「pattern on」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

To decide whether the defect generated on the surface of a substrate is the defect that arises from the defect existing on a prescribed pattern or not, in the substrate which is manufactured so that a repeated pattern is transferred on the major surface.例文帳に追加

主面に、繰り返しパターンが転写されて製造される基板において、その表面に生じる欠陥が、所定パターンに存在する欠陥に起因した欠陥であるか否かを確定する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the array substrate, a transparent conductive film 10 is formed on a transparent insulation substrate 1 on which a pixel electrode 8 is formed, and a resist pattern 11 having the same pattern as that of the pixel electrode 8 is formed on the transparent conductive film 10.例文帳に追加

画素電極８が形成された透明絶縁基板１上に、透明導電膜１０を形成し、この上に、さらに前記画素電極８と同じパターンのレジストパターン１１を形成する。 - 特許庁

To provide a method and a system for forming a wood grain pattern having a natural flow by measuring the distribution information on diving angles of fibers on the surface of a natural wood so as to model a three dimensional pattern of a wood grain on the basis of the measurement in order to extract a wood grain vessel pattern from the wood grain pattern.例文帳に追加

天然木材の表面における繊維の潜り角の分布情報を測定し、これを基に木理の三次元的なパターンをモデリングし、この木理パターンを用いて木目導管パターンを抽出することにより、自然な流れを持つ木目模様の生成を行う方法およびそのためのシステムを提供する。 - 特許庁

As a method for transferring the conductive pattern precursor formed on a dielectric thin-film body by a conductive fine-particle dispersion liquid, a conductive particle pattern is electrified again by resupplying a solvent on the conductive pattern precursor after once removing a liquid membrane remaining on the conductive pattern precursor immediately after development.例文帳に追加

導電微粒子分散液により誘電性薄膜体上に形成された導電パターン前駆体を転写する方法として、現像直後の導電パターン前駆体に残存する液膜を一度除去した後、再び導電パターン前駆体上に溶媒を再供給することで導電性粒子パターンを再帯電する。 - 特許庁

A low-density toner image pattern as a soiling detection pattern is developed on a transfer belt 16, then, the toner density at the beginning of the pattern on the transfer belt 16 and the toner density in the position which advances by one turn of the developing roller 23 from the beginning of the pattern are measured, and soiling is determined on the basis of the measured density difference between the positions.例文帳に追加

転写ベルト１６上に汚れ検知用パターンとして低濃度トナー像パターンを現像し、転写ベルト１６上のパターン先頭位置の濃度とパターン先頭位置から現像ローラ２３の１周分の長さを越えた位置の濃度とを測定し、その濃度差に基づき汚れの有無を判定するようにした。 - 特許庁

The conductive pattern member formation method is characterized by, after performing a surface treatment on at least a part of a conductive pattern member whose conductive pattern is formed on a substrate, forming a functional film by providing a functional ink on at least a part of the conductive pattern by using an ink jet method.例文帳に追加

基材上に導電性パターンが形成されている導電性パターン部材上の少なくとも一部に、表面処理を行った後、機能性インクをインクジェット法を用いて導電性パターン上の少なくとも一部に付与することで機能性膜を形成することを特徴とする導電性パターン部材形成方法。 - 特許庁

The method for analyzing pattern failure includes: exposing of a substrate with exposure light through an optical member under a predetermined exposure condition; detecting information of the pattern formed on the substrate by exposure; and analyzing a cause of the pattern failure formed on the substrate based on the exposure condition and pattern information.例文帳に追加

パターン欠陥の解析方法は、所定の露光条件で光学部材を介して基板を露光光で露光することと、露光によって基板に形成されたパターンの情報を検出することと、露光条件とパターンの情報とに基づいて、基板に形成されたパターンの欠陥の原因を解析することとを含む。 - 特許庁

This semiconductor device comprises a fuse and a circuit pattern formed on a semiconductor substrate, and an interlayer insulating film formed on the semiconductor substrate in which the fuse and the circuit pattern are formed, wherein a bonding pad is formed, which penetrates the interlayer insulating film on the circuit pattern to be connected with the circuit pattern.例文帳に追加

