「resolution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive paste composition capable of making a pattern of a barrier rib for a PDP having high resolution and high precision by only a single exposure to light, and capable of also preparing a barrier rib for a PDP having a higher reflectance than a conventional barrier rib, a barrier rib of a plasma display panel prepared using the composition, and a plasma display panel comprising the barrier rib.例文帳に追加

１回の露光のみで高解像度及び高精密のＰＤＰ用隔壁パターンが製造できるだけでなく、既存の隔壁に比べて高い反射率を有するＰＤＰ用隔壁が製造できる感光性ペースト組成物、それを利用して製造されたプラズマディスプレイパネルの隔壁、及びそれを備えるプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition highly transparent to a light of a wavelength of at most 250 nm, particularly to an ArF excimer laser light, excellent in resist performances such as sensitivity, resolution, adhesion to a substrate and dry etching resistance, and therefore suitable for the far ultraviolet light excimer laser lithography, an electron beam lithography and the like, and a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

波長２５０ｎｍ以下の光、特にＡｒＦエキシマーレーザー光に対して透明性が高く、感度、解像度、基板密着性、ドライエッチング耐性といったレジスト性能に優れ、遠紫外光エキシマーレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適なレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

One layer is formed by plural times of exposure including high- resolution exposure using plural fine patterns (gate finger parts) and plural phase shift patterns (shifters) which are respectively arranged on both sides in the fine line width direction of the fine patterns and negate the interference of light by the phase difference of the light passing the same and ordinary exposure exclusive of the fine pattern points.例文帳に追加

複数の微細パターン（ゲートフィンガ部）と、当該微細パターンの微細線幅方向両側にそれぞれ配置され、透過する光の位相差により光の干渉を打ち消す複数の位相シフトパターン（シフタ）と用いた高解像度露光と、微細パターン箇所以外の通常露光とを含む複数回露光により一つの層を形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition or a transfer material being developable with a low alkaline developing solution even in the case of any of positive type and negative type photosensitive resin compositions or a photosensitive resin layer transfer material, having high resolution giving a pattern having excellent removing solution resistance after heat curing and exhibiting excellent aging stability of a photosensitive material.例文帳に追加

ポジ型、ネガ型の何れの感光性樹脂組成物、又は感光性樹脂層転写材料においても弱アルカリ性現像液による現像が可能で、解像度が高く、熱硬化処理後の剥離液耐性に優れたパターンが得られ、かつ感材の経時安定性にも優れた感光性樹脂組成物或いは転写材料を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition free of any safety problem, excellent in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a good development margin that a good pattern profile can be formed in a developing step even after the lapse of the optimum developing time, and to provide an interlayer dielectric and microlenses formed of the same.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること - 特許庁

To provide a positive resist composition useful for a process using light with shorter wavelength than KrF excimer laser light, for example, F_2 excimer laser light (157 nm) or EUV (vacuum ultraviolet light 13 nm), allowing formation of resist pattern with high resolution and good shape of cross section, and to provide an alkali-soluble polysiloxane resin capable of providing a substrate provided with the resist layer.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー以下の短波長光、例えば、Ｆ_２エキシマレーザー（１５７ｎｍ）やＥＵＶ（真空紫外線１３ｎｍ）を光源とするプロセスに有用であり、高解像性で断面形状の良好なレジストパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材を提供できるアルカリ可溶性ポリシロキサン樹脂を提供すること。 - 特許庁

To provide an image processor and its processing method, which perform filter processing according to a power variation rate, phase information by pixels of interest, and phase information control parameters (low-pass coefficients) for controlling the frequency characteristics of a filter and perform power variational processing which suppresses generation of a cyclic striped pattern such as moire without unnecessary reduction of resolution.例文帳に追加

変倍率と、各注目画素毎の位相情報と、フィルタの周波数特性を制御するための位相情報制御パラメータ（ローパス係数）とに応じて、フィルタ処理を行い、不必要に解像度を落とすことなく、モアレなどの周期的な縞模様の発生を抑えた変倍処理を行える画像処理装置及びその処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern of digital data on a work by using a two-dimensional display element while scanning the work relatively in one direction, the method being favorable in both of resolution and throughput when a plurality of pixels on the two-dimensional display element forms dots on one straight line parallel to the scanning direction of the work.例文帳に追加

