「resolution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a negative type resist composition through which performance improvement technology in the microfabrication of semiconductor elements is provided using high energy rays and high sensitivity, high resolution, good pattern shapes and good line edge roughness are simultaneously satisfied while using electron beams or ion beams.例文帳に追加

高エネルギー線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using a high energy beam, X-ray, electron beam or EUV light and satisfies high sensitivity, high resolution, good line width roughness and process margin at the same time, and a developer used for the method.例文帳に追加

本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 - 特許庁

A plurality of domains having patterns similar in shapes (similar domains) are extracted from SEM images of low resolutions which are picked up while suppressing the irradiation energy of an electron beam, and an image of one pattern of a high resolution is formed from a plurality of image data on the domains by image restoration processing.例文帳に追加

電子線の照射エネルギーを抑えて撮像した低分解能なＳＥＭ画像から形状が類似するパターンを持つ領域（類似領域）を複数抽出し、複数の前記領域の画像データから画像復元処理により一枚の高分解能な前記パターンの画像を生成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition hardly generating a scum, having excellent pattern resolution, and excellent in adhesiveness to an opposed substrate, in a functional element bonded with the two opposedly-arranged substrates via a structure obtained from the negative photosensitive resin composition.例文帳に追加

対向配置される２つの基板をネガ型感光性樹脂組成物から得られた構造体を介して接着させた機能素子において、残渣やスカムが発生しにくく、優れたパタ−ン解像性を有し、且つ対向基板との接着性にも優れたネガ型感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pressure-sensitive adhesive tape for high-resolution photomask protection which is excellent in re-peelability (properties of leaving no paste on adherend after peeling), and avoids entry of bubbles even when the pressure-sensitive adhesive tape is stuck on a photomask with a complex pattern having fine dots and thin lines arranged at narrow intervals.例文帳に追加

再剥離性（剥がした場合に被着体に糊残りしていない性能）に優れ、複雑で、ドットが小さく、線の細い、また線の間隔が狭いパターンの描かれたフォトマスクにフォトマスク保護用粘着テープを貼り付けても気泡が混入しない解像度の高いフォトマスク保護用粘着テープの提供。 - 特許庁

To provide a photomask blank which can reduce the film thickness of a resist to effectively enhance the resolution of a mask pattern, can reduce a loading effect during dry etching, can reduce a shift amount of the mask dimension from the resist dimension, and can reduce the number of mask manufacturing processes, and to provide a photomask manufactured by using the blank.例文帳に追加

マスクパターンの高解像度化に効果的なレジストの薄膜化が可能で、ドライエッチング時のローディング効果が低減され、レジスト寸法からのマスク寸法のシフト量の低減が図れ、マスク製造工程数の削減が図れるフォトマスクブランクスおよびそのブランクスを用いて製造したフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition which excels in stability when allowed to stand after exposure, causes no pattern drooping during heat curing, has such properties as high resolution, high heat resistance and high transparency after heat curing, and is used for forming a planarizing film for a TFT substrate, an interlayer insulation film and a core or clad material of an optical waveguide.例文帳に追加

露光後放置安定性に優れ、熱硬化中にパターンだれが生じることなく、熱硬化後に高解像度、高耐熱性、高透明性の特性を有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる感光性シロキサン組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used in the manufacturing step of a semiconductor such as an IC, in manufacturing step of a circuit board such as liquid crystals and thermal heads, and other photofabrication steps, having an excellent resolution and line edge roughness; and to provide a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which solves problems relating to the techniques to improve the performance in microfabrication of semiconductor elements using high energy beams, in particular, which has high sensitivity and high resolution and satisfies both of a preferable pattern profile and line edge roughness for KrF excimer laser, X-rays, electron beams or ion beams.例文帳に追加

高エネルギー線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition simultaneously satisfying sensibility, high resolution, a pattern profile, line edge roughness and dry etching resistance, particularly in lithography using an electron beam, an X-ray or EUV light as an exposure light source, as well as a resist film and a patterning method using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Since the electron beam shielding region 11 adheres tightly to the pattern formation layer 2 by the effect of the minute adhesiveness of the minute adhesive layer 14, the electron beam does not enter the region that shields the electron beam from an oblique direction even if an inexpensive general-purpose electron beam irradiation device is used, thereby allowing very fine and high-resolution patterning.例文帳に追加

微粘着層１４の微粘着効果により、パターン形成層２に電子線遮蔽領域１１が密着するので、汎用型の安価な電子線照射装置を使用しても、電子線を遮蔽する領域に電子線が斜め方向から入射することがなく、高精細、高解像度のパターニングが期待できる。 - 特許庁

To provide manufacturing steps of a printed circuit board capable of embodying miniaturization of a circuit pattern by improving a resist resolution and fine wiring close contact force, by changing the step in the case of forming a circuit, using a dry resist film on a copper laminate used as a normal printed circuit board.例文帳に追加

