「resolution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of measuring a wavefront error capable of faithfully projecting a pattern formed in a reticle with high resolution to improve a yield of a semiconductor device, and to provide a method of adjusting a wavefront error and a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

レチクルに形成されたパターンを高解像度かつ忠実に投影可能とし、半導体装置の歩留まりを向上させるための波面誤差計測方法、波面誤差調整方法及び半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition superior in characteristics required for sensitivity and resolution and inner pattern profile dimensional stability from exposure process to heating process at the time of using far ultraviolet rays, especially, short wavelength light source, such as excimer laser beams.例文帳に追加

遠紫外光、とくにエキシマレーザー光などの短波長光源の使用に対して感度、解像力、定在波の内パターンプロファイル、露光から加熱工程までの寸法安定性などの必要特性の優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent positive type resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity and high resolution and giving a resist pattern whose profile is rectangular (free from a T-top shape peculiar to a resist for irradiation with electron beams).例文帳に追加

高感度かつ高解像度で、得られるレジストパターンプロファイルが矩形（特に電子線照射用レジストに特有のＴ−ｔｏｐ形状とならない）である、優れた電子線またはＸ線用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive composition for a solid state imaging device allowing pattern formation of a coloring layer having a good spectral characteristic and high resolution; a color filter for a solid state imaging device using the same; and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

分光特性が良好で、かつ解像度の高い着色層のパターン形成ができる固体撮像素子用着色感光性組成物とそれを用いた固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method and a device of simulation capable of designing an aperture so as to obtain an optimum resolution and DOF and a recording medium where the method of simulation is recorded which can be read out by a computer, considering the layout status of a circuit pattern in a photomask.例文帳に追加

フォトマスクの回路パターンのレイアウト状態を考慮し、最適の解像度及びＤＯＦを得るようにアパーチュアを設計できるシミュレーション方法及び装置、及びシミュレーション方法を記録したコンピュータで読み取りできる記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemically amplified resist having high transparency to a radiation, capable of solving the problem of trade-off particularly of resolution and exposure margin, and excellent also in dry etching resistance and a pattern shape.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、特に解像度と露光余裕とのトレードオフの問題を解決でき、しかもドライエッチング耐性、パターン形状等にも優れた化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition that is excellent in fundamental properties of a resist, such as sensitivity and resolution, even if a thin film, is excellent in exposure latitude when a line pattern is formed, and can form a resist film for reducing residues after development.例文帳に追加

薄膜であっても、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際における露光余裕度が優れ、また、現像後の残渣を低減させるレジスト膜を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition having excellent uniform coating property and surface flatness even when the substrate has irregularities as well as excellent developability and forming a high-resolution colored pattern, and to provide a color filter using the composition, and a solid-state image pickup device.例文帳に追加

基板に凹凸がある場合であっても、塗膜の均一性、表面平坦性に優れ、且つ、現像性にも優れる、高解像度の着色パターンを形成しうる着色硬化性組成物、それを用いたカラーフィルタ、及び、固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist material, particularly a chemically amplified positive resist material, having higher sensitivity, resolution, exposure latitude and process adaptability than a conventional positive resist material, ensuring a good pattern shape after exposure and exhibiting excellent etching resistance.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高感度及び高解像度、露光余裕度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a nonlinear element manufacturing method which can perform a patterning finer than resolution of an exposure apparatus used in formation of a resist mask, and which is free from contaminating a film pattern obtained by patterning due to the resist; and to provide an electro-optical device.例文帳に追加

レジストマスクを形成する際に用いる露光装置の解像度によりも微細なパターニングを行うことができ、かつ、パターニングにより得た薄膜パターンがレジストによって汚染されることのない非線形素子の製造方法、および電気光学装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a motion detector capable of enhancing a motion detection accuracy even in a high space frequency range such as the fine part of an image and a fine checkered pattern, and a noise reduction device capable of suppressing the afterimage of a motion part and reducing noise without lowering a resolution.例文帳に追加

画像の細部や細かな市松模様等の空間周波数の高い部分であっても動き検出精度を高めた動き検出装置、および動き部分の残像を抑え、かつ解像度を低下させずにノイズ低減が可能なノイズ低減装置を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent in basic physical properties as a resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, excellent also in shelf stability as a composition and retaining satisfactory adhesiveness to a substrate.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、組成物としての保存安定性にも優れ、また基板に対して十分な接着性を保持した感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a reflecting type exposure mask capable of suppressing a positional deviation of a mask pattern and improving a contrast at a mask examining time with a DUV light without affecting an adverse influence to resolution in the mask used for an EUV lithography.例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィに用いられる反射型露光マスクにおいて、マスクパターンの位置ずれを抑制するとともに、解像度に悪影響を及ぼすことなく、ＤＵＶ光によるマスク検査時のコントラストを向上させることができる反射型露光マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition excellent in resolution of a resist pattern after development while having high sensitivity, excellent also in tenting property of a hardened film and flocculating property during dispersion in a developing solution, and useful as an alkali developable DFR for manufacture of a printed wiring board.例文帳に追加