半導体装置は、半導体基板上に形成されたヒューズ及び配線パターンと、前記ヒューズ及び配線パターンが形成された半導体基板上に形成された層間絶縁膜とを含み、前記配線パターン上で前記層間絶縁膜を貫通して前記配線パターンに連結されたボンディングパッドが形成される。 - 特許庁

To improve products in manufacturing yield by reducing influence of irregularities in a line width of a pattern formed on a reticle so as to form the pattern having a uniform line width on a wafer, in a process of forming a prescribed pattern by transferring a pattern formed on the reticle onto the wafer by the use of photography.例文帳に追加

レチクルに形成されたパターンを写真技術を利用してウェハ上に転写することにより所定のパターンを形成するプロセスにおいて、レチクルに形成されたパターンの線幅のばらつきによる影響を低減することにより、ウェハ上に均一の線幅を有するパターンを形成して製品の歩留まり向上を図る。 - 特許庁

The input device is provided with: an upper electrode pattern formed on the surface of a base material 30 and upper wiring patterns 18a, 18b and so on electrically connected to the upper electrode pattern; and a lower electrode pattern formed on the surface of the base material 31 and lower wiring patterns 16a, 16b, and 16c and so on electrically connected to the lower electrode pattern.例文帳に追加

基材３０表面に形成された上部電極パターン及び前記上部電極パターンに電気的に接続された上部配線パターン１８ａ，１８ｂ・・と、基材３１表面に形成された下部電極パターン及び前記下部電極パターンに電気的に接続された下部配線パターン１６ａ，１６ｂ、１６ｃ・・とを、有する。 - 特許庁

In the signal transmitter 1 in which at least a pair of signal transmission terminals TI and TO and a conductive pattern PA for connecting them are formed on the front surface A and a ground pattern PB is formed on a rear surface B, the ground pattern PB formed on the rear surface B is formed in a shape superposed on the conductive pattern PA through the substrate 10.例文帳に追加

少なくとも一対の信号伝送端子ＴＩ、ＴＯと、これらを接続する導電パターンＰＡとを表面Ａに形成し、裏面ＢにはグランドパターンＰＢを形成した信号伝送装置１であって、裏面Ｂに形成されたグランドパターンＰＢは、導電パターンＰＡに対応して、基板１０越しに重合した形状にしている。 - 特許庁

In the manufacturing method of a semiconductor device, mask materials 70, 80 to be patterned on a desired target pattern are deposited on a ground material 10, the mask material is patterned on a spare pattern that contains a target pattern and is wider than it, the mask material is patterned on the target pattern, and a ground material is treated by using the mask material as a mask.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、所望の目標パターンにパターニングされるべきマスク材料７０、８０を下地材料１０上に堆積し、目標パターンを含みかつそれよりも広い予備パターンにマスク材料をパターニングし、目標パターンにマスク材料をパターニングし、マスク材料をマスクとして用いて下地材料を処理することを具備する。 - 特許庁

A pattern corresponding to a required printing pattern is formed of an image forming resist film 4 by a lithography process on a metal substrate 1', and after the metal of a part except a pattern region on the metal substrate face on which the pattern is formed of the image forming resist film 4 is partly etched, the mesh 3 is formed on the partly etched region by a laser processing method.例文帳に追加

金属基板１’にリソグラフィー法により所望の印刷パターンに対応するパターンを画像形成レジスト膜４で形成し、画像形成レジスト膜４でパターンを形成した金属基板面のパターン領域以外の部分の金属を部分エッチングした後、該部分エッチングされた領域にレーザー加工法により網目３を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

To obtain a resist pattern without leaving resists on other parts than an oxide film on an oxide film around a main surface and an oxide film on a substrate peripheral surface.例文帳に追加

主面の周囲の酸化膜及び基板周面の酸化膜以外の部分にレジストが残存することのないレジストパターンを得る。 - 特許庁

On the other hand, the animation as the ready-to-win performance display is displayed on the liquid crystal panel 13 on which the notification pattern is erased.例文帳に追加

