「resolution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an excellent screen that provides sufficient brightness, does not lower the resolution or produce a moire pattern, and reduces the degree of scintillation produced.例文帳に追加

良好な明るさを有し、解像度の悪化やモアレの発生がなく、しかもシンチレージョンの発生を緩和した、優れたスクリーンを提供する。 - 特許庁

To enable the execution of an exposure treatment with a good resolution by removing the affection of a reticle pattern in the measurement of a focusing position of a reticle.例文帳に追加

レチクルのフォーカス位置の計測においてレチクルパターンの影響を排除し、良好な解像度による露光処理の実行を可能とする。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition allowing development with an alkaline aqueous solution and excellent in resolution, photosensitivity and pattern form even in the case of a thick film.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像でき、厚膜でも解像度、感度、パターン形状に優れるポジ型の感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity, high resolution and excellent edge roughness of a line pattern.例文帳に追加

高感度かつ高解像度で、ラインパターンのエッジラフネスが優れた電子線またはＸ線用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for exposing a substrate by which a high precision and high resolution pattern of a photosensitive resin layer can be formed, and to provide an exposure system.例文帳に追加

高精度かつ高解像度の感光性樹脂層パターンの形成を可能にする基板露光方法および露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an image processing unit capable of performing dot position shift processing without pattern matching, making an image data obtain high resolution.例文帳に追加

画像データを高解像度化しつつ、パターンマッチングを行うことなくドット位置寄せ処理を行うことができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

In heating by a selective heat source having low resolution, the tracking pattern p by yellow toner or the like is formed only on the circumference of the image part.例文帳に追加

低解像度の選択的熱源による加熱においては、画像部ｆ周辺のみにイエロートナー等による追跡パターンｐを形成する。 - 特許庁

To provide a pattern-forming material which is high in engraving sensitivity and efficiently engravable with low laser energy and gives excellent resolution.例文帳に追加

彫刻感度が高く、低レーザーエネルギーで効率的に彫刻が可能であるとともに、解像度が良好なパターン形成材料を提供すること。 - 特許庁

In addition, the resist composition obtains a high resolution pattern since the dissolution speed is remarkably improved and can prevent substrate defect formation such as development inferiority.例文帳に追加

また、溶解速度が著しく向上することから高解像度なパターンが得られ、現像不良などの基板欠陥形成を防止できる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having improved pattern profile, particularly, roughness without causing basic ability such as sensitivity and resolution to fall significantly.例文帳に追加

感度、解像度などの基本的な性能を大きく落とさずにパターンプロファイル、特にラフネスが改良されたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for forming a resist pattern which further satisfies all of sensitivity, resolution and adhesion.例文帳に追加

感度、解像度及び密着性の全てを従来よりも十分に満足するレジストパターンを形成する感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having good strippability, excellent in resolution and tenting property, excellent also in developability, and ensuring little change in resist line width, profile, etc., irrespectively of a change in development time (large development latitude), and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

剥離性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、現像時間が変化してもレジストの線幅、プロファイルなどの変化が少ない（現像ラチチュードの広い）パターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having good strippability, excellent in resolution and tenting property, excellent also in developability, and ensuring little change in the line width and profile of resist even if developing time is varied (large development latitude), and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

剥離性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、現像時間が変化してもレジストの線幅、プロファイルなどの変化が少ない（現像ラチチュードの広い）パターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming material excellent not only in resolution and tenting property but in developability and resist strippability because a binder contained in a photosensitive layer has an I/O value and a glass transition temperature each within a given numeric range, and to provide a pattern forming apparatus with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

感光層に含まれるバインダーのＩ／Ｏ値及びガラス転移温度が、ともに一定の数値範囲内であることにより、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、かつレジスト剥離性に優れたパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a composition for pattern formation having good sensitivity and tenting strength, excellent in adhesion to a substrate such as a substrate for printed wiring formation, also having good strippability from a support and good resolution, and enabling a high-definition pattern to be formed, and to provide a pattern forming material obtained by using the composition and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

感度、テンティング強度が良好であるのみならず、プリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れ、支持体からの剥離性、及び解像度が良好で、高精細なパターンを形成可能なパターン形成用組成物及びこれを用いたパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition and a photosensive film for efficiently forming a highly fine permanent pattern superior in insulation reliability, transparency and glossiness by having excellent sensitivity and resolution, and also to provide a permanent pattern forming method using the photosensitive film, and a printed circuit board forming a pattern by the permanent pattern forming method.例文帳に追加

優れた感度及び解像度を有し、絶縁信頼性、透明性、及び光沢度に優れた高精細な永久パターンを効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、該感光性フィルムを用いた永久パターン形成方法、該永久パターン形成方法によりパターンが形成されるプリント基板の提供。 - 特許庁

