「resolution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a mask for exposure which is used for forming a pattern by utilizing an action of a photocatalyst by an energy irradiation, and has a photocatalyst containing layer capable of forming patterns different in characteristic efficiently with high resolution.例文帳に追加

本発明は、エネルギー照射に伴う光触媒の作用を利用してパターンを形成する際に用いられ、特性の異なるパターンを効率的に、また高解像度で形成することが可能な、光触媒含有層を有する露光用マスクを提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition prevented from occurrence of change of the line width of a resist pattern by PED and that of T forms and that of stationary waves even on a substrate high in reflectance and high in resolution and useful as a chemically sensitizable resist.例文帳に追加

ＰＥＤによりレジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、反射率の高い基板上でも定在波を発生することがなく、解像性能に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a projection aligner for controlling the image formation characteristic variation of a projection optical system due to exposure heat within an allowable value, and for easily obtaining a pattern with high resolution without extremely deteriorating productivity, and to provide a method for manufacturing a device by using this.例文帳に追加

本発明は、露光熱による投影光学系の結像特性変動が許容値を越えないように制御し、生産性を著しく低下させることなく高解像度のパターンが容易に得られる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve conventional problems in conventional three-dimensional computer graphics (3DCG) wherein input operation is complicated and adjustment is difficult, and there are limitations on resolution of a grating pattern, an amount of reading, fixation of size, and images simultaneously usable by performing processing using texture mapping function on 3DCG.例文帳に追加

３次元コンピュータグラフィックス(３ＤＣＧ)上で、テクスチャマッピング機能を利用した処理を行うことにより、従来のグレーティングパターンの解像度、読み込み数の制限、サイズの固定、同時に使える画像の制限など、入力操作が煩雑で、調整が困難な問題点を解決する。 - 特許庁

To provide a resin for a resist usable in a photosensitive composition excellent in transparency to short wavelength light, having high dry etching resistance and capable of forming a resist pattern having good resolution and high adhesion by alkali development and a monomer for producing the resin.例文帳に追加

短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で解像性の良好で密着性の高いレジストパターンを形成することができる感光性組成物に用いることができるレジスト用樹脂およびそれを製造するためのモノマーの提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having good sensitivity, resolution, adhesion and tent reliability, and excellent in scum dispersibility and suppression of occurrence of sludge in a developer, and also to provide a photosensitive element using the same, a resist pattern forming method, and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

感度、解像度、密着性及びテント信頼性が良好であり、現像液におけるスカム分散性及びスラッジの発生低減に優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a negative photoresist composition with which good resolution is obtained in a pattern forming method in which an underlayer film is disposed on a substrate, a photoresist film comprising a negative photoresist composition is disposed on the underlayer film, and after selectively exposing the photoresist film, the underlayer film and the photoresist film are simultaneously developed.例文帳に追加

基板上に下層膜を設け、該下層膜上にネガ型ホトレジスト組成物からなるホトレジスト膜を設け、該ホトレジスト膜を選択的露光後、該下層膜と該ホトレジスト膜を同時に現像処理するパターン形成方法において、良好な解像性が得られるネガ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To solve problems relating to the techniques for improving the performance in microfabrication of a semiconductor device using high energy rays, X rays, electron beams or EUV light, and to provide a positive resist composition satisfying requirements of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable line edge roughness.例文帳に追加

高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, capable of securing flame retardancy without having to use a halogen-based flame retardant and superior in resolution, resistance to electrolytic corrosion, and storage stability, and a photosensitive film that uses the composition, and to provide a method of forming resist pattern, a printed wiring board, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ハロゲン系難燃剤を用いずに難燃性を確保することができ、更に、解像性、耐電食性及び保存安定性に優れた感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resists pattern forming method capable of obtaining the resist patterns of high accuracy while preventing the degradation in resist resolution even near level differences or on high-reflection surfaces, a frame plating method using the resist patterns formed by this method and a method for manufacturing thin-film magnetic heads.例文帳に追加

