「resolution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an alkali developable resin composition and an alkali developable photosensitive resin composition having excellent sensitivity, resolution and developability and capable of accurately forming a fine pattern.例文帳に追加

感度、解像度、現像性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性樹脂組成物、及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition for improving fine resolution, LER and depth of focus, and to provide a method for forming a resist pattern which uses the resist composition.例文帳に追加

微細な解像性、ＬＥＲ及び焦点深度幅を向上させることを目的とするレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a new compound excellent in sensitivity and the degree of resolution in resist uses, and useful for maintaining a pattern form well, and a method for producing the same.例文帳に追加

レジスト用途において、感度、解像度に優れるとともに、パターン形状を良好に維持するのに有用な新規化合物、ならびに該化合物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for projection capable of improving resolution by shifting the phase of modulated light when drawing is carried out according to pattern data.例文帳に追加

パターンデータに応じて描画を行う際に変調光の位相をシフトすることにより、解像度を高めることができる投影装置および投影方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method and a system in which a desired pattern can be formed with an excellent resolution by suppressing deterioration of image quality due to residual aberration of a projection optical system.例文帳に追加

投影光学系の残存収差による像質劣化を抑え、所望のパターンを形成することができる解像度に優れた露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition excellent in various characteristics as a resist such as sensitivity, resolution and focal depth and capable of suppressing the occurrence of foreign matter on a resist pattern.例文帳に追加

感度、解像度及び焦点深度などのレジスト諸特性に優れ、レジストパターン上における異物の発生を抑制可能なポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist protection film capable of forming a resist pattern having excellent shape stability, high resolution and excellent depth of focus.例文帳に追加

形状安定性が良好であり、高解像度で、かつ、焦点深度にも優れるレジストパターンを形成することが可能なレジスト保護膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a printing method by which an image pattern where low resolution parts and high resolution parts are mixed is collectively printed with high precision on a base material such as a glass base material and a plastic film without pattern missing, and to provide a method of printing a color filter using the printing method and the color filter manufactured by using the printing method.例文帳に追加

ガラス基材やプラスチックフィルムなどの基材上へ、高解像度部と低解像度部とが混在する画像パターンをパターン欠落なく一括で精度よく印刷できるようにした印刷方法とこの印刷方法を利用したカラーフィルターの印刷方法、並びに前記した印刷方法によって製造されたカラーフィルターの提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which has high transparency for radiations, has excellent resist fundamental physical properties such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, and pattern formation, and has high resolution performance and small pattern line edge roughness, to provide a polymer capable of being used for the composition, and to provide a new compound used for synthesizing the polymer.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、解像性能が高く、パターンのラインエッジラフネスが小さい感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method and exposure apparatus, and a method of manufacturing a device and the device, where a pattern having a line width larger than a resolution limit is transferred in desired contrast to secure a desired resolution when a projection optical system clearing in midsection is used.例文帳に追加

本発明は、中抜けのある投影光学系を使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in photosensitivity, resolution, adhesion, mechanical strength and flexibility, and useful to increase the density and resolution of a printed circuit, a photosensitive element using the composition, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed circuit board.例文帳に追加

光感度、解像度、密着性、機械強度及び柔軟性が優れ、プリント配線の高密度化及び高解像化に有用である感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which is excellent in a pattern form with uniformity, high sensitivity and high resolution in thick film pattern forming, is excellent in substrate adhesiveness, film leaving property and storage stability, can obtain a high throughput, and can bear a metallic growth stress.例文帳に追加

厚膜パターン形成において、均一性、高感度・高解像度でパターン形状に優れ、基板密着性、残膜性、貯蔵安定性に優れ、高スループットが得られ、かつ金属成長応力に耐え得るポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation, good adhesiveness to a substrate and a good trailing shape of a pattern, excellent in pattern shape, ensuring a wide exposure margin and excellent also in sensitivity and resolution.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、また基板に対する接着性およびパターンの裾形状も良好でパターン形状に優れ、露光マージンが広く、しかも感度、解像度にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a solder resist pattern forming method which allows formation of a high-resolution resist pattern with good reproducibility regardless of the thickness of a solder resist layer and the influence of a blue pigment, and a photosensitive composition suitable for use in the forming method.例文帳に追加