通常印刷回路基板として用いられる銅積層板にドライフィルムレジストを用いて回路を形成することにおいて、工程変更によりレジスト解像度及び細線密着力を向上させて回路パターンの微細化を具現することができる印刷回路基板の製造工程を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for forming spacers which is of high resolution and of high sensitivity even when radiation for exposure practically contains no beam with wavelength <350 nm, and which easily forms the spacers excellent in various performances such as a pattern shape, compression strength, rubbing resistance, and adhesion to a transparent substrate.例文帳に追加

３５０ｎｍ未満の波長を実質的に含まない放射線による露光でも、高解像度、高感度であり、かつパターン形状、圧縮強度、ラビング耐性、透明基板との密着性等の諸性能に優れたスペーサーを容易に形成することができるスペーサー用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which enhances resolution/adhesion by high-speed developability (of an unexposed portion) and excellent developer resistance (of an exposed portion), improves dispersibility in a developer, and suppresses foaming of an etching solution, a photosensitive element using the same, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

高速現像性（未露光部）と優れた耐現像液性（露光部）により、解像度・密着性を向上させ、また、現像液における分散性を良好にし、且つ、エッチング液の発泡を抑制する感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer compound suitable as a base resin for a positive resist material, especially for a chemically amplified positive resist material, having a high sensitivity, a high degree of resolution, a good pattern configuration after exposure, and in addition an excellent etching resistance; a positive resist material using the polymer compound; and a patterning process.例文帳に追加

高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomechanical process for a planographic printing plate capable of giving an image with high resolution, adaptable to a direct pattern forming method with a laser, capable of giving an image particularly even in a light room, producing no waste liquid and very excellent in ink/water responsiveness and printing durability.例文帳に追加

平版印刷版の製版技術において、高解像性を有する画像を得ることができ、かつレーザによる直接描画方法に対応し、また特に明室下でも画像を得ることができ、廃液が発生することがなく、インキ／水応答性、耐刷性に非常に優れた平版印刷版の製版方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in sludge removability while maintaining photosensitive characteristics such as sensitivity, resolution and adhesion, a photosensitive element using the resin composition, a method for forming a resist pattern and a method for producing a printed wiring board by which a printed wiring board of sufficiently high density can be obtained.例文帳に追加

感度、解像性及び密着性といった感光特性を維持したままスラッジ除去性に優れる感光性樹脂組成物、この樹脂組成物を用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び十分に高密度化されたプリント配線板を得ることが可能なプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

An image of a test chart consisting of a dot pattern is formed on the CCD 29 to monitor a change in an output of the CCD 29 due to a fog or the like in the case of forming the reflected optical image from the original onto a light receiving face of the CCD 29, and the resolution of the image is evaluated by obtaining an output state of each dot.例文帳に追加

結像レンズ２８により、原稿からの反射光像をＣＣＤ２９の受光面に結像させる時に、ボケ等による出力変化を監視するために、網点パターンからなるテストチャートをＣＣＤ２９に結像させ、その網点部分での出力状態を求めれ解像度評価を行う。 - 特許庁

To provide a polymer compound, having a high sensitivity, a high degree of resolution, a good pattern configuration after exposure, and in addition an excellent etching resistance, suitable as a base resin for a positive resist material, especially for a chemically amplified positive resist material; a positive resist material using the polymer compound; and a patterning process.例文帳に追加

高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a drawing method and a computer program that will not cause defects in resolution on the surface of an object to be drawn for a direct drawing device which forms a desired drawing pattern on the surface of the object to be drawn by irradiating the surface of the object to be drawn with a light throuogh a plurality of spatial optical modulating devices.例文帳に追加

複数の空間光変調素子によって描画対象物の面上に光を照射することで描画対象物の面上に所望の描画パターンを形成する直接描画装置において、描画対象物の面上に解像不良が生じない描画方法およびコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition useful in a process with light having a shorter wavelength than KrF excimer laser light, e.g. F2 excimer laser light (157 nm) or EUV (extreme-ultraviolet radiation 13 nm) as a light source and capable of forming a resist pattern having high resolution and a good sectional shape and to provide a base material with a resist layer of the resist composition.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー以下の短波長光、例えば、Ｆ_2エキシマレーザー（１５７ｎｍ）やＥＵＶ（真空紫外線１３ｎｍ）を光源とするプロセスに有用であり、高解像性で断面形状の良好なレジストパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材を提供すること。 - 特許庁

The high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition having high sensitivity and capable of forming the fine resist pattern having the large film thickness and the high aspect ratio comprises an onium fluoroalkylfluorophosphate type cationic polymerization initiator having a specific structure and a sensitizer having a dihydroxynaphthalene structure.例文帳に追加

