「resolution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a polymer compound which enables to obtain a highly sensitive photoresist composition which forms a fine pattern with excellent resolution and good rectangular shape and is capable of obtaining good resist characteristics even when the acid generated by an acid generator is weak.例文帳に追加

解像性に優れ、矩形性が良好な微細パターンを形成でき、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物等の提供。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type radiation sensitive resist composition which has high sensitivity and high definition to radiation including electron beams, is free of swelling and has high resolution and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

電子ビームを含む放射線に対して高い感度、高い解像度を有する膨潤のない解像性能の優れた化学増幅型感放射線レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an alkali developing type photosensitive resin composition having sufficient photopolymerizing property, excellent adhesiveness with a substrate, giving a pattern with high resolution when used for photolithography, and having excellent printing property and debinder property during calcining.例文帳に追加

十分な光重合性を有し、基板との密着性に優れ、フォトリソグラフィー法に用いた場合に解像度が高いパターンが得られ、印刷性と焼成時の脱バイ性に優れたアルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a negative type pattern which is transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light, does not swell while having such a chemical structure as to ensure high dry etching resistance and has superior resolution.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmを含む遠紫外線領域で透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developable colored photosensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, adhesion and alkali resistance and capable of accurately forming a fine pattern, and a color filter using the alkali developable colored photosensitive resin composition.例文帳に追加

感度、解像度、密着性、耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できる着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物、及び該着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a negative type pattern free of swelling and excellent in resolution while having a chemical structure transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser beam and having high dry etching resistance.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線領域において透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a resist pattern forming method capable of improving the sensitivity without deteriorating the resolution in lithography of a resist film with an ArF excimer laser, an F_2 excimer laser, an EUV, an electron beam, and the like.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_２エキシマレーザー、ＥＵＶ又は電子線等によるレジスト膜のリソグラフィーにおいて、解像性を損なわずに感度を向上させることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供できる。 - 特許庁

To provide a method for easily measuring a flare rate at a manufacture site so as to solve the problems of the dimensional changes in the patterns, or reduction in the limit resolution caused by flares in an exposure device accompanying a finer semiconductor pattern.例文帳に追加

半導体パターンの微細化にともなって露光装置のフレアによりパターン寸法変化や限界解像度の低下をもたすという問題が顕在化し、製造現場においてフレア率を簡単に測定できる方法が望まれる。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition for silica glass optical waveguide formation capable of forming a cured product which avoids thermal deformation of pattern shape in dry etching and baking (has excellent heat resistance) and has excellent resolution.例文帳に追加

ドライエッチングやベーキングのときパターン形状が熱により変形せず（耐熱性に優れ）、解像性に優れた硬化物を形成することができる石英系ガラス光導波路形成用ネガ型感光性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is useful for producing electric/electronic materials, is excellent in elongation, heat resistance, chemical resistance, and water-resistant adhesiveness, gives a high-resolution polyimide pattern, and has a high storage stability.例文帳に追加

電気・電子材料の製造に有用な、高伸度であり、高い耐熱性、高い耐薬品性、耐水接着性を合わせ持ち、かつ高い解像度のポリイミドパターンを与え、かつ保存安定性が高い感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in resolution, chemical resistance (plating resistance), adhesion property, mechanical strength and flexibility, and to provide a photosensitive element, a method for manufacturing a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board using the above composition.例文帳に追加

解像度、耐薬品性（耐めっき性）、密着性、機械強度及び柔軟性が優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a projection aligner capable of selecting an optimum illumination system by the direction and line width, etc., of a pattern shape, and performing the projection alignment of a high resolution and suitable for manufacturing a semiconductor element, and to provide a method for manufacturing the semiconductor element.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

In a screen processing section 17, a screen pattern is applied to the image to be processed to which averaging processing has been applied and which has been further converted into the resolution R2, at the same or approximately same cycle as that of the averaging processing and screen processing is applied thereto.例文帳に追加

平均化処理され、さらに解像度Ｒ２に変換された処理対象画像に対し、スクリーン処理部１７では前記平均化処理と同一又は略同一の周期でスクリーンパターンを適用し、スクリーン処理を施す。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a radiation, excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution and pattern shape, and useful particularly as a chemically amplified resist excellent in focus latitude.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、特にフォーカス余裕に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having excellent sensitivity, resolution and adhesion property as a mask material for sand blasting with which a fine pattern can be worked with high yield in a base material to be worked, and to provide a method of sand blast surface working by using the laminate.例文帳に追加