ソルダーレジスト層の膜厚や青色顔料の影響によらず、再現性よく高解像度のレジストパターン形成を可能とするソルダーレジストパターンの形成方法、並びに該形成方法に好適に用いられる感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having good sensitivity to exposure, good developability and good tack property after coating and drying on a substrate and capable of forming a pattern having a good pattern shape, good resolution, and good adhesion to the substrate.例文帳に追加

露光感度、現像性が良好で、基板上に塗布し乾燥させた後のタック性が良好であると共に、パターン形状、解像性、基板密着性がいずれも良好なパターンを形成することができる感光性組成物を提供する。 - 特許庁

The resolution determination technique of lithography adds background light by performing all transmission exposure with the exposure amount of such a degree that an estimation pattern is resolved to intentionally deteriorate an exposure state followed by an exposure processing of the estimation pattern.例文帳に追加

本発明のリソグラフィの解像力判定手法は、評価パターンの露光処理に引き続き、この評価パターンが解像する程度の露光量で全透過露光を行うことで、バックグラウンド光を付加して、露光状態を故意的に劣化させる。 - 特許庁

Specifically, a dual damascene structure corresponding to a design pattern figure can be formed by means of one exposure, development and etching step using a high resolution gray scale mask, which reduces a production process of a dual damascene structure and enhances the pattern accuracy.例文帳に追加

具体的には、高分解能グレーマスクを用いて、１回の露光、現像及びエッチング工程により、設計パターン形状に対応したデュアルダマシン構造を形成可能とし、デュアルダマシン構造の作製工程の短縮化及びパターン精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a resist composition which is suitable for ArF excimer laser lithography and has preferable line edge roughness in addition to performances such as resolution, sensitivity and a pattern shape, and to provide a chemically amplified positive resist composition in which the pattern can be more finely divided in a reflow process.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物、リフロー工程においてパターンをより微細化できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and a pattern forming method that uses identical satisfying high sensitivity, high resolution, proper pattern shape, proper line edge roughness and dry etching resistance, at the same time.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状及び良好なラインエッジラフネス、さらには耐ドライエッチング性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性低分子化合物含有組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has improved DOF (Depth Of Focus), storage stability, resolution and pattern features and suitable even for a liquid immersion process for a line width of not more than 45 nm, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ＤＯＦ、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist material having high sensitivity while having high resolution, attaining a proper pattern shape after exposure, and decreasing line edge roughness, in particular, a chemically amplified positive resist material, and to provide a pattern forming method that uses the material.例文帳に追加

高解像度でありながら高感度であり、なおかつ露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in development defect performance, liquid immersion defect performance and limit resolution and enables to form a pattern having a good shape, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

現像欠陥性能、液浸欠陥性能、及び限界解像力に優れ、且つ良好な形状を有したパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask blank which is high in sensitivity and can form a pattern superior in resolution, and to provide a photomask which is superior in film strength of a light shielding film and resistance to a solvent in mask cleaning even when having a finer pattern such as narrow lines.例文帳に追加

高感度で、解像度に優れたパターンを形成しうるフォトマスクブランクスを提供し、細線等の微細パターンを有するものであっても、遮光膜の膜強度とマスク洗浄の溶剤に対する溶剤耐性に優れたフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive conductive paste which achieves high-definition pattern resolution by a photolithographic method, enables to form an electrode pattern having low resistance, and can suppress thickening of the paste due to a reaction of glass frit with an organic component.例文帳に追加

フォトリソグラフィ法により高精細のパターン解像度が得られ、かつ、低抵抗を有する電極パターンが形成でき、さらに、ガラスフリットと有機成分との反応によるペーストの増粘を抑制出来るような感光性導電ペーストが求められている。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive working resist composition which generates no resist residue when a semiconductor device is produced by a via first dual damascene method and can give a high resolution resist pattern capable of corresponding to a required fine pattern.例文帳に追加

ビアファーストのデュアルダマシン法により半導体デバイスを製造する場合に、レジスト残りを生じず、要求される、微細パターンに対応可能な高解像性のレジストパターンを与えることができる化学増幅型ポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