一方、報知図柄が消去表示された液晶パネル１３上には、リーチ演出表示としてのアニメーションが表示される。 - 特許庁

A target change gear ratio value corresponding to the amount of stepping-on of the pedal on the selected change gear ratio pattern is calculated based on the read numerical value.例文帳に追加

読み込み数値に基づいて、選択された変速比パターン上のペダル踏込み量に対応する目標変速比値を算出する。 - 特許庁

The position on the substrate where the transfer pattern is formed varies depending on the defocus quantity of the projection exposure apparatus on the substrate.例文帳に追加

基板上における投影露光装置のデフォーカス量によって、基板上における転写パターンが形成される位置が変動する。 - 特許庁

A game control device simultaneously controlling the progresses of first and second special pattern games on a display device detects the entering of the game ball in a special pattern start hole via a single special pattern start sensor and divides the detection result as special pattern start storages of the first and second special pattern games.例文帳に追加

第一、第二の特図ゲームの進行を表示装置上で同時に制御可能な遊技制御装置は、一つの特図始動センサを介して遊技球の特図始動口への入賞を検知し、この検知結果を第一、第二の特図ゲームの特図始動記憶として振り分ける。 - 特許庁

A line object 01 having the prescribed thickness is moved to the periphery of a three-dimensionally displayed pattern 02(a) on a special pattern display device 6 in a special pattern game while hiding a part of the displaying pattern 02(a), and is renewed to a new pattern 02(b).例文帳に追加

特図ゲームにおける特別図柄表示装置６上の立体的に表示された図柄０２（ａ）の周囲に、所定の厚みを有するラインオブジェクト０１を、表示されている図柄０２（ａ）の一部を隠しつつ移動させることにより、新たな図柄０２（ｂ）への更新を行う。 - 特許庁

In the user side sewing system 2, it is instructed for pattern editing (S10) and the server side computer 6 performs the editing processing of pattern data (pattern display data and pattern sewing data) concerning the embroidery pattern of the object to be sewed, which are read from the HD 78, based on the instruction (S29).例文帳に追加

ユーザ側縫製システム２で模様編集の指示を行うことができ（Ｓ１０）、サーバ側コンピュータ６では、その指示に基づいて、ＨＤ７８から読出された縫製対象の刺繍模様の模様データ（模様表示データと模様縫製データ）に編集処理（Ｓ２９）が施される。 - 特許庁

When a mask made of a resist layer is formed, a laminated resist pattern 110 having a T-shaped section is formed on the patterning film, where the laminated resist pattern 110 includes a lower-layer resist pattern 111 and an upper-layer resist pattern 112 having plane area larger than that of the lower resist pattern 111.例文帳に追加

レジスト層でなるマスクを形成するにあたり、被パターニング膜の上に、下層レジストパターン１１１と、下層レジストパターン１１１の平面積よりも大きい平面積を有する上層レジストパターン１１２とを含む断面Ｔ形状の積層レジストパターン１１０を形成する。 - 特許庁

The correcting device corrects a pattern defect of the display in which an electronic circuit pattern having the pattern defect on a surface of a substrate is formed, and is equipped with a plasma irradiation means of irradiating an area of the pattern defect locally with plasma to correct the pattern defect.例文帳に追加

基板の表面にパターン欠陥を有する電子回路パターンが形成された表示装置の前記パターン欠陥を修正する修正装置であって、 前記パターン欠陥の領域に局所的なプラズマの照射によって前記パターン欠陥を修正するプラズマ照射手段を備えてなる。 - 特許庁

When detection pattern data is obtained by a pattern detecting section 44, a dot extracting section 46 and a mask processing section 48, a data extracting section 42 for extracting pattern data based on a pattern image according to copy control information stores the detected pattern data in a buffer memory 56.例文帳に追加

複写制御情報に応じたパターン画像に基づいたパターンデータを抽出するパターンデータ抽出部４２では、パターン検出処理部４４、網点抽出処理部４６及びマスク処理部４８によって検出パターンデータを得ると、この検出パターンデータをバッファメモリ５６に蓄積する。 - 特許庁

To provide a luminescence pattern reader and a luminescence pattern reading method for surely reading a luminescence pattern even from a medium from which the luminescence pattern can not be read due to strong emission of a breach or the like included in the medium on which the luminescence pattern has been printed.例文帳に追加