段差近傍においても、また高反射面上であってもレジスト解像度の低下を防止でき、高精度のレジストパターンを得ることができるレジストパターン形成方法、この方法によって形成したレジストパターンを用いたフレームめっき方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

Therein, the photomask 2 where one part or all of the pitch of the opening pattern is larger than the resolution limit of an aligner is used, the wafer 21 coated with the photoresist is moved in parallel to the optical axis of the exposure device near the focus position of the objective lens 3 and are subjected to the exposure on plural positions.例文帳に追加

この際、開口パターンのピッチの一部もしくは全てが露光装置の解像限界よりも大きいフォトマスク２を使用し、フォトレジストの塗布された基板２１を、対物レンズ３の焦点位置付近で露光装置の光軸に対して平行に移動させて、複数の位置で露光を行なう。 - 特許庁

Since a pattern of a barrier rib for a plasma display panel having high resolution and high precision can be made by only a single exposure to light, and a barrier rib having a higher reflectance than a conventional barrier rib can also be provided, a plasma display panel having a high luminance can be prepared.例文帳に追加

本発明によれば、１回の露光のみで高解像度及び高精密のプラズマディスプレイパネル用の隔壁パターンを製造できるだけでなく、既存の隔壁に比べて高い反射率を有する隔壁を提供できるため、高い輝度を有するプラズマディスプレイパネルを製造できる。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a preferable pattern profile and a decrease in microbridges by solving problems related to the techniques for improving the performance in microfabrication of a semiconductor device using high energy beams, in particular, electron beams, X rays or EUV light.例文帳に追加

高エネルギー線、特に電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、マイクロブリッジ低減を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a printing ink composition which has excellent surface smoothness, improved dimensional accuracy of high-resolution pattern and shape and finely stabilizes pigment and to provide a method for producing a color filter having similar properties by using the printing ink composition.例文帳に追加

表面平滑性が良好で、かつ高精細なパターンの寸法精度及び形状を向上させることができ、さらに顔料の微細安定化が可能である印刷インキ組成物および、該印刷インキ組成物を用いて、同様の特性を有するカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

From coordinate data of a graphic of a pattern for drawing on a substrate, the sampling points for determining the necessity of drawing is periodically changed for each exposure region (2a) of the size of the resolution to generate drawing data and the resulting drawing data is supplied to a driving circuit (27) of the light beam irradiation device.例文帳に追加

基板に描画するパターンの図形の座標データから、描画の要否を判定するサンプリング点を解像度の大きさの露光領域（２ａ）毎に周期的に変動させて、描画データを生成し、生成した描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路（２７）へ供給する。 - 特許庁

To increase contrast, and resolution, and enlarge the margin of the quantity of exposure, by adjusting the quantity of auxiliary exposure, according to the density of patterns, in a scattering angle limitating system of an electron beam exposure method which performs the proximity effect correction by a ghost method at the same time with pattern exposure.例文帳に追加

ゴースト法による近接効果補正をパターン露光と同時に行う散乱角制限方式電子線露光方法において、パターン密度に応じて補助露光量を調整することにより、コントラストを増大させ、解像度を向上し、露光量マージンを大きくすることにある。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive radiation-sensitive resin composition that is superior in roughness, etching resistance, sensitivity and resolution, capable of stably forming a fine pattern with high accuracy, and suitable for use as a resin composition for EB or EUV, effectively sensitive to an electron beam or extreme-ultraviolet radiation.例文帳に追加

ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、電子線または極紫外線に有効に感応するＥＢ、ＥＵＶ用として好適な化学増幅型ポジ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a high-resolution positive type chemically amplified resist material which contains a matrix resin obtained by a simple production method, enables fine resist pattern formation when applied to a non-photolithography process in which exposure is performed under vacuum, and suppresses dropping of a protective group in exposure.例文帳に追加