The parts of the region 11 respectively consist of the white ground of a paper in a highlight calibration part 7, the highest density of a solid pattern in a shadow calibration part 8 and a network point of a resolution rougher than that of the region 10 or tens of thousand-line pattern in an intermediate calibration part 9.例文帳に追加

参照領域１１は、それぞれハイライト校正部７では紙の白地、シャドウ校正部８ではは最大濃度のベタパターン、中間校正部９では連続領域よりも解像度の荒い網点あるいは万線パターンからなる。 - 特許庁

To provide a toner capable of outputting a favorable silver color, forming a wiring pattern free of continuity failure with high resolution and easily and accurately forming even a complicated electric circuit pattern, and to provide an image forming method.例文帳に追加

良好な銀色を出力することができ、導通不良を起こすことのない配線パターンを高解像度で形成することができ、複雑な電気回路パターンであっても忠実かつ簡易に作成することができるトナー及び画像形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high transparency to ArF excimer laser light, high sensitivity and high resolution, and high affinity with an alkali and giving a pattern with a preferable pattern profile and preferable dry etching durability and adhesion property by a paddle development system.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー光に対する透明性が高く、高感度で高解像度、アルカリに対して高い親和性、パドル現像によりパターン形状、耐ドライエッチング性、密着性の良好なパターンが得られるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive type photoresist composition for thick films capable of forming a thick-film resist pattern having high resolution and dimension controllability, and having favorable rectangularity, and to provide a production method of a thick-film resist pattern using such composition.例文帳に追加

解像性、寸法制御性が高く、かつ、矩形性の良好な厚膜レジストパターンを形成可能な厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物、及びそのような組成物を用いた厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition excellent in sensitivity, resolution, adhesion in development and heat resistance, capable of being developed with an alkaline aqueous solution, and giving a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and electronic components.例文帳に追加

感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるると共に、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition capable of forming a space pattern excellent in heat resistance and having a high aspect ratio on a thick film board with good perpendicularity and resolution and to provide a board with a photosensitive film, a resist pattern forming method and a method for preparing the photoresist composition.例文帳に追加

厚膜基板上で、耐熱性に優れ、高アスペクト比のスペースパターンを垂直性、解像性よく形成可能なポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板、レジストパターンの形成方法およびポジ型ホトレジスト組成物の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a forming method of a circuit pattern capable of forming a high resolution resist pattern by efficiently removing the resist on the surface of a substrate, wherein resist peeling speed is high when a resist peeling process using ozone water is carried out.例文帳に追加

オゾン水を用いたレジスト剥離工程を行う場合に、レジスト剥離速度が速く、基板表面のレジストを高効率に除去することにより、高解像度のレジストパターンを形成することが可能な回路パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution and adhesion, and obtaining a resist pattern having adequate peeling property, and also to provide a photosensitive element using the same, a resist pattern forming method, and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

感度、解像度及び密着性に優れ、十分な剥離特性を有するレジストパターンを得ることができる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new photosensitive resin composition having favorable coating property, having either surface roughness nor decrease in transmittance, having favorable clearance property with sufficient resolution for a fine pattern, and capable of leaving a narrow pattern such as a photo spacer.例文帳に追加

塗布性良好で、表面荒れおよび透過率低下がなく、微細なパターンまで解像可能であることから抜け性が良好であり、さらに、フォトスペーサーのような細いパターンを残すこともできる新たな感光性樹脂組成物を提供する - 特許庁

To provide a developer for photosensitive polyimide which has little harmful effect on the human body, suppresses the generation of residues on and cracks in a pattern edge after development, and can achieve a high resolution and a high residual film ratio, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

人体への有害性が少なく、かつ、現像後のパターンエッジの残渣、クラックを低減し、高い解像度と残膜率を達成することができる感光性ポリイミド用現像液およびそれらを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition having high safety, excellent in uniformity of a coating film, capable of enhancing the curing density of a cured resin pattern, and forming a fine resist pattern having a large film thickness and a high aspect ratio.例文帳に追加

安全性が高く、塗膜の均一性に優れ、硬化樹脂パターンの硬化密度を向上することができ、さらに高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a recording material or the like capable of faithfully reproducing a wiring circuit without a conduction failure due to the preparation of a wiring pattern by electrophotography since good silver color is outputted in electrophotography and an electric circuit for an IC tag or the like which is high in resolution and complicated in the wiring pattern.例文帳に追加

