「resolution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a polymer compound which enables to obtain a highly sensitive photoresist composition which forms a fine pattern with excellent resolution and good rectangular shape and is capable of obtaining good resist characteristics even when the acid generated by an acid generator is weak, to provide a photoresist composition using such a polymer compound, and to provide a method for forming a resist pattern using such a photoresist composition.例文帳に追加

優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin for upper layer film forming compositions contained in an upper layer film forming composition which hardly causes intermixing with a photoresist film, can maintain a stable coat less liable to dissolve in an immersion liquid such as water, effectively suppresses occurrence of watermark defects and pattern defects, and allows formation of a high-resolution resist pattern while showing a high receding contact angle.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングを極めて生じ難く、水等の液浸液に極めて溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、ウォーターマーク欠陥やパターン不良欠陥の発生を効果的に抑制し、高い後退接触角を示しつつ、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜形成組成物に含有される上層膜形成組成物用樹脂。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition superior in sensitivity with respect to an exposure light source having the wavelength of 405±10 nm and resolution, having satisfactory tenting properties, and capable of being developed by an alkali aqueous solution, a photosensitive resin laminated body using the photosensitive resin composition, a method for forming a resist pattern on the substrate using the photosensitive resin stacked body, and the use of the resist pattern.例文帳に追加

４０５±１０ｎｍの波長の露光光源に対する感度、解像度に優れ、テンティング性の良好な、アルカリ性水溶液によって現像しうる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive thermosetting coloring resin composition which is excellent in storage stability, can be developed by weak alkalinity developer and generate an image with high resolution, and obtain a thin film pattern with high transparency and sufficient heat-resistance, solvent resistance and insulation after processing a heat curing.例文帳に追加

保存安定性に優れ、また弱アルカリ性現像液による現像が可能で、解像度の高い画像の形成が可能で、熱硬化処理後に、透明性が高く、耐熱性、耐溶剤性、絶縁性も十分な薄膜パターンが得られるネガ型感光性熱硬化性着色樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in dry etching resistance, sensitivity, resolution, etc., as a chemical amplification type resist, capable of avoiding a change of the line width of a resist pattern due to a change of the time elapsed from exposure to post-exposure heating and having superior process stability.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、ドライエッチング耐性、感度、解像度等に優れるとともに、露光から露光後の加熱処理までの引き置き時間の変動によるレジストパターンの線幅変動を回避でき、優れたプロセス安定性を示す感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition capable of forming a chemically amplified resist film which effectively responds to electron beams or extreme ultraviolet rays and has excellent nano edge roughness, sensitivity, and resolution to stably produce a fine pattern with a high degree of accuracy, and to provide a polymer used therefor.例文帳に追加

電子線や極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物及びそれに用いられる重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new compound suitable for preparing a polymer compound which enables to obtain a highly sensitive photoresist composition which forms a fine pattern with excellent resolution and good rectangular shape, and gives good resist characteristics even when the acid generated by an acid generator is weak.例文帳に追加

優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物の調製に好適な新規化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, having excellent basic properties as a resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Since the photosensitive resin composition can be developed with only an aqueous alkali solution as a developing solution at a high developing speed, a good light-colored negative type pattern film having high sensitivity, high resolution and little reduction in film thickness can be formed while preventing coloration.例文帳に追加

このような感光性樹脂組成物によれば、アルカリ水溶液のみを現像液として用い、迅速な現像速度において現像でき、その結果、高感度および高解像度で、膜減りの少ない、良好なネガ型のパターンの皮膜を、着色を防止して淡色で形成することができる。 - 特許庁

To provide a positive type resist material characterized by having high sensitivity and high resolution equivalent to or higher than those of a conventional positive type resist material, alleviating the formation of standing waves because of the good pattern shape on especially a high-reflecting substrate, and therefore causing reduced edge roughness.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料と同等か若しくはこれを上回るほど高感度、高解像度であるとともに、特に高反射基板上でのパターン形状が良好で、定在波の発生が軽減され、エッジラフネスが少ない特性を示すポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a coloring agent-containing hardening composition having high sensitivity, high transmittance, high resolution, wide development latitude, excellent in solvent resistance, light resistance, heat resistance and pattern forming property (developing property), free from elution of a dye, excellent in liquid storage property when it is prepared as a liquid composition, and having high productivity.例文帳に追加

高感度、高透過率、高解像力、広い現像ラチチュードを有し、耐溶剤性、耐光性、耐熱性、パターン形成性（現像性）に優れ、しかも染料の溶出がなく、液状組成としたときの液保存性に優れ、生産性の高い着色剤含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

Before the communication body, a training part, based on a short code diffusion for repeating the same pattern in each symbol length is formed, and propagation of a transmission line is measured by the training part, while setting the length of the short code as a measuring section and setting the N periods of a carrier as the time resolution of measurement.例文帳に追加