Image data are received from an external device 101, a pattern matching circuit 102 analyzes a pattern of the image data, and when the pattern is coincident with a prescribed pattern, a smoothing processing circuit 103 interpolates pixels of the data so that the resolution of the image data is converted from 400 dpi into 800 dpi and density of the image data is corrected so as to be smoothed.例文帳に追加

外部機器１０１から画像が入力され、パターンマッチング回路１０２で画像データのパターンが分析され、所定のパターンに一致すれば、スムージング処理回路１０３により、解像度が４００ｄｐｉから８００ｄｐｉになるよう画素が補間され、また画像濃度が補正されてスムージングが行われる。 - 特許庁

Then, by using the photomask, which has a plurality of patterns for the measurement of the pattern arrangement in the pattern formation area, on the principal surface of a semiconductor wafer, it has the process which transfers the prescribed pattern and let the size of the pattern for the measurement be a size which is lower than the resolution limit and moreover detectable.例文帳に追加

また、パターン形成領域内にパターンの配置位置を測定する測定用パターンを複数配置したフォトマスクを用いて半導体ウエハの主面上に所定のパターンを転写する工程を有し、前記測定用パターンの寸法を、解像限界以下で、かつ、検出可能な寸法とするものである。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polymer composition having high sensitivity and a favorable pattern profile and a favorable film remaining rate in an unexposed portion, to provide a method for manufacturing a relief pattern to obtain a pattern with high resolution and a preferable profile from the above composition, and to provide electronic parts with high reliability having the above relief pattern.例文帳に追加

本発明は、感度が高く、パターンの形状や未露光部の残膜率も良好なポジ型の感光性重合体組成物、該組成物により、解像度が高く、良好な形状のパターンが得られるレリーフパターンの製造方法、このレリーフパターンを有する信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition with which a pattern with a low refractive index, excellent film strength and few development defects can be formed at high resolution, a pattern forming material, as well as a photosensitive film using it, a pattern forming method, a pattern film, a low refractive index film, an antireflection film, an optical device and a solid state imaging element.例文帳に追加

本発明は、屈折率が低く、更には、膜強度に優れ、現像欠陥が少ないパターンを高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、反射防止膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

To provide a material and method for forming conductive pattern by which a fine disconnection-free conductive pattern can be formed with high sensitivity and high resolution through exposure and, in addition, a pattern can be formed directly with an infrared laser beam based on digital data.例文帳に追加

露光により高感度でパターン形成することができ、高解像度で、断線のない微細なパターンが得られ、且つ、赤外線レーザによりデジタルデータに基づき直接パターン形成が可能な導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern simultaneously satisfying high sensitivity, high resolution and good dry etching resistance even in the formation of an isolated pattern, to provide a resist film using the composition, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

孤立パターンの形成においても、高感度、高解像性、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness characteristics, the resolution and dry etching resistance of an isolated pattern and enables a pattern of good configuration to be formed, and to provide a pattern forming method using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

感度、ラフネス特性、孤立パターンの解像性及びドライエッチング耐性に優れ、且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive composition which has high resolution and allows fine holes to be formd and allows a cured pattern with a good elastic modulus and a low relative dielectric constant to be formed, and to provide a cured pattern obtained using the negative radiation-sensitive composition, and a method for forming the cured pattern.例文帳に追加

高解像度であり、微細空孔を形成でき、弾性率が良好であり、且つ低比誘電率な硬化パターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、並びに、それを用いてなる硬化パターン及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having excellent sensitivity, resolution and adhesiveness, and giving a pattern having excellent heat resistance, low water absorption and a good pattern shape even when used in a low-temperature curing process at ≤280°C, a method for producing a pattern, and electronic components.例文帳に追加

感度、解像度、接着性に優れ、さらに２８０℃以下で行なわれる低温硬化プロセスで用いても耐熱性に優れ、吸水率の低い、良好な形状のパターンが得られる感光性樹脂組成物、パターンの製造方法、電子部品を提供する。 - 特許庁

When multimedia information is recorded on a storage medium as an optically readable dot pattern, the size of dot of the dot pattern is changed according to the resolution of a printer 626 by the dot pattern shape converting circuit 654 of a multimedia information.例文帳に追加

マルチメディア情報を光学的に読み取り可能なドットパターンとして記録媒体上に記録する際に、マルチメディア情報記録処理部５９８のドットパターン形状変換回路６５４で、プリンタ６２６の解像度に合わせて上記ドットパターンのドットの大きさを変更する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of semiconductor device and semiconductor manufacturing equipment capable of cutting a part of a closed loop pattern, even if the array pitch of a pattern is small, in a method for forming the pattern having dimensions that exceed the resolution limit of lithography.例文帳に追加