高感度でありながら現像後のレジストパターンの解像性に優れ、また硬化膜のテンティング性、現像液分散時の凝集性にも優れ、アルカリ現像型プリント配線板作製用ＤＦＲとして有用な光重合性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

When the vertical contour does not exist, a y_r collation searching unit 13 performs vector search for a place matching in pattern on a reference image by using a block composed of intermediate pixels generated from pixels of the image to be enhanced in resolution in the input SBS image.例文帳に追加

垂直輪郭が存在しないときは、ｙ_ｒ照合探索部１３は、入力ＳＢＳ画像の被高解像度化画像の画素から生成した中間画素から構成したブロックを用いて、参照画像上でパターンの一致する場所をベクトル探索する。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition excellent in terms of resolution, adhesion and adhesive strength while it has a adequately reduced moisture permeability and moisture absorbing property and to provide a photosensitive element using the same and a resist pattern formation method and a method for adhesion of a material to be adhered.例文帳に追加

透湿率、吸湿率を充分に低く抑えつつ、解像性、密着性、接着強度に優れた感光性接着剤組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び被接着部材の接着方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition which has a higher content of pigments, or is highly sensitive, has a high film remaining rate even if the film is thick, and is excellent in linearity, pattern shape, resolution, developing resistance, and chemical resistance, and also to provide a color filter using the composition.例文帳に追加

顔料含有量が高い、あるいは膜厚が厚くとも、高感度で残膜率が高く、且つ直線性、パタ−ン形状、解像度、現像耐性、薬品耐性が優れた感光性着色組成物、およびそれを用いたカラーフィルタの提供すること。 - 特許庁

Thus, the imaging apparatus can employ a photographing method whereby the imaging apparatus ordinarily carries out color photographing using R, G, B colors and executes monochromatic photographing with high resolution using only the green wavelength region in the case of reading a fine image pattern with a high density such as the QR code.例文帳に追加

これにより、通常はＲ，Ｇ，Ｂの各色によるカラー撮影を行い、ＱＲコードのような細かく密度の高い画像パターンを読み取る場合には、緑色波長域のみを用いた解像度の高いモノクロ撮影を行うような撮影方法が可能となる。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an excellent in resolution such as a critical dimension with no bridge defects, LWR and DOF, and having favorable sensitivity and PED stability; and to provide a resist film using the composition, and a pattern forming method.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ＬＷＲ及びＤＯＦに優れると共に、感度及びＰＥＤ安定性も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a highly sensitive and high-resolution positive type photosensitive resin composition which is excellent in hardening film property, and which is characterized by the fact that it causes little decrease in the film thickness or no loss of the pattern shape and that there is no scum of the photosensitive resin composition remaining in the exposure part.例文帳に追加

本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、膜減りが少なく、パターン形状の崩れがなく、更に露光部の感光性樹脂組成物の残り（スカム）がない特性を有する高感度で高解像度、かつ硬化膜物性に優れるものである。 - 特許庁

To provide a stable photosensitive resin composition capable of retaining the tack-freeness of a photosensitive resin dry film in warming by the effects of remaining heat after drying, a temperature rise due to exposure, etc., capable of undergoing contact exposure through a mask pattern and having high sensitivity, high adhesion and high resolution.例文帳に追加

乾燥後の余熱、露光による温度上昇等の影響による加温時の感光性樹脂乾燥膜のタックフリー性を維持でき、マスクパターンの密着露光が可能で、高感度、高密着性、高解像性で安定な、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition achieving formation of a negative resist film that effectively responds to (extreme) far UV light of a KrF excimer laser, ArF excimer laser or the like, has excellent nano-edge roughness, sensitivity and resolution, and enables a fine pattern with high accuracy stably to be formed.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー等の（極）遠紫外線等に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能なネガ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a method for easily manufacturing an optical waveguide with good accuracy and with sufficient mass-productivity by using an electrodeposition process or an optical electrodeposition process by which a fine pattern having excellent resolution can be easily formed and little harmful waste liquid is produced, and its manufacturing apparatus.例文帳に追加

解像度に優れた微細パターン形成を簡易に行なえ、有害廃液が少ない、電着法または光電着法を用いることにより、精度のよい光導波路を簡易にまた量産性よく作製する方法およびその装置を提供すること。 - 特許庁

To obtain a compsn. for forming an inorg. antireflection film capable of forming an antireflection film having a high antireflection effect and excellent in adhesiveness and adhesion to a resist film by an easy spin coating method and capable of forming a resist pattern excellent in resolution and precision.例文帳に追加

