「resolution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a colored photosensitive resin composition capable of obtaining a pattern having excellent resolution.例文帳に追加

解像性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To accomplish exposure of a non-periodic pattern on a large-area exposed object with high resolution.例文帳に追加

大面積の被露光体における非周期性のパターンの露光を高解像力にて行う。 - 特許庁

A pattern constitute din a specific shape is detected from obtained low-resolution data.例文帳に追加

そして、得られた低解像度化データから特定の形状で構成されるパターンを検出する。 - 特許庁

To prevent the lowering of the product yield by facilitating pattern processing with high resolution.例文帳に追加

高い解像度でパターンを加工することが容易であって、製品歩留まりの低下を防止する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition forming a resist pattern having sufficiently high resolution.例文帳に追加

十分に高い解像度を有するレジストパターンを形成する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A sample, having a pattern having a cross-sectional shape suitable for resolution monitoring.例文帳に追加

本発明では，分解能モニタに適した断面形状のパターンを有するサンプルを提供する。 - 特許庁

Consequently, the photomask can easily be corrected and the resolution of the exposure pattern can be made high.例文帳に追加

この結果、フォトマスクを容易に補正することができ、露光パターンの高解像度化が実現できる。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition from which a pattern having high resolution can be obtained.例文帳に追加

解像性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

This can form the pattern having the uniform resolution on a whole surface of the sheet-like work.例文帳に追加

これにより、薄板状ワークの全面に均一な解像度のパターンを形成することができる。 - 特許庁

A phase-shift mask has a checkerboard array and a sub-resolution assist phase pattern surrounding the checkerboard array.例文帳に追加

チェッカーボードアレイ及びこれを囲むサブレゾリューション・アシスト位相パターンを備える位相シフトマスクである。 - 特許庁

Specific pattern data is reproduced, and optimum reproducing power optimum in resolution is set in ST4.例文帳に追加

ＳＴ４で特定パターンデータを再生し、解像度が最適となる最適再生パワーを設定する。 - 特許庁

To obtain a resin for photoresist which is excellent in homogeneity and can give a fine pattern with a high resolution.例文帳に追加

均質性に優れ、解像度の高い微細パターンを得ることのできるフォトレジスト用樹脂を得る。 - 特許庁

To provide a composition which has a low production cost and can form a pattern with high resolution and high sensitivity.例文帳に追加

製造コストが安く、高解像度、高感度でパターンを形成できる組成物を提供する。 - 特許庁

Base pattern original image data (a) are stored by a base pattern original image storage means 13 with resolution which is lower than that of original image data, and when the data are read, the data are magnified variably to the resolution of the original image data by a base pattern original image magnification unit 16.例文帳に追加

地紋元画像データａは、オリジナル画像データよりも低い解像度で地紋元画像保持手段１３に保持され、読み出されたときに、地紋元画像変倍器１６により、オリジナル画像データの解像度に変倍される。 - 特許庁

To provide a mask improved in the strength of the mask, patterning the pattern region to be a wiring pattern with high resolution, and also patterning a pattern region of a large area en block.例文帳に追加

マスク強度の向上及び、配線パターンとなるパターン領域を高解像度で、かつ、大面積のパターン領域を一括でパターニングすることができるマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming apparatus and a pattern forming method capable of forming a pattern image with high resolution by charged particles on a transfer medium.例文帳に追加

被転写媒体に対して帯電粒子によるパターン像を高い解像度で高精細に形成できるパターン形成装置、およびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having preferable resolution even for a contact hole pattern and a trench pattern and low dependence on the pattern density in the manufacture of semiconductor devices.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターンやトレンチパターンについても良好な解像性を有し、疎密依存性も小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

First processing for the base pattern data judged in the base pattern judgement step and second processing for the image data other than the base pattern data are performed in the resolution conversion step.例文帳に追加

