「resolution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming an organic layer pattern by which a high-resolution micropattern can be formed without undergoing any expensive process, e.g., photoresist, leading to simplification of the preparation process and cost reduction.例文帳に追加

フォトレジストなどの高価の工程を経なくても高解像度の微細パターン形成が可能なので、製造工程を単純化し且つ製造コストを節減することが可能な有機層パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition free of occurrence of film defects even in the case of a thick film, excellent in heat resistance, mechanical characteristics, workability and electrical properties, and capable of forming a high resolution circuit pattern.例文帳に追加

厚膜でも塗膜欠陥が発生せず、耐熱性、機械特性、加工性および電気特性に優れ、かつ高解像回路パターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive macromolecular resin capable of forming a thin circuit pattern even under an exposure light source having a short wavelength because of the excellent resolution; and to provide a chemical amplification-type photoresist composition including the resin.例文帳に追加

解像度に優れるため、短波長の露光源下においても、細い回路パターンを形成できる感光性高分子樹脂、及びこれを含む化学増幅型フォトレジスト組成物を開示する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyimide resin composition which has excellent sensitivity in i-ray (365 nm) exposure and a high-resolution, with which the development in alkali water solution can be performed and which can form a good relief pattern.例文帳に追加

ｉ線（３６５ｎｍ）露光で感度がよく、高解像度であり、アルカリ水溶液現像が可能で、良好なレリーフパターンが形成できるポジ型感光性ポリイリミド樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition capable of forming a high resolution pattern without an additional heating process, a method of patterning a thin film using the same, and a method of manufacturing a liquid crystal display panel using the same.例文帳に追加

別途の加熱工程を経ずに高解像度のパターンを形成できるフォトレジスト組成物、これを利用した薄膜パターニング方法、及びこれを利用した液晶表示パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, capable of reducing the number of processes to reduce manufacturing cost in forming a pattern having a dimension exceeding the exposure resolution limit of a photolithographic method.例文帳に追加

フォトリソグラフィ法の露光解像限界を超えた寸法を有するパターンの形成において、工程数を削減し、製造コストを抑えることができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since this allows refractive index of the liquid 203 to be increased and resolution to be enhanced without imposing any burden on the projection lens 205, a resist pattern having a good profile can be attained.例文帳に追加

これにより、液体２０３の屈折率の値が大きくなって、投影レンズ２０５に負担を掛けることなく解像度が向上するので、良好な形状を有するレジストパターンを得ることができる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transpar ency to a radiation, ensuring few development defects and excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution and pattern shape.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、特に現像欠陥が極めて少なく、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an optical recording apparatus capable of acquiring predetermined resolution even when a line width of an exposure pattern is close to a wavelength of exposed light, and reducing time necessary for exposing, and to provide its method.例文帳に追加

露光パターンの線幅が露光光の波長に近い場合であっても所定の解像度が得られかつ露光に要する時間が低減する、光学的な記録装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an electron-beam tube device capable of improving the resolution of an exposure pattern by shortening the range of electron beams while maintaining the size of a maximum deflection region scanned by electron beams.例文帳に追加

電子ビームを走査する最大偏向領域の大きさを維持しつつ、電子ビームの飛程を短縮して露光パターンの分解能を向上することが可能な、電子線鏡筒装置を提供する。 - 特許庁

To provide photomask data correction techniques to extract a defective portion of a wafer process on a design layout and to compensate resolution failure of a resist pattern in a lithography process for manufacturing a semiconductor.例文帳に追加

設計レイアウト上のウェハプロセスの不具合箇所抽出を可能とするとともに、半導体製造リソグラフィ工程におけるレジストパタン解像不良を補うフォトマスクデータ補正技術を提供する。 - 特許庁

The image of the contact surface is recorded by the image sensor having many more image elements (pixels) than those required for a desired resolution in the final image 71 of the output-side intensity pattern.例文帳に追加

出力側の強度パターンの最終画像（７１）内で望まれる解像度のために必要であるよりも遥かに多くの画像要素（画素）を有する画像センサにより、接触面の結像を記録する。 - 特許庁