デジタルデータを２次元表示素子を用いて、ワークを相対的に一方向にスキャンしながら、ワーク上にパターンを形成する方法であって、２次元表示素子上の複数の画素がワーク上のスキャン方向に平行な同一直線上にドットを形成する場合に、分解能、スループットともに良好なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask material capable of rapidly forming a mask pattern with high sensitivity and high resolution by using a light of ≥405 nm wavelength and capable of producing a high quality photomask in which defective parts can be corrected, which has excellent mechanical strength, hardness and solvent resistance, a low reflectance to light of <405 nm wavelength and which is free of voids.例文帳に追加

波長４０５ｎｍ以上の光で高感度かつ高速に、しかも高解像度でのマスクパターンの形成が可能であって、欠陥修正が可能でかつ機械的強度や硬度、耐溶剤性に優れ、波長４０５ｎｍ未満の光反射率が低く、白抜け欠陥のない高品質なフォトマスクを作製し得るフォトマスク材料を提供する。 - 特許庁

To enable high-speed processing regardless of resolution and whether it is a pattern image or not in an image data processor adapted to fetch raster data required for plotting an image from a storage device storing the raster data and delivering the same to a vector data processor when the vector data processor for analyzing vector data plots an image in a buffer memory.例文帳に追加

ベクタデータを解析するベクタデータ処理装置がバッファメモリ内に画像を描画する際に、その画像描画に必要となるラスタデータを、これを格納した記憶装置から取り出して前記ベクタデータ処理装置に受け渡す画像データ処理装置において、解像度の相違やパターン画像であるか否か等に拘わらず、高速処理を可能にする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide an interlayer insulation film and microlenses formed from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物ならびに該組成物から形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁

To provide an image recording system, an image recording method, a conversion apparatus and a conversion method by which a printed wiring pattern with a desired line width can be drawn on a substrate in an exposure apparatus without carrying out an electron variable magnification process on raster data rasterized with predetermined resolution, that is, without carrying out an electron variable magnification process on digital data.例文帳に追加

所定の解像度でラスタライズされたラスターデータに電子変倍処理、つまり、デジタルデータに電子変倍処理を実施することなく、露光装置において、基板上に所望の線幅を有するプリント配線パターンを描画することができる画像記録システム、画像記録方法、変換装置および変換方法を提供することにある。 - 特許庁

The space 8 is a pattern for focus management, having a width less than the resolution of light used for exposure; and when focus exists in a reference range, a shape resulting from the space 8 does not appear in the developed resist layer and when the focus deviates from the reference range, a shape resulting from the space 8 appears in the developed resist layer.例文帳に追加

スペース８は、焦点管理用パターンであり、その幅は露光に使用する光の解像度未満であり、光の焦点が基準範囲内にあるときは、現像後のレジスト層にスペース８に起因する形状が出現せず、光の焦点が基準範囲から外れているときは、現像後のレジスト層にスペース８に起因する形状が出現する。 - 特許庁

To provide a method of producing a protective film for color filter in which a formed coating is smooth and very excellent in transparency, adhesiveness, moisture, chemical and heat resistances, scuffing resistance, etc., a protective film in the unnecessary part can easily be removed by exposure and development and excellence in pattern resolution, development time and residue on development is ensured.例文帳に追加

形成された塗膜が平滑であり、透明性、接着性、耐湿性、耐薬品性、耐熱性、耐傷性等に極めて優れていることに加えて、不要な部分の保護膜を露光・現像によって容易に除去することができ、かつパターン解像性、現像時間及び現像残渣に優れたカラーフィルター保護膜の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide a method for forming an interlayer insulation film and microlenses from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物から層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which, as a chemically amplified resist, is high in transparency to radiation and superior in resolution and is not only superior in dry-etching resistance, sensitivity, and pattern shape or the like, but also remarkably improves the yield of semiconductor elements by suppressing the occurrence of development defects during microfabrication.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、かつ解像度が優れるとともに、ドライエッチング耐性、感度、パターン形状等にも優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥発生を抑制し、半導体素子の歩留りを著しく向上させることができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A multiple patterning process employs a phase change material, portions of which can be converted to an amorphous state and then a remaining portion is selectively removed to provide high resolution pattern features with a feature spacing smaller than, for example, a minimum spacing available in a conventional patterning layer employing a single exposure.例文帳に追加

多重パターニングプロセスで相変化材料を使用し、相変化材料の一部分をアモルファス状態に転化させることができ、次いで残りの部分が選択的に除去され、たとえば単一の露光を使用して従来のパターニング層内で使用可能な最小間隔より小さいフィーチャ間隔を有する高解像度パターンフィーチャをもたらす。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using active light or radiation, particularly electron beams or X-rays and to provide a resist composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a rectangular pattern shape and good edge roughness when electron beams or X-rays are used.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度と、解像性、矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性とを同時に満足するレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The photomask is characterized in that an aperture in the clear field region 1A of a pattern on the photomask causing local flare is covered with a semitransparent film 12 having enough transmittance for complete resolution of a photoresist, while no semitransparent film is formed on an aperture 14 in the dark field region 1B.例文帳に追加