発光パターンが印刷された媒体に含まれるブリーチ等が強く発光することで発光パターンを読取ることのできかなった媒体に対しても、確実に発光パターンを読取ることのできる発光パターン読取装置および発光パターン読取方法を提供する。 - 特許庁

In the variable pattern distributing table L1, from which variable patterns are selected when specific big win states are generated, a selection rate for the pattern stop sequence pattern based on the different pattern stop sequence from the normal pattern stop sequence is set high, so that it is selected at a high ratio.例文帳に追加

即ち、特定の大当り状態が生起される際に変動パターンが選択される変動パターン振分テーブルＬ１には、通常の図柄停止順序とは異なる図柄停止順序に基づく図柄停止順序パターンが高い割合で選択されるように、その選択率を高く設定する。 - 特許庁

In this exposure method for transferring the pattern to the material to be exposed by exposure in pattern shape, the quality of the pattern imparting member for giving the pattern which is to be transferred is controlled based on the evaluation (for example, evaluation reference A) of the edge roughness of the pattern formed by exposure.例文帳に追加

パターン状に露光することにより被露光材にパターン転写を行う露光方法において、露光により形成されるパターンのエッジラフフネスの評価（たとえば評価基準Ａ）に基づいて、転写すべきパターンを与えるパターン付与部材の品質の管理を行う。 - 特許庁

In order to obtain a resist pattern of a first exposure pattern in a proximity effect correction process 3, the proximity effect is corrected in respect with the first exposure pattern based on the distribution function of exposure intensity to obtain a second exposure pattern whose pattern size is further changed and to obtain exposure data.例文帳に追加

近接効果補正工程３では、該第１露光パターンのレジストパターンが得られるように、露光強度分布関数に基づき該第１露光パターンに対し近接効果補正して、パターンサイズをさらに変更した第２露光パターンを得るとともに露光量のデータを得る。 - 特許庁

A determination part compares an output pattern of the phase comparison signals LAG(n), LEAD(n) corresponding to each bit of a detection data pattern with a predetermined comparison object pattern, and determine whether one bit of the equalization signal EQDATA is longer or shorter than one cycle of a sampling clock CK based on whether the output pattern is matched with the comparison object pattern.例文帳に追加

判定部は、検出データパターンの各ビットに対応する位相比較信号ＬＡＧ（ｎ），ＬＥＡＤ（ｎ）の出力パターンを所定の比較対象パターンと比較し、合致するか否かに基づいて、等化信号ＥＱＤＡＴＡの１ビットがサンプリングクロックＣＫの１周期よりも長いか短いかを判定する。 - 特許庁

A multilayer printed wiring board 100 is provided with a signal layer 35 which has a wiring pattern 35A, a signal layer 45 which has a land pattern 45A, an IC chip 41 which is mounted on the lad pattern 45A and is positioned between the land pattern 45A and the wiring pattern 35A, a ground layer 25, and a power source layer 55.例文帳に追加

多層プリント配線板１００は、配線パターン３５Ａを有する信号層３５と、ランドパターン４５Ａを有する信号層４５と、ランドパターン４５Ａに搭載され、ランドパターン４５Ａと配線パターン３５Ａとの間に位置するＩＣチップ４１と、グランド層２５と、電源層５５とを有する。 - 特許庁

A general control CPU determines an advance notice pattern based on an advance notice pattern distribution table associated with a specified variation pattern when several kinds of performance patterns are not associated with a variation pattern designated by an input variation pattern designation command.例文帳に追加

統括制御用ＣＰＵは、入力した変動パターン指定コマンドにより指定された変動パターンに、演出実行パターンが複数種類対応付けられていない場合には、指定された変動パターンに対応付けられた予告パターン振分テーブルに基づき予告パターンを決定する。 - 特許庁

On the second surface 32, a thick film virtual pattern section 40 of the same pattern as the pattern of the texture pattern section 11 in which transmission identification of color printing is possible is formed by printing at the same position as the position where the texture pattern section 11 is formed across the base material sheet 30.例文帳に追加