通信本体に先立ち、シンボル長毎に同一パターンを繰り返すショートコード拡散によるトレーニング部を設け、トレーニング部を用いて前記ショートコードの長さを測定区間とし搬送波のＮ周期分を測定の時間分解能にして伝送路の伝播測定を行なう。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having sufficient follow-up property and a tenting reliability, excellent edge fusing property, favorable resolution, adhesion property and release characteristics, to provide a photosensitive resin layered body by using the above composition, and to provide a method of making a resist pattern by using the body.例文帳に追加

十分な追従性とテント信頼性を有し、かつエッジフューズ性に優れ、また良好な解像性と密着性、剥離特性を兼ね備える感光性樹脂組成物、それを用いた感光性樹脂積層体、及びそれを用いたレジストパターンの作成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a Pachinko machine improving an interest in a game by pre-reading of retention ball by effectively using trends in expansion of a screen size and increase in resolution of a pattern display device and by materializing it with effectiveness for a player, and further improving the interest in the game.例文帳に追加

保留球の先読みによる遊技の興趣の向上を、図柄表示装置の画面サイズの拡大、分解能の上昇傾向を有効に活用して、また遊技者に対して実効性をもって実現でき、遊技の面白さを一層増大できるパチンコ機を提供する。 - 特許庁

To provide a radiosensitive composition and a polymer for a semiconductor resist, having a high transparency for a radiation and being excellent in basic physical properties for a resist, such as sensitivity and resolution, as well as in EL, LWR and a minimum collapse size when forming a line pattern.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際におけるＥＬ、ＬＷＲ、及び最小倒壊寸法に優れた感放射線性組成物及び半導体レジスト用重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition for liquid immersion exposure superior in sensitivity and hence resolution, having a satisfactory pattern shape to be obtained, superior margin in focus depth, and a little amount of eluted substance into liquid immersion liquid that is brought into contact therewith during liquid immersion exposure.例文帳に追加

感度が良好であることにより解像度に優れ、得られるパターン形状が良好であり、更に焦点深度余裕に優れ、かつ液浸露光時に接触した液浸露光用液体への溶出物量が少ない液浸露光用の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution and adhesion and can be developed with an alkaline aqueous solution, to provided a photosensitive resin laminate that uses photosensitive resin composition, and to provide a method for forming a resist pattern on a substrate using the photosensitive resin laminate.例文帳に追加

感度、解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像しうる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition having high heat resistance, high transparency and a low dielectric constant, capable of forming a cured film with a pattern having high chemical resistance and good resolution, and being used for forming a planarizing film for a TFT substrate, an interlayer insulation film or a core or cladding material of an optical waveguide.例文帳に追加

高耐熱性、高透明性、低誘電率性の特性を併せ持ち、かつ耐薬品性が高く、良好な解像度のパターンを有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する - 特許庁

An analysis part 52 analyzes the sense of resolution of the image on the basis of spectrum components of spatial frequencies included in the periodic pattern, among the two-dimensional spatial frequency spectrum components obtained by the Fourier transform part 51, and analyzes the deterioration of the image on the basis of spectrum components other than these.例文帳に追加

解析部５２は、フーリエ変換部５１により取得された２次元の空間周波数のスペクトル成分のうち、周期パターンに含まれる空間周波数のスペクトル成分に基づいて画像の解像感を解析し、それ以外のスペクトル成分に基づいて画像の劣化を解析する。 - 特許庁

To provide an alkali developable photosensitive resin composition having sufficient photopolymerizable property, resulting in a calcined pattern with high resolution, and having excellent flexure property, favorable adhesion property with a substrate and excellent alkali developing property, and to provide a photosensitive inorganic composition using the above photosensitive resin composition.例文帳に追加

十分な光重合性を有し、解像度の高い焼成パターンが得られ、屈曲性に優れ、基材に対する良好な密着性と優れたアルカリ現像性を備えた感光性樹脂組成物及びその感光性樹脂組成物を用いた感光性無機組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposing mask prevented from being damaged due to the electrification of an object to be exposed at the time of exposure and capable of preventing the positional accuracy and resolution of an exposure pattern from being deteriorated due to vibration, a method for manufacturing the exposing mask, an exposing method, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

露光時に、露光対象の帯電に起因する露光用マスクの破損の心配がなく、振動による露光パターンの位置精度や解像度の劣化がない露光用マスクとその製造方法及び露光方法、並びに半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable when an exposure light source at ≤160 nm, in particular, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used, and specifically, to provide a positive resist composition showing sufficient transmitting property when a light source at 157 nm is used and having high resolution and an excellent pattern profile.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、高解像力であり、パターンププロファイルが優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which finely divides peeled chips (to reduce the size of resist chips after peeling) and which is excellent in plating resistance and excellent in sensitivity, resolution and adhesion, a photosensitive element using the same, a method for producing a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