簡便な回転塗布法により、反射防止効果が高く、かつレジスト膜との接着性、密着性に優れる反射防止膜を形成でき、しかも解像度、精度に優れるレジストパタ—ンを形成できる無機系反射防止膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To stabilize an uneven pattern equal to or smaller than a diffraction limit by specifying conditions for stably patterning a photoresist layer when utilizing a hyper-resolution for an exposure beam in a method for forming fine patterns with contrast enhancement photolithography.例文帳に追加

コントラスト増強フォトリソグラフィ法で微細パターンを形成する方法において、露光ビームに超解像を利用する際に、フォトレジスト層に安定したパターン形成を行なうための条件を規定することにより、回析限界以下の凹凸パターン形状を安定させる。 - 特許庁

Since the transmitting null direction and the receiving null direction are independently controlled in directional pattern of transmitting and receiving beams, the targets in the total number of transmitting null number and receiving null number can be detected simultaneously with high azimuth resolution.例文帳に追加

このように、送信ビーム及び受信ビームの指向性パターンにおける送信ヌル方向及び受信ヌル方向を独立に制御しているため、送信ヌル数と受信ヌル数とを合計した数の物標を同時に且つ高い方位分解能にて検出することができる。 - 特許庁

An intermediate layer having a light degrading activity is provided between the base layer and the uppermost layer to improve the resolution of a water repellent/hydrophilic pattern, and selective decomposition is performed to impart hydrophilicity to the surface layer having the water repellency by light irradiation through a photomask.例文帳に追加

撥水／親水パターンの解像度を向上させるため、光分解活性を有する中間層を下地層と最上層の間に設け、フォトマスクを介した光照射による撥水性を有する表面層の選択的分解、親水化を可能とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a circuit board in which a metal pattern can be obtained selectively even on a high density circuit board by solving the problems of resolution in resist, limit of thinning of a film, and alignment.例文帳に追加

本発明の課題は、レジストにおける解像性及びフィルム薄膜化の限界、アライメント問題を解決し、高密度化された回路基板においても選択的に金属パターンを得ることができる回路基板の製造方法を提供することが本発明の課題である。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist material having high resolution, wide exposure latitude, a small difference in dimension between thinness and denseness, process adaptability, a good pattern shape after exposure and excellent etching resistance.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さく疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

In an image analyzing apparatus 100, the image of a chart picked up by using the lens barrel 200 is taken in to calculate line width and contrast of a wedge pattern on the chart image, and the number of critical TV resolution stripes is calculated on the basis of these calculation results.例文帳に追加

画像解析装置１００は、鏡筒２００を使用して撮像したチャートの画像を取り込んで、チャート画像上のくさびパターンの線幅、およびコントラストを算出し、これらの算出結果に基づいて限界ＴＶ解像縞本数を算出する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation and useful as a chemically amplified resist excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity and resolution, and excellent also in pattern shape, uniformity in film thickness and storage stability.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、パターン形状、膜厚均一性および保存安定性にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain an electron beam drawing apparatus, where an electron beam is capable of reaching to a shutoff stop edge passing through a distance much smaller than a total deflection amplitude at shutoff and deflection of a beam, a time required for shutting off a beam is markedly shortened, and a drawing pattern is improved in resolution.例文帳に追加

ビーム遮断偏向時の全偏向振幅よりはるかに小さい距離で遮断絞りエッジにビームを到達させ、ビーム遮断までの時間を大幅に短縮して描画パターンのエッジ解像度を向上させることができる電子ビーム描画装置を実現する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has high sensitivity for direct drawing exposure and which has favorable resolution, adhesion and peeling property, and to provide a photosensitive element, a resist pattern forming method, and a method for manufacturing a printed wiring board which uses the photosensitive resin composition.例文帳に追加

直接描画露光においても高感度であり、解像度、密着性及び剥離特性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a projection aligner, which corrects the irrotational symmetric property of the optical characteristics of a lens that accompanies a thermal change in the lens due to the absorption of exposure light by an aligner using a step-and scan system and can obtain a high-resolution pattern image, and to provide a method of manufacturing a device using the projection aligner.例文帳に追加

ステップアンドスキャン方式を用いた露光装置で露光光吸収によるレンズの熱的変化に伴う光学特性を補正し、高解像度のパターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and its method wherein various conditions in exposure, such as exposure power, stage speed, and the depth of focus can be set optimally, in response to resolution required for formation of photosensitive characteristics or a pattern of a photosensitive substrate.例文帳に追加

感光性基板の感光特性又はパターンを感光性基板に形成する上で必要とされる解像度に応じて、露光パワー、ステージ速度、及び焦点深度等の露光における諸条件を最適に設定することができる露光装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resist composition capable of forming a resist pattern high in resolution and good in sectional forms and high in transmittance of F2 laser beams and suitable for a lithographic process of forming ultra-fine resist patterns having ≤0.15 μm by using F2 laser beams.例文帳に追加

