「resolution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The performance image is drawn using the performance pattern converted to the corresponding pattern image resolution and the background image to be adjusted to the specified display resolution.例文帳に追加

そして、対応図柄画像解像度へと変換された前記演出図柄と前記背景画像とを用いて前記演出画像を描画して特定表示解像度に調整する。 - 特許庁

To provide a resist composition that can obtain a pattern with excellent resolution.例文帳に追加

優れた解像度を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The intervals of the resist pattern of the opening part are equal to a distance (x) smaller than the resolution limit.例文帳に追加

開口部のレジストパターンのピッチは解像限界より小さい距離ｘになる。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition producing a pattern excellent in resolution.例文帳に追加

解像度に優れるパターンを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

The image of the resolution-measuring pattern 90 is analyzed, and the resolution of the imaging apparatus 12 is measured (step S18).例文帳に追加

そして、この解像度測定用パターン９０の画像が解析されて、撮像装置１２の解像度が測定される（ステップＳ１８）。 - 特許庁

An input image signal is converted into a signal with the same resolution as that of a dot determination pattern by a resolution conversion part 21.例文帳に追加

入力された画像信号が、解像度変換部２１で網点判定パターンと同一の解像度の信号に変換される。 - 特許庁

To provide a resolution inspection chart in which a resolution inspection pattern can be automatically disposed at the same place in any arbitrary attitude and resolution inspection precision can be improved.例文帳に追加

解像度検査用パターンを同一の場所に任意の姿勢で自動的に配置することができ、解像度検査の精度を向上させることができる解像度検査用チャート。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having high sensitivity and capable of forming a high resolution resist pattern, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

高感度で高解像性のレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for forming a resist pattern with excellent resolution, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

解像力に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern excellent in resolution and a resist pattern forming method.例文帳に追加

解像性に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a radiation sensitive composition excellent in sensitivity, resolution and pattern shape and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

感度、解像度、パタン形状に優れた感放射線組成物およびこれを用いたパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a novel resist pattern forming method capable of forming a resist pattern in a good shape with high resolution.例文帳に追加

良好な形状で、かつ高解像性のレジストパターンを形成できる新規なレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having high sensitivity, excellent in developability and giving a high-resolution and high-definition pattern, and a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material, and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

高感度であり、かつ現像性に優れ、高解像度で高精細なパターンが得られるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A receiving device which is arranged apart from the transmitting device with insufficient resolution reads the two-dimensional blink pattern of the low resolution space, and a receiving device with sufficient resolution reads the two-dimensional blink pattern which is mapped to the space with higher resolution.例文帳に追加

送信装置から離れて解像度が十分でない受信装置は低解像度空間の２次元点滅パターンを読み取り、また、解像度が十分な受信装置はより高解像度の空間にマッピングされた２次元点滅パターンを読み取ることができる。 - 特許庁

To obtain a photosensitive resin composition having high sensitivity, giving a pattern with a high rate of a residual film and excellent in the resolution and pattern shape of a minute pattern.例文帳に追加

高感度で高残膜率のパターンを得られ、同時に微細パターンの解像性及びパターン形状に優れた感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a metallic pattern material capable of forming a metallic pattern of thin lines or small dots with high resolution after plating, and to provide a manufacturing method of the metallic pattern material.例文帳に追加

めっき後に細線乃至小ドットの金属パターンを高解像度で形成できる金属パターン材料及び金属パターン材料の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for forming a colored pattern with stable sensitivity and a resolution.例文帳に追加

安定した感度および解像度で着色パターンを形成し得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fine pattern forming resist which is superior in both the sensitivity and the resolution.例文帳に追加

感度、解像性ともに優れた、微細パターン形成用レジストの提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a method to form a color pattern (5) with stable sensitivity and resolution.例文帳に追加

安定した感度および解像度で着色パターン（５）を形成し得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a new resist pattern with high resolution.例文帳に追加

高解像性のレジストパターンを形成できる新規なレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist for fine pattern formation excellent in both sensitivity and resolution.例文帳に追加

感度、解像性ともに優れた、微細パターン形成用レジストの提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of forming a pattern having excellent resolution.例文帳に追加

優れた解像度を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To form a micro pattern that is below a resolution limit of lithography and is superior in dimensional controllability.例文帳に追加

リソグラフィの解像限界以下の寸法制御性の高い微細パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in sensitivity, resolution, LER (line edge roughness), pattern features and outgas properties.例文帳に追加

感度、解像度、ＬＥＲ、パターン形状、アウトガスに優れたレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition having excellent sensitivity and resolution and giving a favorable pattern profile.例文帳に追加

感度と解像性に優れ、更にはパターン形状も良好なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

A pattern composed of the specified form is detected from the provided low resolution data.例文帳に追加

得られた低解像度データから特定の形状で構成されるパターンを検出する。 - 特許庁

A main pattern 1A, resolution improving SRAFs (Sub-Resolution Assist Feature) 2A and 2B for improving the resolution of a pattern on the substrate obtained by a lithography process for transferring the main pattern 1A onto the substrate, and transfer suppressing SRAFs 3A to 3D for suppressing transferability of the resolution improving SRAFs 2A and 2B onto the substrate by the lithography process are disposed.例文帳に追加

主パターン１Ａと、主パターン１Ａを基板上に転写するリソグラフィプロセスにより得られる基板上パターンの解像度を向上させる解像度向上ＳＲＡＦ２Ａ，２Ｂと、リソグラフィプロセスによる解像度向上ＳＲＡＦ２Ａ，２Ｂの基板上への転写性を抑制する転写抑制ＳＲＡＦ３Ａ〜３Ｄと、を配置する。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive pattern which can form a fine pattern having a high resolution and conductivity, and to provide a conductive pattern material, from which the fine pattern having a high resolution and conductivity can be formed and which has a wide range of applications.例文帳に追加