To provide an acrylic acid ester derivative which is useful as the raw material for a polymer compound for a photoresist composition having excellent lithographic properties and improved LWR and forms a photoresist pattern of high resolution.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れ、ＬＷＲが改善され高解像度のフォトレジストパターンを形成するフォトレジスト組成物用の高分子化合物の原料として有用なアクリル酸エステル誘導体を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition which ensures small surface roughness and line edge roughness during etching and has excellent resolution and a wide focal-depth range, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

エッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネスが少なく、解像性に優れ、焦点深度幅が広い、化学増幅型のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Since the image pickup element 1 uses this color coding pattern, the element 1 can add the four Ye, Cy, Mg, and G picture elements to each other in the vertical and oblique directions and can generate high- resolution luminance signals from the added results through adaptive interpolation, etc.例文帳に追加

この色コーティングパターンを使うことにより、垂直、斜め方向で４画素Ｙｅ，Ｃｙ，Ｍｇ，Ｇの加算ができ、この結果から適応補間処理などを通して解像度の高い輝度信号を作れる。 - 特許庁

In an aligner using this sensor control device, integrated exposure is controlled, and the backward voltage is controlled dynamically, so that a pattern image having high resolution can be obtained over a wide area.例文帳に追加

また、本センサ制御装置を用いた露光装置は、積算露光量を制御すると共に、前記逆電圧をダイナミックに制御することにより、高解像度のパターン像が広い面積にわたり得られる。 - 特許庁

To provide a positive type chemical amplification system photosensitive resin composition having high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and excellent process stability and to provide a method for producing a resist image.例文帳に追加

本発明の目的は、高感度、高解像度でパターン形状が良く、かつ、プロセス安定性の優れたポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a color filter black matrix resist composition with which a thin-film pattern with high light shielding property can easily be formed by a photolithographic method and superior storage stability, and sufficient sensitivity and resolution can be obtained.例文帳に追加

薄膜・高遮光性を有するパターンをフォトリソグラフィー法で容易に形成でき、保存安定性に優れ、十分な感度、解像性が得られるカラーフィルターブラックマトリックスレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

A repeated pattern by the light-shielding film of a non-resolution pitch to the exposure condition of the exposure device is formed across the area corresponding to the first area in the exposure mask.例文帳に追加

前記露光用マスクにおける前記第１の領域に対応する領域に亘って、前記露光装置の露光条件に対して非解像のピッチの前記遮光膜による繰り返しパターンが形成されている。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in sensitivity in exposure and resolution of a resist pattern after development, giving a tough cured film free of break for tenting and having good plating resistance.例文帳に追加

露光時の感度及び現像後のレジストパターンの解像性に優れるとともに、テンティング用では膜破れのない強靭な硬化膜を有し、耐めっき性が良好な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition forming a pattern under an i-line, having high resolution, and ensuring small warpage of an Si wafer after curing of the resin, and also to provide a semiconductor device using the same.例文帳に追加

ｉ線でパターン作成が可能かつ高解像度で、樹脂を硬化した後のＳｉウェハの反りが小さいポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置を提供するものである。 - 特許庁

To form a pattern exhibiting excellent refractive index and translucence in far ultraviolet region while suppressing variation in purity among production lots, and exhibiting excellent sensitivity, resolution and pattern profile when it is used as liquid immersion exposure liquid while suppressing variation in light exposure (reproducibility) among the lots.例文帳に追加

遠紫外領域における屈折率および透過性に優れ、かつ、製造ロット間の純度のばらつきが小さく、液浸露光用液体として用いた場合、感度、解像度、パターン形状に優れ、かつロット間の露光量バラツキ（再現性）の小さいパターンを形成する。 - 特許庁

Since an image for which gradation is considered to be important while resolution is not so much important such as a pattern image or a pattern region, e.g. a photograph is hardly influenced by reduction and enlargement, a good output image can be rather obtained by highly accurate color conversion.例文帳に追加

例えば写真などの絵柄画像あるいは絵柄領域のように、解像度はそれほど必要ではないが階調性が重視される画像については、縮小拡大の影響を受けにくく、むしろ高精度の色変換により良好な出力画像を得ることができる。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemical amplification type negative type resist developable with an alkali developing solution having the conventional concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern in an ordinary line-and- space pattern (1L1S) and excellent also in focus latitude.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、通常のライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）において、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、かつフォーカス余裕度にも優れた化学増幅型ネガ型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which provides a resist pattern achieving sufficiently high resolution, adhesion and tent reliability at the same time when used for forming a resist pattern on a substrate, and which suppresses generation of scum in development.例文帳に追加