はく離片を細分化（はく離後のレジスト片のサイズを小さく）させることができ、且つ耐めっき性に優れ、感度、解像度及び密着性に優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。 - 特許庁

Before a communication body, a training part based on a short code diffusion for repeating the same pattern in each symbol length is formed, and the propagation of a transmission line is measured by the training part while setting the length of the short code as a measuring section and setting the N periods of a carrier as the time resolution of measurement.例文帳に追加

通信本体に先立ち、シンボル長毎に同一パターンを繰り返すショートコード拡散によるトレーニング部を設け、トレーニング部を用いて前記ショートコードの長さを測定区間とし搬送波のＮ周期分を測定の時間分解能にして伝送路の伝播測定を行なう。 - 特許庁

To provide a positive-type resist material, particularly a chemically-amplified, positive-type resist material, having a high resolution, margin of exposure, a small difference between sparse and dense dimensions, and process adaptability, surpassing those of conventional positive-type resist materials, furnishing a good pattern shape on exposure, and showing excellent etching resistance.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高解像度、露光余裕度、小さい疎密寸法差、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition which has such properties as high heat resistance, high transparency and a low dielectric constant, and which is for use in formation of a planarizing film for a TFT substrate or an interlayer insulation film having a pattern of good resolution or a core or cladding material of an optical waveguide.例文帳に追加

高耐熱性、高透明性、低誘電率性の特性を併せ持ち、かつ良好な解像度のパターンを有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する - 特許庁

To provide a composition for the formation of an inorganic antireflection film with which an antireflection film having a high antireflection effect even in a rather thin film and having excellent adhesion property and sticking property with a resist film can be formed and a resist pattern having excellent resolution and accuracy can be formed.例文帳に追加

簡便な方法により、比較的薄膜でも反射防止効果が高く、かつレジスト膜との接着性、密着性に優れる反射防止膜を形成でき、しかも解像度、精度に優れるレジストパタ—ンを形成できる無機系反射防止膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a negative pattern which is transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light, which has a chemical structure with high durability against dry etching and shows excellent resolution without swelling in a 2.38% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution as a standard developer.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線領域で透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、標準現像液である２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an antireflection film for lithography having a high antireflection effect, free of intermixing with a photoresist layer, giving an excellent photoresist pattern, having a higher dry etching rate than the photoresist and ensuring a larger margin for the depth of a focus and higher resolution than a conventional antireflection film.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、フォトレジスト層とのインターミキシングが起こらず、優れたフォトレジストパターンが得られ、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有し、従来より広いフォーカス深度マージン及び高い解像度を有するリソグラフィー用反射防止膜を提供するものである。 - 特許庁

Further, the gradation pattern is formed, by arranging light shielding parts 3 and light-transmitting parts 3 of size larger than the resolution limit of a defect inspecting device for the photomask, in a region which is ≤20 μm in diameter or the diagonal length, corresponding to the bottom surface of the hemispherical structure.例文帳に追加

しかも、この階調パターンは、半球状構造体の底面に対応する直径または対角長が２０μｍ以下の領域に、フォトマスクの欠陥検査装置の解像限界より大きい寸法の遮光部３及び透光部３を設けることによって形成する。 - 特許庁

An image compression apparatus comprises complementary information generation means that, based on an arrangement pattern when dividing the second image data into blocks of 2×2 pixels, generates complementary information enabling restoration of a second image when being combined with an image decimated to half the resolution of the second image.例文帳に追加

第２画像データを２×２画素ごとのブロックに分割したときの配置パターンに基づいて、第２画像の解像度の１／２倍の解像度に間引いた画像と組み合わせた場合に第２画像を復元可能な補完情報を生成する補完情報生成手段を設ける。 - 特許庁

A replacement gray scale selection circuit 1004 increases a replacement gray scale difference among adjacent pixels of a replacement pattern, to convert a resolution of a received image when the degree of sharpness is high or decreases it when a degree of sharpness is low, on the basis of a sharpness signal FIL designated by the user.例文帳に追加

置換濃度選択回路1004は、ユーザから指定されるシャープネス信号FILに基づき、入力画像の解像度を変換するための置き換えパターンの隣接画素間の置き換え濃度差を、シャープネスの度合が大きい場合は大きくし、シャープネスの度合が小さい場合は小さくする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can form a resist having an excellent resolution and adhesion property to a substrate and can realize high density in a printed wiring board, and to provide a photosensitive element using the composition, a method for manufacturing a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

解像性及び基板に対する密着性に優れるレジストが形成可能であり、プリント配線板の高密度化が実現できる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition used in a functional element in which two bases placed opposite to each other are bonded together by way of a structure obtained from the negative photosensitive resin composition, the negative photosensitive resin composition being excellent in pattern resolution and in adhesiveness of the structure to the bases.例文帳に追加