微細で解像度及び導電性の高いパターンを形成しうる導電性パターン形成方法、及び、微細で解像度及び導電性の高いパターンが形成されてなる応用範囲の広い導電性パターン材料を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of relief pattern capable of manufacturing a complicated pattern at high quality by performing high-resolution pattern plotting with respect to the manufacturing method of relief pattern using charged particle beams of an EB plotting apparatus and the like.例文帳に追加

ＥＢ描画装置などの荷電粒子ビームを用いたレリーフパターンの作製方法において、解像度の高いパターン描画を行い複雑なパターンを高品質に作製する。 - 特許庁

A photomask 11 is provided with: a transfer pattern 12 that is to be transferred onto a photoresist film; a first assist pattern 13 disposed in a periphery of the transfer pattern 12 and improving the resolution of the transfer pattern; and a second assist pattern 14 configured to be not transferred onto the photoresist film and giving no influence to the resolution of the transfer pattern.例文帳に追加

フォトレジスト膜に転写される転写パターン１２と、転写パターン１２の周囲に配置され、転写パターンの解像度を向上させる第一のアシストパターン１３と、 前記フォトレジスト膜に転写されないように構成され、前記転写用パターンの解像度には影響しない第二のアシストパターン１４とをフォトマスク１１に設ける。 - 特許庁

Then, the pattern is read by a resolution lower than the resolution in the direction intersecting the moving direction by a scanner on the moving direction.例文帳に追加

次に、前記移動方向について前記移動方向と交差する方向よりも低い解像度で前記パターンをスキャナで読み取る。 - 特許庁

The mask for measuring flare includes a box pattern as an outer frame, a measurement pattern for measuring the displacement amount inside the box pattern, and an auxiliary pattern, having a dimension lower than the resolution and adjacent to the measurement pattern.例文帳に追加

フレア測定用マスクは外枠となるボックスパターンと、ボックスパターンの内部に位置ズレ量を計測するための計測用パターンと、計測用パターンに隣接した解像限界寸法以下の補助パターンとを備えている。 - 特許庁

To provide a wiring pattern having a substantially identical wiring width by using a super resolution technology able to realize a fine pattern beyond the resolution of an exposure apparatus by combining process technologies without raising the resolution limit of the exposure apparatus.例文帳に追加

露光装置の解像度を超える微細パターンを、露光装置の露光限界を上げることなくプロセス技術を組み合わせて実現する超解像技術を用いて、略同一の配線幅を有する配線パターンを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition capable of forming a permanent pattern having excellent sensitivity, resolution, resistance to electroless gold plating and storage stability, and a printed circuit board on which the permanent pattern is formed.例文帳に追加

感度、解像度、無電解金めっき耐性、及び保存安定性に優れた、永久パターンが形成されるプリント基板。 - 特許庁

To provide a formation method of a fine pattern which can improve uniformity of a pattern finer than the limit of exposure resolution.例文帳に追加

露光解像度の限界より微細なパターンの均一性を改善することができる微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive element excellent in roughness of lateral faces of a resist pattern, flatness of the top surface of the pattern, resolution, adhesion and alkali developability.例文帳に追加

レジストパターンの側面ギザ性、パターン上面の平担性、解像度、密着性アルカリ現像性に優れた感光性エレメント。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an electron beam capable of forming a high-resolution resist pattern, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

高解像性のレジストパターンを形成できる電子線用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To efficiently form a desired drawing pattern on a substrate while obtaining a pattern with high resolution without decreasing the throughput.例文帳に追加

スループットを下げることなく高解像度のパターン形成を実現しながら、任意の描画パターンを効率よく基板へ形成する。 - 特許庁

A recording pattern with size of a resolution limit or below can be reproduced with signal intensity equal to that of a recording pattern whose size is equal to and more than the resolution limit through the formation of the ring shaped specific region.例文帳に追加

このリング状の特異領域によって解像限界以下の大きさの記録パターンをそれ以上の大きさの記録パターンと同等の信号強度で再生することが可能となる。 - 特許庁

The photo mask 3 is constituted of a pattern 3a which is formed on a region where the resist 2 is to be eliminated and has line width more than or equal to resolution limit and a pattern 3b having line width rougher than or equal to the resolution limit.例文帳に追加

フォトマスク３は、レジスト２を除去しようとする領域に形成した解像限界以上の線幅のパターン３ａと、解像限界以下の線幅のパターン３ｂとからなる。 - 特許庁

The relatively-high-resolution pattern is printed on the flat surface of the high protrusion, and the relatively-low-resolution pattern is printed on the flat surface of the low protrusive part.例文帳に追加

高さの高い凸部平坦面には相対的に解像度の高い柄模様が印刷され、高さの低い凸部平坦面には相対的に解像度の低い柄模様が印刷されている。 - 特許庁

To provide a pattern forming material satisfying both high resolution and thin line adhesion, and forming a high-definition pattern, and also to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material, and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

高解像度と細線密着性を両立でき、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photomask provided with a non-resolution pattern having a desired pattern shape by preventing a resist pattern for forming the non-resolution pattern from falling into a state which differs from a desired shape and being transferred to a metal film on the photomask, in this state.例文帳に追加

非解像パターンを形成するためのレジストパターンが所望の形状とは異なった状態となり、その状態でフォトマスク上の金属膜に転写されることを防止することで、所望のパターン形状の非解像パターンを備えたフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To excellently form a fine pattern at a close pitch almost to or below a resolution limit.例文帳に追加

解像限界付近或いは解像限界以下の微小パターンを密なピッチで良好に形成する。 - 特許庁

HIGH-RESOLUTION POSITIVE TYPE CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

高解像度ポジ型化学増幅系レジスト材料及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