マトリックス樹脂が簡便な製造方法によって得られ、真空下で露光する非光リソグラフィプロセスに適用して微細なレジストパターン形成が可能であって、しかも露光時における保護基の脱落が抑制されている高解像度ポジ型化学増幅系レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having proper resolution after development, so superior in dispersion stability in a developing solution as not to generate scums, superior in flexibility of a cured film, and having tenting properies and proper etchant resistance, and a photosensitive resin laminate having a photosensitive resin layer formed of the composition, and to provide a resist pattern forming method that uses the laminate and a conductor pattern producing method.例文帳に追加

現像後解像性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、硬化膜柔軟性に優れ、テンティング性、良好なエッチング液耐性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition which exhibits good resolution and adhesion after development, excels in dispersion stability in a developer, and avoids production of aggregates, and a photopolymerizable resin laminate having a photopolymerizable resin layer comprising the composition, and to provide a method for forming a resist pattern using the laminate and a method for producing a conductor pattern or the like.例文帳に追加

本発明は、現像後解像性および密着性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物が発生しない光重合性樹脂組成物、及び該組成物を含有する光重合性樹脂層を有する光重合性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターン等の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition excellent in uniformity of a coating film, capable of enhancing the curing density of a cured resin pattern, and forming the fine resist pattern having the large film thickness and the high aspect ratio comprises an onium fluoroalkylfluorophosphate type cationic polymerization initiator having a specific structure, a lactone solvent and a hydroxycarboxylic acid based solvent.例文帳に追加

特定の構造を有するオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩系のカチオン重合開始剤と、ラクトン系溶剤及びヒドロキシカルボン酸系溶剤とを含有する感光性樹脂組成物によれば、塗膜の均一性に優れ、硬化樹脂パターンの硬化密度を向上することができ、さらに高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供できる。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern of a good shape by having an excellent resolution, sensitivity and LER, and an excellent scum suppressing property by containing a specific guanidine compound while suppressing a PEB temperature dependence, and provide a resist film formed using the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

特定のグアニジン化合物を含有することにより、スカム低減性に優れ、解像性が優れることにより良好な形状のパターンを形成することができ、感度、ＬＥＲにも優れ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a developing device and an exposing/developing method for facilitating pattern formation with high resolution, improving mass-productivity and providing a product of high quality by exposure using a proximity exposure system in the exposing/developing steps of a method for manufacturing a color filter for processing a photosensitive resin composition applied on a substrate into a black matrix or a colored pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に塗布された感光性樹脂組成物をブラックマトリクス、若しくは着色パタ−ンとして形成するカラ−フィルタ製造方法の露光・現像工程において、プロキシミティ露光方式を用いた露光で、高解像度のパターン形成を可能にし、量産性を向上させ、かつ、高品質の製品を提供するための現像装置及び露光・現像方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures good resolution after development, generates no scum because of excellent dispersion stability in a developer, and has good edge fusion resistance and conformability, and a photosensitive resin laminate having a photosensitive resin layer comprising the composition, and to provide a method for forming a resist pattern using the laminate and a method for producing a conductive pattern.例文帳に追加

現像後解像性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、良好なエッジフューズ性と追従性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

By delivering ink from a plurality of nozzles moving in the moving direction to form dot lines in line regions along the moving direction, a pattern constituted of a plurality of the dot lines formed in a plurality of the line regions arranged in the direction intersecting the moving direction is formed on a medium by a specified resolution.例文帳に追加

本発明では、移動方向に移動する複数のノズルからインクを吐出して移動方向に沿う列領域にドット列を形成することにより、前記移動方向と交差する方向に並ぶ複数の前記列領域に形成された複数の前記ドット列から構成されるパターンを所定解像度で媒体に形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in sensitivity in exposure and resolution of a resist pattern after development, less liable to scum in a developing step, having good plating resistance and useful as alkali-developable DFR (dry film resist) for manufacturing substrates for a printed wiring board, for a lead frame and for a semiconductor package.例文帳に追加