高解像性で断面形状の良好なレジストパターンが形成可能であり、またＦ_2レーザーに対する透過性が高く、Ｆ_2レーザーを用いる０．１５μｍ以下の超微細レジストパターン形成のリソグラフィープロセスに有効な感放射線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The contact hole 12 is formed by exposing the organic film 8 formed on the insulating film 7 by using a mask provided at an aperture part 20 corresponding to the contact hole 12 and at the peripheral part of the aperture part 20 and having a slit pattern 21 having the width not wider than the resolution of an exposing device.例文帳に追加

コンタクトホール１２が、絶縁膜７の上に形成された有機膜８をコンタクトホール１２に対応する開口部３０及び開口部２０の周辺に設けられ露光装置の解像度以下の幅のスリットパターン２１を有するマスクを用いて露光されている。 - 特許庁

To solve the problems of a performance-improving the technique for microfabrication of a semiconductor element or the like that uses ultraviolet radiation, excimer laser light, an electron beam or the like, and to provide a positive photosensitive composition, having high sensitivity and high resolution and satisfying a good pattern profile.例文帳に追加

紫外線、エキシマレーザー光、電子線等を使用する半導体素子等の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度かつ高解像性、良好なパターン形状を満足するポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

One periodic pattern of the halftone screen at an optional screen angle when the resolution in the main scanning direction and the vertical scanning direction of the output equipment is different by rearranging a threshold so that thresholds in all the coordinates of the area become continuous, is prepared.例文帳に追加

前記領域の全座標における閾値を連続する閾値となるように閾値を再配置することで、出力機器の主走査方向と副走査方向の解像度が異なる場合の任意のスクリーン角度におけるハーフトーンスクリーンの１つの周期パターンを作成する。 - 特許庁

The scanning line converter disclosed herein provides a moving picture with higher accuracy, more improved stability and higher resolution by adding a discrimination condition as to whether inter-field embedded video signals form a checkered pattern to the conventional motion detection and edge detection.例文帳に追加

従来の動き検出およびエッジ検出に加えて、フィールド間のはめ込み映像信号が市松状パターンになるかどうかを判定条件に付加することにより、より正確かつ安定で解像度の高い動画像を提供する走査線変換装置を提供する。 - 特許庁

To simultaneously expose an image with high sensitivity (for example, a print pattern image requiring high resolution) and an image with low sensitivity (for example, a through hole image where the inner wall and peripheral edge of the through hole is required to be protected with copper foil) by using a recording medium having a multilayer photosensitive layer applied thereon.例文帳に追加

重層感光層が塗布された記録媒体を用いて、高感度部画像（例えば、高解像度が必要なプリントパターン部画像）と、低感度部画像（例えば、スルーホール内壁及び周縁の銅箔保護が必要なスルーホール部画像）と、を同時に露光する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition, sensitive particularly o far UV and charged particle beams, such as electron beam, having superior resolution and pattern shape and suitable particularly for use as a chemical amplification type resist which has small nano-edge roughness.例文帳に追加

特に、遠紫外線や、電子線等の荷電粒子線に感応し、解像性能およびパターン形状が優れるとともに、特にナノエッジラフネスが小さい化学増幅型レジストとして好適に使用することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition capable of forming a resist pattern good in sensitivity and resolution at the time of using an exposure light of ≤250 nm, especially, ≤220 nm, and by using a specified resin which has repeated units and is decomposed by acid to increase solubility to alkaline developing solution.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特に２２０ｎｍ以下の露光光源の使用時に、良好な感度及び解像度で、密着性に優れた現像欠陥の少ないレジストパターンを与え、更に充分な耐ドライエッチング性を示すポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

Introduction of the multi- dimensional beam pattern establishes the base of a 3D ultrasound imaging system comprising a small multi-dimensional sensor layout and a device to be arranged at site, and a three-dimensional image with high resolution is generated in real time.例文帳に追加

本発明に従った多次元ビームパターンを導入すると、小型多次元センサ配列と現場に配備できる小型処理装置とからなる本発明に従った３Ｄ超音波映像システムの基盤となり、リアルタイムで高解像度の３次元映像を生成する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a mask by which defects in a fine pattern and a hole on a mask for exposure with charged particle rays are accurately detected and to provide an apparatus for inspecting a mask capable of shortening inspection time while ensuring high resolution.例文帳に追加

荷電粒子線露光用のマスク上の微小なパターンやホールの欠陥を高精度に検出するマスク検査方法を提供すると共に、高解像度でありながら検査時間の大幅な短縮が可能なマスク検査装置を提供することを課題とする。 - 特許庁