基板上にレジストパターンを形成するために用いられたときに、解像度、密着性及びテント信頼性を同時に十分に高いレベルで達成するレジストパターンが得られ、更に、現像の際のスカムの発生も十分に抑制される感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition adaptable to a short-wavelength radiation typified by far UV capable of meeting progress of scale down in an integrated circuit device, having high transparency to radiations and excellent in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, pattern profile and line edge roughness of a pattern.例文帳に追加

集積回路素子における微細化の進行に対応しうる遠紫外線に代表される短波長の放射線に適応可能で、放射線に対する透明性が高く、かつ感度、解像度、パターンプロファイル、パターンのラインエッジラフネス等のレジストとしての基本物性に優れる。 - 特許庁

To provide a high refractive index liquid for liquid immersion exposure capable of forming a pattern having more excellent resolution by preventing elusion and dissolution of a photoresist film or its overlying film component and suppressing deterioration of a pattern shape and capable of being reused and purified, and to provide a liquid immersion exposure method employing the liquid.例文帳に追加

液浸露光方法において、屈折率が大きく、フォトレジスト膜あるいはその上層膜成分の溶出や溶解を防ぎ、パターン形状の劣化を抑え、より解像度の優れたパターンを形成できるとともに、液体の再利用および精製が容易である。 - 特許庁

To provide a printed circuit board and a method of manufacturing the same capable of improving adhesion strength between an insulating layer and an inkjet circuit pattern, improving a resolution by suppressing the spread of the inkjet circuit pattern, and reducing manufacturing cost by forming the circuit by the inkjet method.例文帳に追加

本発明は、絶縁層とインクジェット回路パターンとの間の接着強度を向上でき、インクジェット回路パターンの広がりを抑制して解像度を向上でき、インクジェット方法による回路形成により製造コストを節減できる印刷回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To decrease uneven resolution and density caused by errors in relative positions of drawing heads and installation angles thereof and by influences of pattern distortion or the like in an image drawing apparatus and an image drawing method for forming a desired two-dimensional pattern on a drawing surface by using a plurality of drawing heads.例文帳に追加

複数の描画ヘッドを用いて所望の２次元パターンを描画面上に形成する描画装置および描画方法において、描画ヘッド間の相対位置および相対取付角度の誤差や、パターン歪み等の影響による、解像性や濃度のむらを軽減する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having appropriate properties to be used for a circuit formation substrate, from which a good pattern with excellent sensitivity and resolution can be formed even when the composition contains a polymer having a rigid structure, and to provide a pattern formation method and electronic parts using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

剛直な構造を有するポリマーを含んでも感度、解像度に優れた良好なパターンを形成でき、回路形成用基板用途として適切な諸特性を有する感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition which enables to form a pattern by irradiation with active energy rays, can form a protective film against etching, an interlayer dielectric and a surface protective film, and is excellent in sensitivity, resolution, pattern shape and alkali developability.例文帳に追加

活性エネルギー線の照射によりパターン形成が可能で、エッチングに対する保護膜、層間絶縁膜、表面保護膜を形成しうるネガ型感光性樹脂組成物であって、感度、解像性、パターン形状及びアルカリ現像性に優れるネガ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, exposure dependence, resolution, roughness characteristics, and focus latitude, which reduces scum, and which forms a pattern with an adequate shape, and to provide a resist film and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

感度、露光量依存性、解像力、ラフネス特性、及びフォーカス余裕度に優れ、スカムを低減し、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method using a radiation sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, etc., and in suitability to coating particularly on a substrate of an increased diameter by a spin coating method and excellent also in shelf stability, capable of stable microfabrication and capable of giving a good pattern shape.例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物が感度、解像度等に優れ、特に大口径化された基板へのスピンコート法による塗布性に優れ、かつ保存安定性に優れており、微細加工を安定的に行うことができ、良好なパターン形状を与えることができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming conductive pattern in which a high-resolution conductive pattern having a conductivity and durability can be obtained without requiring complicated process and an expensive apparatus, even when it is applied to the formation of an interconnection, etc. which is used for a plurality of different materials.例文帳に追加