本発明のフォトマスクは、ローカルフレアの原因となるフォトマスク上のパターンのクリアフィールド領域１Ａにおける開口部を、フォトレジストが完全に解像することができる透過率を有する半透明膜１２で覆い、ダークフィールド領域１Ｂにおける開口部１４においては、半透明膜を形成しない構造とすることを特徴としている。 - 特許庁

The resist material containing the nitrogen-containing organic compound provides high resolution and satisfactory mask coverage dependency, is useful in microfabrication using an electron beam or far-ultraviolet radiation, and is suitable for use as a fine pattern forming material for VLSI production.例文帳に追加

（Ｒ^1は両端で結合する窒素原子と共に含窒素へテロ脂肪族環又は含窒素ヘテロ芳香族環を形成する炭素数２〜２０の２価の置換基を表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はハロゲン原子を含んでもよい。Ｒ^2は炭素数２〜１０のカルボニル基を含んでもよいアルキレン基。Ｒ^3は炭素数２２〜５０の水酸基、カルボニル基、エステル基、エーテル基又はシアノ基を含んでもよいアルキル基又はアシル基。） - 特許庁

To provide a process by which thick platings such as bumps and wirings are produced with high precision while a resist shows high swelling resistance to a plating solution and the plating solution is prevented from leaking in between the pattern and substrate, a radiation-sensitive negative resin composition which shows sensitivity suitable for the production process and possesses excellent resolution and heat resistance, and a transfer film including the composition.例文帳に追加

レジストのメッキ液に対する膨潤が少なく、パターンと基板との界面へのメッキ液のしみ出しが抑制され、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度を示し、解像度、耐熱性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can keep both high adhesion to and high peelability from the substrate even in using the substrate for circuit formation having less surface irregularity, and is excellent in plating resistance, etching resistance and resolution, and to provide a photosensitive element using the composition, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

表面の凹凸が少ない回路形成用基板を用いる場合であっても、該基板に対する密着性と剥離特性との双方を高水準で維持することができ、耐めっき性、耐エッチング性及び解像性に優れた感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition suitably used for a surface protective film, an interlayer insulating film, and an insulating film for high-density mounting board, which has high solubility to general solvents and satisfactory sensitivity to g-ray and h-ray, can respond to highly thick application and alkali development, form a pattern of high resolution, and provide a cured product with high film remaining rate.例文帳に追加

一般的な溶剤に対する溶解性が高く、ｇ線、ｈ線に対する感度が良好で、高膜厚塗布及びアルカリ現像が可能であるとともに、解像度の高いパターンを形成することができ、残膜率が高い硬化物を得ることが可能な、表面保護膜、層間絶縁膜、及び高密度実装基板用絶縁膜用途に適した感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a structure in a cell with high definition by decreasing variance in resolution or irregular density of the pattern formed on the exposure face of a photosensitive layer without using a photomask, to provide a structure in a cell with high definition manufactured by the above method for manufacturing a structure in a cell, and to provide a display device using the structure in a cell.例文帳に追加

フォトマスクを用いることなく、感光層の被露光面上に形成される前記パターンの解像度のばらつきや濃度のむらを軽減することにより、セル内構造を、高精細に形成可能な製造方法、及び該セル内構造の製造方法により製造される高精細なセル内構造、並びに該セル内構造を用いた表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition which is suitable for excimer laser lithography with KrF, ArF, etc. is good in various resist performances such as sensitivity and resolution, and suppresses lowering of the smoothness of a pattern wall surface by a stationary wave effect caused particularly in application to a highly reflective substrate or by reduction in the thickness of a resist film.例文帳に追加

ＫｒＦやＡｒＦなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特に高反射基板への適用時に生じる又はレジスト膜厚の薄膜化によって生じる、定在波効果によるパターン壁面の平滑性の低下を改善したポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having excellent sensitivity and resolution of a resist pattern after development, generating little scum in a developing stage, having excellent contrast after exposure, forming peeled pieces having small sizes, giving a cured film having excellent softness and useful as a DFR for the preparation of a substrate for an alkali-developing printed circuit board, a lead frame and a semiconductor package.例文帳に追加