感度、解像度、密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a projection aligner and a method for fabricating a semiconductor element suitable for fabrication of such a semiconductor element as high resolution projection alignment is ensured by selecting an optimal illumination system depending on the direction, line width, and the like, of a pattern shape.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

To produce a composition for the underlayer film of a resist excellent in the reproducibility and resolution of a resist pattern when the composition is kept warm over a long period of time and excellent also in adhesion to the resist and resistance to a developing solution used after the exposure of the resist.例文帳に追加

組成物を長期保温した場合のレジストパターンの再現性や解像度に優れ、レジストとの密着性に優れ、レジストを露光した後に使用する現像液に対する耐性に優れたレジスト下層膜用組成物に関する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having good resolution performance and being excellent particularly in property of uniformly forming a resist pattern and in mask reproducibility, and to provide a polymer suitably used in the radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

良好な解像性能を有し、特に、レジストパターンの均一形成性及びマスク再現性にすぐれた感放射線性樹脂組成物及びその感放射線性樹脂組成物に好適に用いられる重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in resolution, developability, heat resistance, pattern shape, margin for exposure and focus latitude, having good balance of these characteristics and suitable for use as a positive type resist.例文帳に追加

本発明は、解像度、現像性、耐熱性、パターン形状、露光マージン及びフォーカス許容性の各特性に優れるとともに、これらの特性のバランスが良く、ポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an analog-digital conversion circuit that can easily revise the design of a layout pattern to revise a resolution in a short time and to provide a layout generating method, a layout generator and a layout generating program.例文帳に追加

分解能の変更のためのレイアウトパターンの設計変更を容易かつ短時間に行うことができるアナログ−デジタル変換回路、レイアウト作成方法、レイアウト作成装置およびレイアウト作成プログラムを提供することである。 - 特許庁

To provide a multibeam scanning image forming apparatus in which resolution can be enhanced by pattern matching without causing complication of the circuitry for processing image data, increase in load or enlargement of memory size.例文帳に追加

画像データの処理に係る回路構成の複雑化や負荷の増大、さらにはメモリサイズの拡大などを招くことなく、パターンマッチング法による解像度エンハンスを実現することができるマルチビーム走査方式の画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Particularly, the high-resolution pattern of an organic luminescent layer can be obtained when the organic luminescent ink 22 constituted by dissolving or dispersing an organic luminescent material in the solvent is printed onto the substrate to be printed by the offset printing method.例文帳に追加

特に、有機発光材料を溶剤に溶解または分散させてなる有機発光インキ２２をオフセット印刷法によって被印刷基板上に印刷した際に、高精細な有機発光層のパターンを得ることができる。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive photoresist composition for a thick film suitable for use in the production of a connecting terminal, etc., having a high film retention in development, and excellent in resolution, and a method for producing a thick film resist pattern.例文帳に追加

接続端子などの製造に好適に用いることができ、かつ現像時の残膜率が高く、解像性に優れた厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for formation of an antireflection film having a high antireflection effect, causing no intermixing, and capable of forming a resist pattern excellent in resolution, accuracy or the like, and to provide an antireflection film formed from the composition.例文帳に追加

反射防止効果が高く、インターミキシングを生じることがなく、解像度および精度などに優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成組成物およびそれから形成された反射防止膜を提供すること。 - 特許庁

This image display device is provided with an acquisition mean 2 for acquiring display resolution per unit length and an arithmetic unit 5 for calculating a display pattern in actual size, and displays characters and an image in actual size even when a screen of the display device 1 differs in size.例文帳に追加

単位長さ当りの表示解像度の取得手段２と実寸での表示パターンを算出する演算装置５とが設けられており、表示装置１の画面サイズが異なる場合にも、文字および画像が実寸で表示される。 - 特許庁

To provide a method by which resist resolution is stably ensured with laser light in production of a printed circuit board or a package substrate requiring a finer pattern, and by which a smooth resist side wall with good rectangularity of the resist is obtained.例文帳に追加