対向配置される２つの基盤をネガ型感光性樹脂組成物から得られた構造体を介して接着させた機能素子において、優れたパターン解像性を有し、且つ構造体と基盤との接着性にも優れたネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To obtain positive type and negative type radiation sensitive resin compositions each sensitive to not only short-wavelength radiation such as far UV but also ordinary UV, having high sensitivity and high resolution, capable of forming a rectangular resist pattern and excellent in shelf stability even in the presence of a basic compound.例文帳に追加

遠紫外線の如き短波長放射線のみならず、通常の紫外線にも感応し、高感度、高解像度で、矩形のレジストパターンを形成することができ、かつ塩基性化合物の存在下でも保存安定性に優れたポジ型およびネガ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a diffraction grating pattern which has an up-to-date visual image such that display color are changed in accordance with rotation of a substrate or illumination direction and can further raise the level of forgery prevention without impairing resolution and brightness, and to provide a diffraction grating recording medium.例文帳に追加

本発明は、解像度や輝度を損なうことなく、基板もしくは照明方向の回転に伴って表示色が変化する視覚的なイメージが斬新で、偽造防止を一層高めることができる回折格子パターンおよび回折格子記録媒体を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a magnetic one-component toner excellent in image density and resolution, capable of obtaining sufficient image density even in an environment at high temperature and high humidity as well as at low temperature and low humidity, and less liable to cause image density unevenness of a ripple pattern due to uneven transport and charge on a sleeve in a recycled cartridge.例文帳に追加

画像濃度、解像度に優れ、低温低湿下のみならず、高温高湿下においても十分な画像濃度を得ることができると共に、リサイクルカートリッジにおいて、スリーブ上における搬送帯電ムラによるさざ波模様の画像濃度ムラが生じにくい磁性一成分トナーを提供する。 - 特許庁

To provide a new radiation-sensitive acid generator having excellent storage stability, high transparency for radiation and high sensitivity, and to provide a positive radiation-sensitive resin composition containing the above radiation-sensitive acid generator and being excellent in the storage stability, sensitivity, resolution, pattern profile and so on.例文帳に追加

保存安定性に優れ、放射線に対する透明性が高く、かつ高感度の新規感放射線性酸発生剤、並びに該感放射線性酸発生剤を含有し、保存安定性、感度、解像度、パターン形状等に優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a top layer film forming composition for forming a top layer film that hardly causes intermixing with a photoresist film, keeps a stable film state hardly eluting in an immersion liquid, can suppress generation of a development peeling defect, and allows formation of a resist pattern with high resolution.例文帳に追加

フォトレジスト膜とのインターミキシングが生じ難く、液浸液に溶出し難く安定な被膜を維持可能であり、現像剥離欠陥の発生を抑制することが可能であり、高解像度のレジストパターンを形成可能な上層膜を形成するための上層膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

To solve the problems of a performance improving technique in microfabrication of a semiconductor element with a high energy line, an X-ray, an electron beam or EUV light, and to provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good line edge roughness.例文帳に追加

高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist material, in particular a chemically amplified positive resist material, which surpasses a conventional positive resist material, has high sensitivity, high resolution, exposure margin and process adaptability, ensures a good pattern shape after exposure and particularly small line edge roughness, and exhibits superior etching resistance.例文帳に追加

従来のポジ型レジスト材料を上回る高感度及び高解像度、露光余裕度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好であり、特にラインエッジラフネスが小さく、さらに優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。 - 特許庁

In a pattern drawing device, an alignment mark on a substrate is captured at a low resolution for acquiring a target image, thus acquiring a plurality of target profiles, namely, the distribution of pixel values on a plurality of straight lines crossing a plurality of positions of each edge in the alignment mark in the target image.例文帳に追加

パターン描画装置では、基板上のアライメントマークが低解像度にて撮像されて対象画像が取得され、対象画像中のアライメントマークの各エッジの複数の位置を横断する複数の直線上の画素値の分布である複数の対象プロファイルが取得される。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor realizing high image quality recording whose resolution is ≥1,200 dpi and eliminating an image defect such as an interference fringe pattern (moire) by setting the surface roughness of a conductive supporting body to a specified range, and an image forming method using the same.例文帳に追加

この発明は、導電性支持体の表面粗さを特定の範囲に設定することにより、解像度１２００ｄｐｉ以上の高画質記録で、干渉縞模様（モアレ）等の画像不良を解消した電子写真感光体及びそれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer which is high in sensitivity, resolution and light transmittance, when used for resist compositions for DUV excimer laser lithography or the like, is little in defects, when developed, and is excellent in copolymerizability with other monomers, to provide a resist composition, and to provide a method for producing a substrate on which a resist pattern is formed.例文帳に追加

ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、現像時のディフェクトが少なく、他の単量体との共重合性に優れた重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