特定の構造を有するオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩系のカチオン重合開始剤と、ジヒドロキシナフタレン構造を有する増感剤とを含有する感光性樹脂組成物によれば、感度が高く、且つ高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供できる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition developable and giving a pattern with high resolution and a high film remaining rate, curable at a low temperature, and having excellent mechanical properties, adhesiveness, water absorptivity and high sensitivity as film characteristics after cured, and to provide a semiconductor device using the composition.例文帳に追加

本発明は、現像が可能で、高解像度で高残膜率のパターンを得ることができ、低温硬化が可能で、かつ硬化後の皮膜特性として優れた機械特性、接着性、吸水性を有する高感度の感光性樹脂組成物、及びそれを用いた半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To solve the problems of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device and to provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good line edge roughness particularly in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation as a chemical amplification type positive type resist, excellent in basic solid state properties as the resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A pattern data group consisting of a matrix whose elements comprise at least 2×2 pixels longitudinally and laterally to which different index values are assigned is decided in advance, and each pixel value of binary image data with a first resolution is converted into any of different index values depending on a state of change in the pixel value on the bit map (S32-37).例文帳に追加

相異なるインデックス値を割り当てた少なくとも縦横２×２のマトリクス状のパターンデータ群を予め定めておき、第１の解像度の２値画像データに対して、そのビットマップ上での画素値の変化状況に応じて、各画素値を前記相異なるインデックス値のいずれかに変換する（Ｓ３２〜Ｓ３７）。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation as a chemical amplification type resist, excellent in basic physical properties as a resist such as dry etching resistance, sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、しかもドライエッチング耐性、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali-developable photosensitive resin composition which is capable of forming a resist pattern having a good opening shape with high sensitivity and resolution not only to all-wavelength exposure using a mercury-vapor lamp as a light source but to laser including light having a wavelength of 365 or 405 nm, and which can be made halogen-free.例文帳に追加

水銀灯を光源とする全波長露光だけでなく波長３６５や４０５ｎｍの光を含むレーザに対しても、高い感度及び解像度で良好な開口形状のレジストパターンを形成することが可能であり、ハロゲンフリー化に対応可能なアルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a high-sensitivity photosensitive siloxane composition which suppresses pattern drooping in heat curing, has such properties as high resolution, high heat resistance and high transparency after a heat curing step, and is used for forming a planarizing film for a TFT substrate, an interlayer insulation film or a core or clad material of an optical waveguide.例文帳に追加

熱硬化中に発生するパターンだれを抑制し、熱硬化工程後において高解像度、高耐熱性、高透明性の特性を有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる高感度の感光性シロキサン組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new high sensitivity initiator which can produce a color filter for liquid crystal display having high color reproducibility in a short time exposure step and also provides color pixels having a good pattern profile even in a color filter for high resolution solid-state image sensing device, a pigment dispersion, and a colored photocurable composition.例文帳に追加

高色再現性の液晶表示装置用カラーフィルタを短時間の露光工程で製造でき、また高解像度の固体撮像素子用カラーフィルタでもパターンプロファイルが良好な着色画素を提供する新規高感度開始剤、顔料分散液および着色光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To solve the problems of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device and to provide a negative resist composition which satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and few development defects particularly in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、ラインエッジラフネス、現像欠陥の特性を満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition through which problems associated with the performance improvement technology in the microfabrication of semiconductor elements are solved and characteristics including high sensitivity, high resolution, good pattern shapes and good line edge roughness are satisfied in the semiconductor microfabrication using especially electron beams and X-rays.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスの特性を満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of finishing a substrate to be processed for forming a minute pattern with a good yield as a sandblasting mask material with the superior resolution after development, adhesion and sandblasting resistant adhesion, a photosensitive resin laminate, a surface finishing method for a substrate to be processed, and a method for manufacturing a back plate of a plasma display.例文帳に追加

現像後の解像性及び密着性並びに耐サンドブラスト密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、被加工基材の表面加工方法及びプラズマディスプレイの背面板の製造方法を提供する。 - 特許庁

When determining the film thickness optically by using visible light, since an object pattern has the size of about one-tenth of a detection wavelength after 45 nm node to be below a resolution, the measuring object can be assumed as a uniform layer structure, and the film thickness measurement in a short time can be realized by using an assumed model.例文帳に追加

可視光を用いて光学的に膜厚を求める場合、４５ｎｍノード以降では対象パターンが検出波長の１０分の１程度の大きさとなり解像度以下となるため、被計測対象を均一な層構造と仮定することができ、仮定したモデルを用いることにより短時間での膜厚計測を実現することができる。 - 特許庁