微細パターン化が進行するプリント基板、パッケージ基板の製造において、レーザー光において安定的にレジスト解像性を得られ、かつ、レジストの矩形性が良く、滑らかなレジスト側壁が得られるような手法を提供する。 - 特許庁

A lattice pattern having fine resolution features reaching the limit of optical exposure is obtained rapidly by utilizing high dissolubility to developer of multi-exposed parts 10 and non-dissolubility to developer of the non-exposed parts 13.例文帳に追加

多重露光部１０の現像液への高い溶解特性、または非感光部１３の現像液への非溶解性を利用して、高速性とともに、光学露光法の限界に達する微細解像特性をもつ格子パターンが得られる。 - 特許庁

The projection type video display device adjusts forms of the first region and the second region in the focus adjusting pattern so that at least one of resolution and a contrast of the brightness becomes uniform in the picked-up image.例文帳に追加

投写型映像表示装置は、撮像画像内で明度の分解能およびコントラストの少なくとも一方が均一となるように、フォーカス調整用パターンにおける第１の領域および第２の領域の形態を調整する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing magnetic recording medium which can transfer a high-resolution pattern functioning as a starting point for forming anodized alumina nanoholes and a magnetic recording medium which has a large capacity and achieves high-density recording.例文帳に追加

陽極酸化アルミナナノホールの形成用起点として機能し得るパターンを高精細に転写可能で、生産性に優れた磁気記録媒体の製造方法、及び大容量で高密度記録が可能な磁気記録媒体の提供。 - 特許庁

To provide a method for controlling printing whereby an optimum dot pattern can be selected at a printing time for every resolution by reducing a data amount without damaging the appearance, outputting can be made efficient as a whole, and more natural images can be outputted.例文帳に追加

本発明は、見た目を損なうことなくデータ量を削減し、解像度毎に印刷時に最適なドットパターンを選択することでき、出力全体の効率化が可能となると共により自然な画像を出力できる。 - 特許庁

To provide a method for producing a positive photosensitive resin composition which is developed with an alkaline aqueous solution in a short time, is produced in commercial production facilities, and forms a pattern having high resolution and high film thickness retention.例文帳に追加

アルカリ水溶液による短時間での現像が可能であり、量産設備で製造が可能で、かつ高解像度で膜厚保持率の高いパターンを形成できるポジ型感光性樹脂組成物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a new base resin for a positive type resist giving a radiation sensitive chemical amplification type positive resist composition having high sensitivity and high resolution, ensuring good heat resistance, good focal depth-width characteristics, good aging stability relating to pattern form and good shelf stability of a resist solution and capable of forming a resist pattern having no substrate dependency and excellent in profile shape.例文帳に追加

高感度、高解像性を有し、かつ耐熱性、焦点深度幅特性、引置き経時安定性及びレジスト溶液の保存安定性がよく、基板依存性がなくプロファイル形状の優れたレジストパターンを形成できる、放射線に感応する化学増幅型のポジ型レジスト組成物を与える新規なポジ型レジスト用基材樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition and a pattern formation method which simultaneously satisfy sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance in lithography adopting, as an exposure light source, especially an electron beam, x-rays or EUV light.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has proper storage stability, avoids odor annoyance, ensures proper solvent resistance and satisfactory surface smoothness of a cured resin pattern formed therefrom, does not cause coating defects, such as a granular foreign substance, has a high resolution for forming a fine pattern, and can form a photospacer with a superior recovery rate.例文帳に追加

良好な貯蔵安定性で、臭気問題がない感光性樹脂組成物であり、形成した硬化樹脂パターンの耐溶剤性が良好で、表面平滑性に優れ、粒状異物等の塗布欠陥が発生せず、微細パターンが解像可能で、回復率に優れたフォトスペーサーを形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive conductive film capable of simply and conveniently forming a conductive pattern, having full adhesiveness with a substrate and full small surface resistivity on the substrate with full resolution, and provide a forming method of a conductive membrane, using the photosensitive conductive film, and the forming method of the conductive pattern, and to provide a conductive film substrate.例文帳に追加

基板上に、基板との接着性が十分であり且つ表面抵抗率が十分小さい導電パターンを十分な解像度で簡便に形成することを可能とする感光性導電フィルム、並びに、この感光性導電フィルムを用いた導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基板を提供する。 - 特許庁