第２の面３２に、基材シート３０を挟んで、地柄模様部分１１が形成されている位置と同位置に、地柄模様部分１１と同じ模様の、有色印刷を透過識別可能な厚膜の仮想模様部分４０が印刷によって形成されている。 - 特許庁

Further, the general control CPU determines an advance notice pattern based on an advance notice pattern distribution table associated with a determined performance pattern when the several kinds of performance patterns are associated with the variation pattern designated by the input variation pattern designation command.例文帳に追加

また、統括制御用ＣＰＵは、入力した変動パターン指定コマンドにより指定された変動パターンに、演出実行パターンが複数種類対応付けられていた場合には、決定された演出実行パターンに対応付けられた予告パターン振分テーブルに基づき予告パターンを決定する。 - 特許庁

The disclosed manufacturing method for the PDP substrate comprises processes of: applying a paste 1 for forming a pattern to an irregular plate 50 which is a transfer mold of a partition pattern; hardening the paste 1 for forming the pattern; and forming an electrode pattern 3 on the hardened paste 1 for forming the pattern.例文帳に追加

開示されるＰＤＰの基板の製造方法は、隔壁パターンの転写型である凹凸版５０にパターン形成用ペースト１を塗布する工程と、パターン形成用ペースト１を硬化する工程と、硬化されたパターン形成用ペースト１上に電極パターン３を形成する工程とを有している。 - 特許庁

When an abnormality exists in a variable pattern indicating command and a pattern indicating command outputted from the main CPU, a sub-CPU displays letters of 'error' on a special pattern display 32b after receiving a pattern indicating command and a mark '?' after receiving an all pattern stop command.例文帳に追加

サブＣＰＵは、メインＣＰＵから出力された変動パターン指定コマンドおよび図柄指定コマンドに異常がある場合は、図柄指定コマンドを受信後に特別図柄表示器３２ｂに「エラー」の文字を表示し、全図柄停止コマンドを受信したときに全図柄は「？」を表示する。 - 特許庁

At least one part of the 1st patterns 53 and 55 and at least one part of the 2nd pattern 54 are a common pattern, and the common pattern 44 and non-common patterns 45a and 45b different from the common pattern 44 are formed as the 1st patterns 53 and 55 and the 2nd pattern 54 on the mask M.例文帳に追加

第１パターン５３，５５の少なくとも一部と第２パターン５４の少なくとも一部とは共通のパターンであり、マスクＭに、第１パターン５３，５５と第２パターン５４として、共通パターン４４と共通パターン４４とは異なる非共通パターン４５ａ，４５ｂとを形成する。 - 特許庁

When a second stationary symbol finally displayed on the demonstration pattern display parts D1-D3 is a probability variable pattern, all the variable patterns become the second stationary pattern by pressing the switch and the pattern to be settledly displayed may be noticed before stopping the demonstration pattern display parts D1-D3.例文帳に追加

デモ図柄表示部Ｄ１〜Ｄ３に最終的に表示される第２停止図柄が確率変動図柄の場合、スイッチ押下で変動図柄が第２停止図柄のみとなり、デモ図柄表示部Ｄ１〜Ｄ３の停止前に確定表示される図柄が予告されることがある。 - 特許庁

The electrode structure may include: a substrate having an insulating layer; a first conductive pattern containing a metal for filling the insulating layer; a second conductive pattern which extends from the first conductive pattern and contains a metal oxide; and a third conductive pattern disposed on the second conductive pattern.例文帳に追加

電極構造体は絶縁層を有する基板、絶縁層を埋め立てる金属を含む第１導電パターン、第１導電パターンから延びて金属酸化物を含む第２導電パターン、そして第２導電パターン上に配置される第３導電パターンを含むことができる。 - 特許庁

With respect to hazardous spot information on the pattern of a semiconductor device, the difference between first pattern data corresponding to a case, where no dangerous spot exists in the pattern and second pattern data corresponding to another case, where a dangerous spot exists in the pattern is visually displayed as feature data indicating the feature of the hazardous spot.例文帳に追加

半導体装置のパターンに関しての危険箇所情報であって、同じパターンについて、危険な箇所がない場合に対応した第１のパターンデータと、危険箇がある場合に対応した第２のパターンデータとの差を、前記危険箇所の特徴を示す特徴情報として可視化して表示する。 - 特許庁