解像度変換ステップは、地紋判別ステップにより判別された地紋データに対する第１の処理と、地紋データを除く画像データに対する第２の処理とを行う。 - 特許庁

To provide a pattern measuring system which can obtain dimensional distribution of a pattern on a wafer correctly, a pattern measuring method, a process management method and an exposure condition resolution method.例文帳に追加

ウエーハ上のパターンの寸法分布を正確に求めることができるパターン計測システム、パターン計測方法、プロセス管理方法及び露光条件決定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern capable of responding to formation of various types of resist patterns, and forming a resist pattern excellent in focus depth, a pattern profile, resolution, CDU and pattern collapse resistance.例文帳に追加

種々のレジストパターンの形成に対応でき、焦点深度、パターン形状、解像性、ＣＤＵ及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for forming a resist pattern of good shape with high resolution and a resist pattern forming method.例文帳に追加

高い解像性で、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To form a pattern with high resolution while preventing pattern shift even when a substrate is misaligned during the substrate is continuously carried.例文帳に追加

基板を連続的に搬送させている間に基板の位置ずれが生じてもパターンずれを生じず、高解像度のパターンを形成させる。 - 特許庁

To provide a negative resist composition capable of attaining suppression of swelling and high resolution of a resist pattern, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

レジストパターンの膨潤の抑制と高解像性とを達成可能なネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern-forming method, which satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern form and a residual film rate in a super-fine processing region.例文帳に追加

超微細領域での高感度、高解像性、良好なパターン形状、残膜率を満足できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition exhibiting excellent resolution with which a resist pattern having a good shape is formed, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

解像性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a formation method of a fine pattern capable of forming a line pattern having a narrower line width than a resolution limit of an exposure device.例文帳に追加

露光装置の解像限界よりも狭い線幅を有するラインパターンを形成可能な微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a hard mask pattern for defining a target pattern in a matrix shape arrayed finely below the resolution of exposure equipment.例文帳に追加

露光装備の解像度以下に稠密に配列されたマトリックス状の目標パターンを定義するためのハードマスクパターンを形成すること。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device of a substrate surface capable of speedily inspecting substrate which includes a pattern below a resolution limit of light.例文帳に追加

光の解像限界以下のパターンを含む基板を高速に検査することが可能な基板表面のパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

To form a pattern of high resolution without misalignment of the pattern even when a substrate displaces while the substrate is continuously carried.例文帳に追加

基板を連続的に搬送させている間に基板の位置ずれが生じてもパターンずれを生じず、高解像度のパターンを形成させる。 - 特許庁

To provide a fine pattern forming method of a semiconductor element having a pattern which is free of misalignment and finer than the resolution of exposure equipment.例文帳に追加

整列誤差の発生のない、露光装備の解像度より微細なパターンを有する半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The image light including a test pattern of nipping a pattern image of a striped pattern between a white pattern and a black pattern, is made incident on the lens of a test object, and a resolution numeric value is determined by detecting a luminance value of the emitting light from the lens.例文帳に追加

白パターンと黒パターンとの間に縞模様のパターン画像を挟み込んだテストパターンを含む画像光をテスト対象のレンズに入射し、レンズからの射出光の輝度値を検出して解像度数値の判定を行う。 - 特許庁

The exposure mask 1 for transferring a pattern onto a wafer by exposure includes: a pattern formation region 15 where a pattern 16 having a size not smaller than a resolution limit after being transferred onto the wafer, and a sub-pattern formation region 18 where a sub-pattern 19 having a size less than the resolution limit after being transferred onto the wafer, on a substrate 11.例文帳に追加

露光によりウェーハ上にパターンを転写する露光用マスク１において、基板１１上に、ウェーハ上で解像限界以上となるサイズのパターン１６が形成されたパターン形成領域１５と、ウェーハ上で解像限界未満となるサイズのサブパターン１９が形成されたサブパターン形成領域１８とを設ける。 - 特許庁

Then, a specified pattern images whose resolutions can be discriminated are outputted on a recording paper, and based on information of the resolution of the outputted pattern image, the position of the LPH is adjusted to a position where the resolution is high.例文帳に追加