Then, based on drawing positions of the line drawing that the line-drawing drawing instructions represent, the print data generation device 100 specifies contour pixels constituting a contour of the line drawing among the plurality of pixels constituting the raster data, and also specifies, for each of the contour pixels, contour pattern information representing an arrangement pattern of pixels reproducing a contour of higher resolution in the contour pixels.例文帳に追加

そして、線画描画命令が表す線画の描画位置に基づき、ラスターデータを構成する複数の画素のうち、線画の輪郭を構成する輪郭画素を特定し、この輪郭画素のそれぞれについて、輪郭画素内に高解像度化された輪郭を再現する画素の配置パターンを示す輪郭パターン情報を特定する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness (LER) and good dependence on a density distribution particularly in lithography using electron beams, X-rays or EUV light as an exposure light source, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス（Line edge roughness: LER）、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can simultaneously satisfy the requirements for high sensitivity, high resolution, desirable pattern configuration, desirable line edge roughness and desirable iso/dense bias in especially lithography using an electron beam, X-rays or EUV light as an exposure radiation source, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist material such as a chemically amplified resist material for providing an excellent pattern profile even at a substrate interface, in addition to a higher resolution in photolithography for micro-fabrication, and particularly in photolithography adopting, as an exposure source, KrF laser, ArF laser, F_2 laser, ultra-short ultraviolet light, electron beam, X-rays, or the like; and a pattern forming method utilizing the resist material.例文帳に追加

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、Ｆ_２レーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性と共に、基板界面においても良好なパターン形状を与える化学増幅レジスト材料等のレジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition excellent in temporal stability after prepared and showing a small variation in pattern line width due to variation in exposure energy, a color filter excellent in hue and resolution and having a good pattern profile, and a method for producing a color filter by which the above color filter can be produced with high productivity (high cost performance).例文帳に追加

組成物作成後の経時安定性に優れ、かつ露光量変動によるパターン線幅変動の割合が小さい染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、色相及び解像力に優れ、パターン形状が良好なカラーフィルタ及び該カラーフィルタを高い生産性（高いコストパフォーマンス）にて作製し得るカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polymerizable composition which has high light-shielding properties in an infrared region and high translucency in a visible light region, and with which a pattern having excellent resolution in alkali development can be formed, and which has excellent temporal stability, as well as photosensitive layer, a permanent pattern, a wafer level lens, a solid state imaging element and a pattering method using the composition.例文帳に追加

赤外領域における遮光性が高く、可視光領域における透光性が高く、かつ、アルカリ現像による解像性に優れたパターンを形成可能であり、更には、経時安定性に優れた重合性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using an electron beam, X-ray or EUV light and simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness, high contrast, prevention of conversion to a negative resist composition, and surface roughness, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、高コントラスト、ネガ化防止、表面ラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition used in a process for manufacturing a semiconductor such as IC, in manufacture of a circuit substrate of a liquid crystal, a thermal head or the like, and further in another photofabrication process and a pattern forming method using the same, and to provide a photosensitive composition excellent in resolution and line edge roughness and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a conductive pattern material, having a wide range of applications which can attain high-resolution minute patterns, even when applied to the formation of a wiring, etc., using a plurality of different materials without necessitating complicated processes or expensives devices, and can directly form a pattern on a substrate based on digital data with superior conductivity and durability.例文帳に追加

複雑な工程や高価な装置を必要とせず、複数の異なる材料を用いた配線などの形成に適用した場合にも、高解像度の微細なパターンが得られ、且つ、デジタルデータに基づき基材上に直接パターン形成が可能な、優れた導電性と耐久性とを有する応用範囲の広い導電性パターン材料を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask blank which is capable of shortening the dry-etching time by increasing the dry-etching speed of a light shielding film, reducing the film reduction of a resist film, improving resolution and pattern accuracy (CD accuracy) by reducing the thickness of the resist film, and forming a light shielding film pattern having a good cross-sectional shape due to the reduction of the dry-etching time.例文帳に追加

遮光膜のドライエッチング速度を高めることで、ドライエッチング時間が短縮でき、レジスト膜の膜減りを低減することができ、レジスト膜を薄膜化して解像性、パターン精度（ＣＤ精度）を向上でき、ドライエッチング時間の短縮化による断面形状の良好な遮光膜のパターンが形成することができるフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