複雑な工程や高価な装置を必要とせず、複数の異なる材料を用いた配線などの形成に適用した場合にも、導電性及び耐久性を有する高解像度な導電性パターンが得られる導電性パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in transparency to radiation and dry etching resistance and capable of forming a resist pattern excellent in resolution, sensitivity, flatness and heat resistance, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device with a fine pattern having a high degree of integration using the resist composition.例文帳に追加

放射線に対する透明性、ドライエッチング耐性に優れ、解像度、感度、平坦性、耐熱性に優れるレジストパターンを形成できるレジスト組成物、ならびに、該レジスト組成物を用いる微細で集積度の高いパターンを持つ半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide inexpensively an inspection device and an observation device capable of inspecting and observing an inspection object having a periodical pattern without generating almost no fading or deterioration of an image, and without being influenced by moire even under the condition that the pattern period is close to CCD resolution.例文帳に追加

周期的パターンを持つ検査対象を、画像のボケや劣化をほとんど生じさせることなくかつパターン周期とＣＣＤ分解能が接近した条件であってもモアレの影響なく検査および観察できる検査装置および観察装置を安価に提供する。 - 特許庁

A basic pattern 8 being a light-transmitting region where a projection image by an exposure device is formed in the size corresponding to the resolution limit is combined with an auxiliary pattern 10 that shields part of the light-transmitting region against light and divides the residual light-transmitting region into a plurality of partial light-transmitting regions 16.例文帳に追加

露光装置による投影像が解像限界に応じた大きさに形成される透光領域である基本パターン８に、透光領域内の一部を遮光して残りの透光領域を複数の部分透光領域１６に分割する補助パターン１０を合成する。 - 特許庁

To provide a positive resist material with a high sensitivity, a high resolution, a small line width roughness, and an excellent post-exposure pattern shape, especially a positive resist material using a high polymer suitable as a base resin of a chemical amplification positive resist material, and to provide a pattern formation method.例文帳に追加

高感度、高解像度で、ラフネス（ＬＷＲ）が小さく、露光後のパターン形状が良好であるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition which excels in sensitivity, resolution, adhesion in development, and heat resistance, can be exposed with an i-line and developed with an alkaline aqueous solution, and yields a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and an electronic component.例文帳に追加

感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるると共に、ｉ線で露光が可能で、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition which excels in sensitivity, resolution, adhesion in development, and heat resistance, can be exposed with an i-line and developed with an alkaline aqueous solution, and yields a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and an electronic component.例文帳に追加

感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られると共に、ｉ線で露光が可能で、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high sensitivity, high resolution and a high radiation transmittance, excellent in smoothness of a pattern surface in micropattern and capable of preventing partial insolubilization in overexposure without impairing basic solid state properties as a resist such as pattern shape, dry etching resistance and heat resistance.例文帳に追加

パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なわずに、高感度、高解像度で、放射線透過率が高く、微細寸法でのパターン表面の平滑性に優れ、かつ過露光時の部分不溶化を解消しうる感放射性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developing type color photosensitive resin composition and its hardened product which gives sufficient surface hardening property and hardening depth when exposed and can form a colored pattern with excellent resolution even when a thick film colored pattern is formed by photolithography.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法により厚膜の着色パターンを形成する場合でも、露光の際に充分な表面硬化性と硬化深度が得られ、解像性に優れた着色パターンを形成できるアルカリ現像型の着色感光性樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming method and an image forming apparatus with which proper silver color can be output, a wiring pattern causing no faulty conduction can be formed with high resolution, and even a complicated electric circuit pattern can be formed faithfully and easily.例文帳に追加

良好な銀色を出力することができ、導通不良を起こすことがない配線パターンを、解像度が高く形成することができ、複雑な電気回路パターンであっても忠実かつ簡易に作成することができる画像形成方法及び画像形成装置の提供。 - 特許庁

To provide a novel radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent basic physical properties for a resist pattern such as in sensitivity, resolution, and pattern shapes, without causing development defects during fine machining, to manufacture semiconductor elements at a high yield.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and its use capable of forming a pattern comprising a polyimide coat of ≥20 μm thickness with high resolution upon development after exposure through a photomask, particularly to provide a method for forming a pattern comprising such a polyimide coat.例文帳に追加

フォトマスクを介して露光させた後、現像することによって、高解像度にて厚み２０μｍ以上のポリイミド被膜からなるパターンを形成することができる感光性樹脂組成物とその利用、特に、そのようなポリイミド被膜からなるパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