露光時の感度及び現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、現像工程におけるスカムの発生が少なく、耐めっき性が良好で、アルカリ現像型プリント回路板用、リ−ドフレ−ム用及び半導体パッケ−ジ用の基板作製用ＤＦＲとして有用な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a reflective mask blank comprising at least a substrate, a multilayer reflecting film for reflecting exposure light, and an absorber for absorbing the exposure light, the absorber having a smaller film thickness for preventing the degradation of resolution and misregistration around a pattern during exposure and for improving a contrast to inspection light, and to provide a reflective mask.例文帳に追加

少なくとも基板と、露光光を反射する多層反射膜と、露光光を吸収する吸収体と、を有し、吸収体の膜厚を薄くし、露光時にパターン周辺部の解像度低下や位置ずれを防止するとともに、検査光に対するコントラストを向上させた反射型マスクブランク及び反射型マスクを提供する。 - 特許庁

To provide an effective method for obtaining a conduit pattern binary image for forming an emboss plate capable of performing a delicate correction work of making the plate close to an irregular form owned by natural wood grain from a gradation image taken by a digital camera in which a conduit part is emphasized but the resolution is low.例文帳に追加

デジタルカメラにより撮影したような、導管部が強調されてはいるが低解像度の階調画像から、天然の木目が有する凹凸形状に近づけるような精細な修正作業も可能な、エンボス版を形成するための導管図形２値画像を得る有効な方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an alkali-developable resin composition having excellent sensitivity, resolution, adhesion and alkali resistance, and the like and forming a minute pattern with high precision, a compound useful as a raw material for the alkali-developable photosensitive resin composition, an alkali-developable resin composition using the compound, and an alkali-developable photosensitive resin composition.例文帳に追加

感度、解像度、密着性及び耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物の原料として有用な化合物、該化合物を用いたアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition that can be preferably used in an ultra-micro lithography process such as manufacture of an ultra LSI and a high-capacity microchip and the other photo-fabrication and is superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having superior resolution, adhesion, photosensitivity and plating resistance and excellent also in strippability, which is a photosensitive resin composition for forming a cured material layer on a surface resin layer of a circuit formed substrate with the surface resin layer having a definite pattern.例文帳に追加

一定のパターンを有する表面樹脂層を備える回路形成済基板の前記表面樹脂層上に硬化物層を形成させるための感光性樹脂組成物であって、優れた解像度、密着性、光感度及びめっき耐性を有するのみならず、剥離性にも優れる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition as a chemically amplifying resist which is sensitive to active radiation, for example, far UV rays represented by KrF excimer laser or ArF excimer laser and which can form a resist pattern with excellent uniformity in film thickness, excellent adhesion property with a substrate, accuracy, sensitivity, resolution and so on.例文帳に追加

活性放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザーあるいはＡｒＦエキシマレーザーに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、膜厚均一性が優れ、しかも基板接着性、精度、感度、解像度等にも優れたレジストパターンを与える感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

Patterns adjusting the aperture rate are successively arranged at pitches below a resolution limit so as not to resolve the patterns by a projection optical system and further while pattern sizes and pitches are sequentially calculated by successive places by grasping a residual film thickness characteristic of the photosensitive material to an exposure quantity, the patterns are arranged.例文帳に追加

開口率を調整するパターンを投影光学系によって解像させないために、解像限界以下のピッチでパターンを連続配置し、また露光量に対する感光性材料の残存膜厚特性を把握して連続した場所毎にパターンサイズとピッチを逐次計算しつつパターンを配置するように構成する。 - 特許庁

To improve the stability and the resolution of delivery between a specified pixel constituting a stripe pattern of an optical element configured by arranging a large number of pixels of long and narrow shape on a substrate and an interval (pitch) of a pixel of the same color adjoining the specified pixel by using an inkjet printer.例文帳に追加

インキジェット印刷装置を使用して、基板上に長細い形状の画素を多数配列して構成される光学素子のストライプ状のパターンを構成する特定の画素と、この画素と隣接する同一色の画素の間隔（ピッチ）との間の吐出の安定性及び解像度を向上させることを課題とする。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition hardly generating a scum, having excellent pattern resolution, and excellent in adhesiveness to an opposed substrate, in a functional element bonded with the two opposedly-arranged substrates via a structure obtained from the negative photosensitive resin composition.例文帳に追加