感度及び現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、現像工程におけるスカムの発生が少なく、露光後のコントラスト性に優れ、剥離片サイズが微小であり、硬化膜柔軟性に優れ、アルカリ現像型プリント配線板用、リ−ドフレ−ム用及び半導体パッケ−ジ用の基板作製用ＤＦＲとして有用な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The exclusive setting is: making brightness in reading by a scanner darker than that of general original reading to fix reading resolution to a predetermined value; image processing setting for emphasizing the code pattern by edge emphasis and color processing to exclude image information unnecessary for decoding; increasing a memory reservation amount in a system for job execution; and minimizing compression in primary storage of image data under processing.例文帳に追加

専用の設定とは、スキャナの読取時の明るさを一般原稿読取よりも暗くし、読取解像度を規定値に固定すること、エッジ強調、色処理により符号パターンを強調し復号に不要な画像情報を排する画像処理設定と、ジョブ実行用のシステム内のメモリ確保量を多くし、処理中の画像データ一次保存時の圧縮を最小限にすることである。 - 特許庁

To provide a printing plate which sharply reproduces an edge shape with high resolution through laser irradiation so as to be used specially for a peel-apart printing method, patterns a water-repellent region corresponding to a printing area, and prevents disturbance of an edge shape of an ink pattern formed on the surface of an object to be printed resulting from the fact that a base material is hardly damaged on the laser irradiation.例文帳に追加

特に剥離印刷法に使用すべく、レーザ照射により、高い解像度でもってエッジの形状をシャープに再現しながら、画線部に対応する撥水性の領域をパターン形成できる上、前記レーザ照射の際に基材がダメージを受けにくいため、被印刷体の表面に形成されるインキパターンのエッジ形状が乱れたりしにくい印刷用版を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist material which has an extremely high alkaline dissolution-rate contrast before and after exposure, a high resolution, a high sensitivity, and good roughness (LWR) after exposure, and further which suppresses acid diffusion rate, in particular, a positive type resist material using a high molecular compound suitable as a base resin of a chemical amplification positive type resist material, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、高感度で、露光後のラフネス（ＬＷＲ）が良好であり、その上特に酸拡散速度を抑制できるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a push-button switch keytop capable of finely indicating conventional screen print, a large number of characters and symbols which are difficult in a printing method such as pad printing, and complicated and fine design, pattern, or the like at high resolution, reducing the number of processes, and inexpensively having an excellent design property and image quality; and its manufacturing method.例文帳に追加

従来のスクリーン印刷、パッド印刷等の印刷方式では困難であった多数の文字や記号、複雑で細かな絵柄や模様などを、解像度を高くきれいに表示させることができ、高度な印刷技術等を要求することなく、工程数が削減され、安価にデザイン性や画質に優れた押釦スイッチ用キートップ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma display panel of a small pixel pitch and high resolution by inexpensively providing a translucent electromagnetic wave shielding film having excellent durability and high electromagnetic wave shielding property carrying a continues mesh pattern with reduced production of moire and having small light scattering and high light transmittance with high productivity in a large quantity with reduced loss of a shielding material, and using the translucent electromagnetic wave shielding film.例文帳に追加

モアレの発生が少なく、耐久性に優れ、高い電磁波シールド性を有し、光散乱が小さく高い光透過率を有する連続メッシュパターンを担持した透光性電磁波シールドフィルムを、シールド材料のロスが少ない高い生産性で、安価に大量に提供し、この透光性電磁波シールドフィルムを用いて、画素ピッチの小さな、高解像度のプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive film for circuit formation which does not contaminate a mask since it follows up surface unevenness of a substrate to be laminated well and is very small in the viscosity of a photosensitive layer on a surface coming into contact with a pattern mask, as a photosensitive film for circuit formation which is adaptive to higher density of wiring of a printed wiring board and high resolution.例文帳に追加

プリント配線板の配線の高密度化及び高解像度化に対応した回路形成用感光性フィルムを提供するものであって、ラミネートすべき基板の表面の凹凸に対して追従性が良く、且つパターンマスクと密着する面の感光層の粘着性が極めて小さいため、マスクを汚染しない回路形成用感光性フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition capable of stably forming a resist micropattern high in precision especially, without causing film surface roughness and sensitive to many kinds of radiations and superior in sensitivity, resolution, PED stability, and pattern forms by incorporating a specified copolymer and a radiation sensitive acid generator.例文帳に追加

紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、Ｘ線の如き各種の放射線に有効に感応し、感度、解像度、ＰＥＤ安定性、パターン形状に優れるとともに、特に「ナノエッジラフネス」あるいは「膜面荒れ」を生じることがなく、高精度の微細なレジストパターンを安定して形成することができる化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pigment dispersion achieving excellent pigment dispersion stability even in a case of adding a small amount of a pigment dispersant; a curable composition curable at high sensitivity by exposure and being excellent in developability of unexposed areas; and a color filter having sufficient coloring density even when it is a thin layer and having a color pattern with high resolution; and a solid state imaging element.例文帳に追加

顔料分散剤の添加量が少ない場合においても優れた顔料の分散安定性を達成しうる顔料分散液、顔料の含有量が多い場合であっても、露光により高感度で硬化し、未露光部の現像性に優れた硬化性組成物、及び、薄層であっても十分な着色濃度を有し、高解像度の着色パターンを備えたカラーフィルタ及び固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste for forming a plasma display panel electrode, wherein the photosensitive paste can form a bus electrode of a plasma display panel where a black layer and a conductive layer are integrated, can reduce manufacturing cost and bake at low temperature by reducing usage of a black pigment, can form a high resolution electrode pattern, and can improve degree of blackness of the plasma display panel without increasing resistance.例文帳に追加

黒色層と導電層が一体化したプラズマディスプレイパネルのバス電極を形成することができ、黒色顔料使用量の減少で製造費用節減と共に低温焼成が可能であり、高解像度電極パターン形成が可能であり、抵抗の増加なしにプラズマディスプレイパネルの黒色度を改善させることができるプラズマディスプレイパネル電極形成用感光性ペーストを提供する。 - 特許庁

To provide a photoacid generator for preparing a resist composition forming an excellent pattern shape because of excellent resolution, a wide margin of depth of focus (DOF), a small line edge roughness (LER) and further high sensitivity, and to provide a polymerizable monomer for preparing the photoacid generator in the resist composition composed of a resin having an acid unstable group and functioning as a positive resist, the acid generator and a solvent, etc.例文帳に追加

酸不安定性基を有しポジ型レジストとして機能する樹脂、酸発生剤および溶剤などからなるレジスト組成物において、解像度に優れ、焦点深度余裕（ＤＯＦ）が広く、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が小さく、さらには感度が高いことから優れたパターン形状を形成できるたレジスト組成物を調製するための光酸発生剤およびそれを調製するための重合性単量体を提供する。 - 特許庁

To obtain a photosensitive polyimide precursor composition containing a low toxicity compound having an ethylenically unsaturated group, having superior photosensitive characteristics such as high sensitivity and high resolution and capable of good development with an aqueous alkali solution, to produce a pattern having superior heat and chemical resistances and to obtain electronic parts having enhanced reliability.例文帳に追加

本発明は、従来のものに比べ毒性の低いエチレン性不飽和基を有する化合物を含み、高感度、高解像度などの優れた感光特性を有する感光性ポリイミド前駆体組成物、及び該組成物はアルカリ水溶液で良好な現像が実現でき、優れた耐熱性、耐薬品性を示すパターンが製造可能なパターンの製造方法並びに前記のパターンを有することにより信頼性に優れた電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic latent image developing toner which can output a good gold color in the image formation of an electrophotographic system and can faithfully reproduce intricate electric circuits with high resolution of wiring circuits without the occurrence of an electric conduction defect when used for wiring pattern generation by the electrophotographic system, and to provide a liquid developer containing the toner and an image forming method using the developer.例文帳に追加

電子写真方式の画像形成において、良好な金色を出力することができ、また電子写真方式による配線パターン作成に用いた場合、導通不良を起こさず配線回路の解像度が高く複雑な電気回路を忠実に再現することができる静電潜像現像用トナー、該トナーを含有する液体現像剤、及び該現像剤を用いる画像形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain both a polymer compound useful as a base resin for a positive type resist material and the positive type resist material containing the polymer compound, having excellent uniformity in fine processing, high sensitivity/high resolution, excellent pattern shape, excellent heat resistance film remaining properties, adhesivity to a substrate and storage stability.例文帳に追加

下記構造式（１）で示される繰り返し単位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が１，０００〜３０，０００であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子の一部が１，２−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル基で置換され、かつ残りの水酸基の一部の水素原子が−ＣＲ^１Ｒ^２ＯＲ^３で示される酸不安定基により置換及び／又は−ＣＲ^４Ｒ^５−Ｏ−Ｒ^６−Ｏ−ＣＲ^７Ｒ^８−で示される架橋基により分子内又は分子間で架橋されていることを特徴とする高分子化合物。 - 特許庁