電子写真において良好な銀色を出力することで、電子写真による配線パターン作成によって導通不良を起こさない配線回路、ＩＣタグ等の解像度が高く複雑な電気回路を忠実に再現する。 - 特許庁

To provide a means of forming a fine pattern with high accuracy while suppressing generation of an electric field without degrading the resolution of a resist on forming a pattern by irradiating a substrate having discontinuous electric conductivity with a charged particle beam.例文帳に追加

電気的導通が不連続な被加工基板に対し、荷電粒子線を照射してパターン形成を行う場合、電界の発生を抑止しつつ、かつ、レジストの解像性を損なうことなく、微細なパターンを精度よく形成する手段を提供する。 - 特許庁

Accordingly, the method of manufacturing the multi-resistance film screen forms the metal wiring pattern by photolithography method and screen printing method and then provides the metal wiring pattern for markedly attaining the micro pattern with reduced wiring resistance, resulting in manufacturing of the high-resolution multi-resistance film touch screen.例文帳に追加

これによれば、マルチ抵抗膜スクリーンの製造において金属配線パターンをフォトリソグラフィ法及びスクリーン印刷法を用いて形成することによって、微細パターンが実現され且つ配線抵抗を顕著に減少させた金属配線パターンを提供し、高解像度のマルチ抵抗膜タッチスクリーンを製造することができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has high sensitivity, realizes a pattern with a high film remaining rate when developed and after cured, has excellent resolution and a pattern profile of a micro pattern, and has high heat resistance and mechanical performance required for the usage for a surface protective film and an interlayer insulating film of a semiconductor element.例文帳に追加

高感度で現像時及びキュア後において高残膜率のパターンを得られ、同時に微細パターンの解像性及びパターン形状に優れ、さらには、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜用途として要求される耐熱性と力学的性能をも高レベルで満足する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition for forming a pattern satisfying demands for high sensitivity, high resolution (for example, high resolving power, an excellent pattern profile and small line edge roughness (LER)) and good dry etching durability, and to provide a resist film, a resist-coated mask blank, a resist pattern forming method and a photomask using the composition.例文帳に追加

高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及びフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a phenol novolak resin capable of forming an overcrowded pattern and an isolated pattern both excellently in shapes when a fine resist pattern of ≤0.35 μm is formed, excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property, and having no change in resin composition in each molecular weight region, a method of synthesizing the same and a positive-type photoresist composition using the same.例文帳に追加

０．３５μｍ以下の微細なレジストパターンを形成する場合に、密集パターン、孤立パターン共に形状良く形成でき、感度、解像性、焦点深度幅特性に優れ、各分子量域において樹脂組成の違いのないフェノールノボラック樹脂、その合成方法およびそれを用いたポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming material effective in manufacture of a printed wiring board, capable of realizing high resolution by thinning of a layer, and capable of forming a tent film less liable to tear, and to provide a pattern forming apparatus and a pattern forming method by which a printed wiring board having a hole part such as a through hole or a via hole can be efficiently manufactured.例文帳に追加

プリント配線板の製造に有効で、薄層化により高解像度化が可能であり、破れにくいテント膜を形成できるパターン形成材料と、スルーホールやビアホールなどのホール部を有するプリント配線板を効率的に製造することができるパターン形成装置及びパターン形成方法とを提供。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive resin composition superior in sensitivity and resolution, showing small optical proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern, even in the case of an isolated line pattern, capable of ensuring sufficient focus margin for an isolated line pattern, and useful as a chemically amplified resist.例文帳に追加

感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、化学増幅型レジストとして有用なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In a test pattern generating apparatus 1 for generating a test pattern to be used for evaluating the image quality of a display 5, based on the resolution of the display 5 or the standard of an input signal to the display 5, a display condition input section 2 sets the output conditions for outputting the test pattern onto the display 5.例文帳に追加

ディスプレイ５の画質評価に使用するテストパターンを生成するための、テストパターン生成装置１において、表示条件入力部２が、ディスプレイ５の解像度あるいはディスプレイ５への入力信号の規格等に基づいて、ディスプレイ５にテストパターンを出力するための出力条件を設定する。 - 特許庁