対向配置される２つの基板をネガ型感光性樹脂組成物から得られた構造体を介して接着させた機能素子において、残渣やスカムが発生しにくく、優れたパタ−ン解像性を有し、且つ対向基板との接着性にも優れたネガ型感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using a high energy beam, X-ray, electron beam or EUV light and satisfies high sensitivity, high resolution, good line width roughness and process margin at the same time, and a developer used for the method.例文帳に追加

本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 - 特許庁

A plurality of domains having patterns similar in shapes (similar domains) are extracted from SEM images of low resolutions which are picked up while suppressing the irradiation energy of an electron beam, and an image of one pattern of a high resolution is formed from a plurality of image data on the domains by image restoration processing.例文帳に追加

電子線の照射エネルギーを抑えて撮像した低分解能なＳＥＭ画像から形状が類似するパターンを持つ領域（類似領域）を複数抽出し、複数の前記領域の画像データから画像復元処理により一枚の高分解能な前記パターンの画像を生成することを特徴とする。 - 特許庁

To improve the stability of discharge and the resolution between a specific pixel constituting a stripe like pattern of an optical device formed by arranging a pitch of many long pixels on a substrate and an adjacent pixel having the same color using an inkjet printing device.例文帳に追加

インキジェット印刷装置を使用して、基板上に長細い形状の画素を多数配列して構成される光学素子のストライプ状のパターンを構成する特定の画素と、この画素と隣接する同一色の画素の間隔（ピッチ）との間の吐出の安定性及び解像度を向上させることを課題とする。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and a good margin for light exposure in microfabrication particularly when KrF excimer laser, X-radiation, an electron beam or an ion beam is used.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術における課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好な露光量マージンの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive resin composition which can suppress indentation of a resist pattern and resist cracking by plating stress at a plating step and accurately form thick platings, even when descumming (O_2 plasma ashing) treatment is performed as pretreatment for plating, and which is excellent in resolution and adhesion.例文帳に追加

メッキ前処理としてデスカム（Ｏ_2プラズマアッシング）処理を行っても、メッキ工程時のメッキ応力によるレジストパターンへの押し込みやレジストのクラックを抑制することができ、厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができるとともに、解像度および密着性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To improve the stability of ejection with respect to spacing between a specified pixel which constitutes a stripe-like pattern of an optical element configured by arraying a large number of pixels having a long and narrow shape on a substrate and a pixel of the same color adjoining the specified pixel, and the resolution by using an inkjet printing device.例文帳に追加

インキジェット印刷装置を使用して、基板上に長細い形状の画素を多数配列して構成される光学素子のストライプ状のパターンを構成する特定の画素と、この画素と隣接する同一色の画素の間隔との間の吐出の安定性及び解像度を向上させることを課題とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition which excels in stability when allowed to stand after exposure, causes no pattern drooping during heat curing, has such properties as high resolution, high heat resistance and high transparency after heat curing, and is used for forming a planarizing film for a TFT substrate, an interlayer insulation film and a core or clad material of an optical waveguide.例文帳に追加

露光後放置安定性に優れ、熱硬化中にパターンだれが生じることなく、熱硬化後に高解像度、高耐熱性、高透明性の特性を有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used in the manufacturing step of a semiconductor such as an IC, in manufacturing step of a circuit board such as liquid crystals and thermal heads, and other photofabrication steps, having an excellent resolution and line edge roughness; and to provide a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which solves problems relating to the techniques to improve the performance in microfabrication of semiconductor elements using high energy beams, in particular, which has high sensitivity and high resolution and satisfies both of a preferable pattern profile and line edge roughness for KrF excimer laser, X-rays, electron beams or ion beams.例文帳に追加

高エネルギー線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition simultaneously satisfying sensibility, high resolution, a pattern profile, line edge roughness and dry etching resistance, particularly in lithography using an electron beam, an X-ray or EUV light as an exposure light source, as well as a resist film and a patterning method using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