pattern EB of the upper limit velocity of on ATC side set by ATC controller.例文帳に追加

ＡＴＣ制御器によって設定されたＡＴＣ側の上限速度であるＡＴＣ非常制動パターンＥＢに基づいて、ＡＴＯ側の目標速度であるＡＴＯ運転パターンＳＢを設定する。 - 特許庁