The light-shielding pattern 7 (or 5), the mesh pattern 4 (or 2) having electromagnetic wave shielding function and the display electrode 15 are formed as a fine-line pattern formed of conductive thin film or a plating lamination pattern made by laminating a plating layer on the fine-line pattern formed of the conductive thin film.例文帳に追加

遮光パターン７（または５）、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）、及び表示電極１５は、導電性薄膜で形成された細線パターン、または導電性薄膜で形成された細線パターンの上にメッキ層が積層されてなるメッキ積層パターンである。 - 特許庁

When a variation pattern random number value is newly stored, the game state of when the variation pattern random number value is referred to in a variation pattern determining processing is determined in advance, and a variation pattern is determined in advance based on the previously determined game state and the variation pattern random number value.例文帳に追加

変動パターン用乱数値が新たに記憶されたときには、その変動パターン用乱数値が変動パターン決定処理で参照されるときの遊技状態を事前に判定し、事前に判定された遊技状態と変動パターン用乱数値とに基づいて、事前に変動パターンを決定する。 - 特許庁

The mark pattern portion 3 is present as adjacent to the semiconductor chip pattern portion 1 in the chip pattern layout area 2, and therefore, a theoretical yield of semiconductor chips on a wafer can be increased compared to a photomask having a mark pattern portion 3 outside and apart from the chip pattern layout area 2.例文帳に追加

マークパターン部３は、チップパターン配置領域２内で半導体チップパターン部１に隣接して存在するので、マークパターン部３をチップパターン配置領域２の外部に離隔して設ける場合に比べて、ウエハ上の半導体チップの理論収量を増やすことができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having improved optical characteristics, and to provide a pattern forming apparatus and forming method which enable distortion of an image provided on the pattern forming material to be suppressed and a permanent pattern free from defects, such as a wiring pattern to be efficiently formed with high definition.例文帳に追加

光学特性を改善したパターン形成材料を提供し、該パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、かつ、欠陥のない配線パターン等の永久パターンを高精細に、効率よく形成可能なパターン形成装置及び形成方法の提供。 - 特許庁

The transfer pattern formed in the magnetic recording medium 47 is evaluated by a transfer accuracy evaluating apparatus 95, the prescribed magnetic pattern (target pattern) based on the magnetic information is compared with a transfer pattern (result pattern) formed actually in the magnetic recording medium 63, and information of transfer error quantity is obtained.例文帳に追加

磁気記録媒体６７に形成された転写パターンを転写精度評価装置９５で評価し、磁気情報に基づいた所定の磁気パターン（目標パターン）と、実際に磁気記録媒体６３上に形成された転写パターン（結果パターン）とを比較して、転写誤差量の情報を得る。 - 特許庁

A mask pattern 1a having a plurality of pattern forming parts 2 and light-shielding parts 3 arranged into a mosaic is formed in one edge part of an exposure mask, and a mask pattern 1b having the pattern forming parts 2 and the light-shielding parts 3 arranged in the complementary relation with the mask pattern 1a is formed on the other edge of the mask.例文帳に追加

露光マスクの一方の縁部に、パターン形成部２と遮光部３を複数モザイク状に配置したマスクパターン１ａを形成し、その他方の縁部には、パターン形成部２と遮光部３をマスクパターン１ａと相補関係となるように配置したマスクパターン１ｂを形成する。 - 特許庁

Further, the inner covers 10, 11 have functions of a power supply circuit and a control circuit or the like, have a ground conductor solid pattern 12 on inner layers, a ground pattern 13 connected to the ground conductor solid pattern 12 to front layers, and the ground conductor solid pattern 12 reaches a conductive state to the case 2 via the ground pattern 13.例文帳に追加

また内カバー１０、１１は、電源・制御回路等の機能を有するとともに、内層に地導体ベタパターン１２、表層に地導体ベタパターン１２に繋がるグランドパターン１３を有し、グランドパターン１３を介して地導体ベタパターン１２とケース２とが導通状態となる。 - 特許庁