リソグラフィの解像限界を超えた寸法を有するパターンを形成する方法において、パターンの配列ピッチが小さくても、閉ループ形状のパターンの一部を切断することができる半導体装置の製造方法、及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive composition capable of suppressing the occurrence of a residue from the next color (for example, from the second color) remaining on an unexposure part and on a colored pattern (for example, the first color pattern) and color mixture accompanied by the residue, and capable of forming a high-resolution pattern.例文帳に追加

未露光部の上及び着色パターン（例えば１色目パターン）上に残存する次色以降（例えば２色目以降）の残渣、並びにこれに伴う混色の発生を抑制し、高解像度のパターン形成が可能な着色感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a color image sensor that can discriminate whether a color image copied in a dot pattern of 3 primary colors or the like is real or false without the need for high resolution.例文帳に追加

高解像度を必要とせずに、３原色等のドットパターンでコピーされたカラー画像の真贋を判別することができるカラーイメージセンサを提供する。 - 特許庁

To provide a resist material for fabricating an LCD which forms a resist pattern with high resolution even under a low NA condition and has good linearity.例文帳に追加

低ＮＡ条件下でも、高い解像度でレジストパターンを形成することができ、好ましくはリニアリティの良好な、ＬＣＤ製造用のレジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a color filter substrate that has an optical compensating function, has high resolution, and forms fine pattern.例文帳に追加

光学補償機能を有するカラーフィルタ基板の製造方法において、解像度が良好で、さらに精細なパターンを形成することができる製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive resin composition which can form a rectangular pattern with high resolution and has superior sensitivity, developing property, size faithfulness, etc.例文帳に追加

高解像度で矩形のパターンを形成でき、しかも感度、現像性、寸法忠実度等に優れたネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection method capable of detecting a fine pattern with high resolution, and a device therefor, and a method of manufacturing a semiconductor substrate with a high yield.例文帳に追加

微細なパターンを高い分解能で検出する欠陥検査方法、その装置及び半導体基板を高歩留まりで製造する方法を提供する。 - 特許庁

In this situation, the array pitch of the output faces 15 arranged in the direction crossing the scanning direction of the polygon mirror 27 is made equal to resolution of an exposure pattern.例文帳に追加

この場合、ポリゴンミラー２７の走査方向と交差する方向に配置する出射端１５の配列ピッチを露光パターンの分解能に等しくする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which has excellent resolution performance, a low LWR (Line Width Roughness), excellent pattern collapse resistance and excellent defectiveness.例文帳に追加

解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れる感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a defect inspecting device that embodies high resolution and a fast inspection speed for a technique for inspecting a pattern on a wafer by using an electron beam.例文帳に追加

電子ビームを用いたウェハ上パターンを検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide form resist patterns finer than optical resolution dimensions by using the resist material thus far and exposure means relating to a pattern forming method.例文帳に追加

パターン形成方法に関し、これまでのレジスト材料及び露光手段を用いて光学的解像寸法以上に微細なレジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good stability to PED (post-exposure delay) in vacuum.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The sheet image 14 is analyzed by each area by the resolution-measuring apparatus 10, and a pattern position for specifying marker 92 is detected (step S14).例文帳に追加

そして、解像度測定装置１０によりシート画像１４が上記エリアごとに解析され、パターン位置特定用マーカ９２が検出される（ステップＳ１４）。 - 特許庁

To provide a high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition having high sensitivity and capable of forming a fine resist pattern having a large film thickness and a high aspect ratio.例文帳に追加

感度が高く、且つ高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying all of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable vacuum PED characteristics (post exposure delay in vacuum).例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To easily obtain higher resolution of an exposure pattern with an inexpensive proximity exposure type aligner without using an expensive projection exposure type aligner.例文帳に追加

高価な投影露光方式の露光機を使用せずに安価な近接露光方式の露光機を使用して露光パターンの高解像度化を容易に実現する。 - 特許庁

To provide a resist composition which provides a pattern having satisfactory resolution and line edge roughness, and to provide a compound and a resin attaining the resist composition.例文帳に追加

得られるパターンの解像度及びラインエッジラフネスが良好なレジスト組成物、これを実現する化合物及び樹脂を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a copolymer for chemical amplification positive type semiconductor lithography, which has high developing contrast and excellent resolution in a fine pattern.例文帳に追加

現像コントラストが高く、微細パターンの解像性能に優れた、化学増幅ポジ型の半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To enable the small diameter of a disk-like scale having a pattern for rotation detection without dropping the resolution of an encoder and changing a sensor.例文帳に追加

エンコーダの分解能を低下させずに、且つ、センサを変更することなく、回転検出用パターンを備える円盤状スケールの小径化を行える様にすること。 - 特許庁