The immersion exposure process is characterized in that the resolution of the resist pattern is improved by exposing a resist film to light via the nonaqueous liquid of a certain thickness which has a refractive index higher than that of the air and is disposed at least on the resist film within the path where a lithography exposure light propagates through to the resist film.例文帳に追加

前記液浸露光プロセスが、リソグラフィー露光光がレジスト膜に到達するまでの経路の少なくとも前記レジスト膜上に、空気より屈折率が大きい所定厚さの前記非水性液体を介在させた状態で、前記レジスト膜を露光することによってレジストパターンの解像度を向上させる構成であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide an interlayer insulation film and microlenses formed from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that satisfies the need for high sensitivity, high resolution, and excellent line edge roughness and is also excellent in dissolution contrast, and provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特にＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足し、また溶解コントラストも良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high-sensitivity positive photosensitive siloxane composition free of whitening of a coating film, coloring in heat curing, reflow of a pattern, blistering and creasing, having such properties as high resolution, high heat resistance, high transparency and a low dielectric constant, and used for forming a planarizing film for a TFT substrate, an interlayer insulation film or a core or cladding material of an optical waveguide.例文帳に追加

塗布膜の白化や熱硬化時の、着色、パターンのリフロー、発泡、皺の発生が起こることなく、高解像度、高耐熱性、高透明性、低誘電率性の特性を有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる高感度のポジ型感光性シロキサン組成物を提供する - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition showing excellent resolution of a resist pattern after being developed, edge fusing property during storage and lamination follow-up property to the substrate, having an excellent tenting property of the cured film and aggregation property when the composition is dispersed in a developer, and useful as a DFR (dry film resist) for the manufacture of an alkali developing type printed wiring board.例文帳に追加

現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、保存時のエッジフューズ性と基板へのラミネート追従性とを両立しており、しかも硬化膜のテンティング性や現像液分散時の凝集性にも優れ、アルカリ現像型プリント配線板作製用ＤＦＲとして有用な光重合性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In the optical information recording medium wherein information is expressed by a recording mark pattern including a recording mark length shorter than a resolution limit of an optical system of a reproducing device, a light transmission layer 10, a first information recording layer 20, an intermediate layer 30, a second information recording layer 40 and a substrate 50 are layered in this order from a reproduction light incident side.例文帳に追加

再生装置の有する光学系解像限界以下の記録マーク長を含む記録マークパターンにより情報が表される光情報記録媒体であって、再生光の入射側から、透光層１０と、第１情報記録層２０と、中間層３０と、第２情報記録層４０と、基板５０とがこの順に積層されている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a photosensitive resin composition which can maintain high adhesion and peeling characteristics, even if using a less rugged circuit board and is superior in plating and etching resistance and resolution, and a photosensitive element and a resist pattern which uses this resin composite, and to provide a printed circuit board.例文帳に追加

表面の凹凸が少ない回路形成用基板を用いる場合であっても、該基板に対する密着性と剥離特性との双方を高水準で維持することができ、耐めっき性、耐エッチング性及び解像性に優れた感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition, in which the problems of the performance improvement technique of a microphoto application of its own using far ultraviolet ray, particularly ArF excimer laser beam are solved and concretely, the improvement of sensitivity and resolution and a problem of generation of development defect at the time of developing are resolved and which is small in roughness and fineness dependency and capable of obtaining an excellent resist pattern.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、感度及び解像力に優れ、現像の際の現像欠陥発生の問題が解消され、疎密依存性が少なく優れたレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation and superior developability, excellent in adhesiveness to a substrate as well as in basic solid state properties as a resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, causing no development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、現像性に優れ、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、基板に対する接着性にも優れ、かつ微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a positive-type photosensitive resin composition capable of obtaining a high-sensitivity, high-resolution pattern, having low linear expansion coefficient and giving uniform film thickness because of the superior dispersibility of an alkali soluble resin, a photosensitive diazo quinone compound and an inorganic oxide colloid solution to each other, and to provide a semiconductor device and a display device.例文帳に追加

高感度で高解像度のパターンを得ることができ、低線膨張係数を有し、アルカリ可溶性樹脂と感光性ジアゾキノン化合物と無機酸化物のコロイド溶液との分散性に優れるため膜厚が均一なポジ型感光性樹脂組成物の製造方法並びに半導体装置及び表示素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a lactone copolymer resin which is highly transparent to radiation, can solve the problem on how to take a trade-off between resolution and exposure latitude and is suitable as a resin component in a chemical amplification resist to provide the resist with excellent dry etching resistance and pattern figure; and a radiation-sensitive resin composition containing the lactone copolymer resin.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、特に解像度と露光余裕とのトレードオフの問題を解決でき、しかもドライエッチング耐性、パターン形状等にも優れた化学増幅型レジストの樹脂成分として好適なラクトン系共重合樹脂、および当該ラクトン系共重合樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