次に、記録紙に解像度が判別可能な所定のパターン画像を出力し、出力されたパターン画像の解像度の情報に基づき、前記ＬＰＨの位置を解像度が高い位置に調整する。 - 特許庁

To realize a high quality printing both on a pattern necessitating a high resolution and on a pattern attaching much importance to printing density though having a low resolution in a printing plate used in a gravure printing machine.例文帳に追加

グラビア印刷機で使用する印刷版において、高解像度が必要な絵柄と、低解像度だが印刷濃度を重視する絵柄の両方について、高い品質の印刷を可能にする。 - 特許庁

A test pattern image to correct the ink density discharged by the discharge nozzles is read by an optical sensor in a lower reading resolution than a nozzle resolution, and an ink density distribution is prepared by acquiring test pattern image data.例文帳に追加

吐出ノズルが吐出するインクの濃度を補正するためのテストパターン画像を、光学センサがノズル解像度よりも低い読取解像度で読み取り、テストパターン画像データを得てインク濃度分布を作成する。 - 特許庁

To provide a method of forming a mask pattern capable of overcoming the limit of resolution even in an already-provided exposure apparatus when exposing a photosensitive film and of making it possible to form a fine pattern below the resolution.例文帳に追加

感光膜を露光する場合に既設の露光装備であっても解像度の限界を克服でき、解像度以下の微細パターンの形成を可能とするマスクパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Almost striped pattern due to the still grid 4 is hardly appeared in a signal LL1 representing an image with a standard resolution when the signal is restored up to a resolution level 1.例文帳に追加

解像度レベル１まで復元すれば、標準解像度画像を表す信号ＬＬ１においては静止グリッド４に起因する縞模様が殆ど現れない。 - 特許庁

This print control device comprises a toner save pattern forming means that forms a toner save pattern corresponding to a resolution set by a host device or a resolution used at a time when an original document is read and a toner saving operation means that applies the toner save pattern formed by the toner save pattern forming means to print output data.例文帳に追加

ホストにより設定された解像度又は原稿を読み取った際の解像度に対応してトナーセーブパターンを作成するトナーセーブパターン作成手段と、トナーセーブパターン作成手段によって作成されたトナーセーブパターンを印刷出力データに付与するトナーセーブ処理手段とを具備する。 - 特許庁

To provide a resist material which improves etching resistance to secure the resolution of a resist pattern with micronization, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

レジストパターンの微細化に伴う解像性確保のため、耐エッチング性が改良されたレジスト材料及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a formation method of a fine pattern capable of further improving CD uniformity of a fine pattern having a pitch smaller than a resolution limit.例文帳に追加

解像限界以下のピッチを持つ微細パターンのＣＤ均一性を、より良好にできる微細パターンの形成方法を提供すること - 特許庁

To form a pattern with high resolution while preventing pattern shift even when the positional shift of a substrate is caused during the substrate is continuously conveyed.例文帳に追加

基板を連続的に搬送させている間に基板の位置ずれが生じてもパターンずれを生じず、高解像度のパターンを形成させる。 - 特許庁

To improve resolution in the TDI direction of an optical pattern image when inputting the image of a pattern using a storage type (TDI) sensor.例文帳に追加

蓄積型（ＴＤＩ）センサを用いたパターンの画像入力においてパターン光学像のＴＤＩ方向における解像性能を向上させる。 - 特許庁

To provide a method for producing a conductive pattern material with a conductive pattern having high resolution, no break and excellent durability.例文帳に追加

高解像度で、断線がなく、更に、耐久性に優れる導電性パターンを備えた導電性パターン材料の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which allows such pattern formation as comprising a resolution characteristics of electron beam and productivity of light.例文帳に追加

電子ビームの解像性と光の生産性を兼ね備えたパターン形成を可能とするパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method excellent in resolution and sensitivity, and a photosensitive resin composition suitable for the pattern forming method.例文帳に追加

解像度および感度に優れたレジストパターンの形成方法、並びにそのパターンの形成方法に適した感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