「resolution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that is satisfactory with respect to high sensitivity, high resolution of a dense pattern and an isolated line, sufficient exposure latitude, proper line width roughness, proper bridge margin and high resolution of isolated space, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

高感度、密集パターンおよび孤立ラインの高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、良好なブリッジマージン、孤立スペースの高解像性を同時に満足する感活性光線または感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a blanket, in which the poor resolution of lines normal to a printing direction at the printing of a minute pattern by an offset printing is solved, and the forming method of the minute electrode pattern by the offset printing, in which the poor resolution of the lines normal to the printing direction is solved.例文帳に追加

オフセット印刷により微細パターンを印刷するときの印刷方向に対して垂直なラインの解像度不良を解消したブランケット並びに印刷方向に対して垂直なラインの解像度不良を解消したオフセット印刷による微細電極パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat-resistant negative photosensitive resin composition also having good sensitivity and resolution, a pattern forming method using the composition in which the composition is developable with an alkaline aqueous solution and excels in sensitivity, resolution and heat resistance and by which a pattern of a good shape is obtained, and to provide high-reliability electronic components.例文帳に追加

感度や解像度も良好な耐熱性ネガ型感光性樹脂組成物、これを用いたアルカリ水溶液で現像可能で、感度、解像度及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターン形成方法、及び信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

In addition, a feature pattern used in the case of specifying a low resolution dictionary image corresponding to the character image is clustered into a plurality of groups and stored in a data base and it is effective to specify the low resolution dictionary image corresponding to the character image using a representative pattern of each group.例文帳に追加

また、文字画像に対応する低解像度辞書画像を特定する際に用いる特徴パターンは、複数のグループにクラスタリングしてデータベースに格納し、各グループの代表パターンを用いて文字画像に対応する低解像度辞書画像を特定するのも有効である。 - 特許庁

In addition, it is effective that a feature pattern used in the case of specifying a low resolution dictionary image corresponding to the character image is clustered into a plurality of groups and stored in a data base, and that the low resolution dictionary image corresponding to the character image is specified using a representative pattern of each group.例文帳に追加

また、文字画像に対応する低解像度辞書画像を特定する際に用いる特徴パターンは、複数のグループにクラスタリングしてデータベースに格納し、各グループの代表パターンを用いて文字画像に対応する低解像度辞書画像を特定するのも有効である。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method appropriate for immersion exposure by eliminating a resist pattern fall and the deterioration of profile, resolution, focal depth and exposure tolerance in the case of pattern formation using the immersion exposure of a resist composition particularly with far-ultraviolet ray light as a light source.例文帳に追加

特に遠紫外線光を光源とした、レジスト組成物の液浸露光によるパターン形成において、レジストパターンの倒れ、プロフィル、解像力、焦点深度、露光余裕度の劣化が無く、液浸露光に好適なレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition and a pattern forming method thereto which can exhibit enough resolution in the ordinary pattern formation, reduce the pattern size by flow baking, and provide easy control of flow amount.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、通常のパターン形成においても十分な解像力を示し、また、フローベークでパターン寸法を小さくすることが可能で、フロー量が制御し易いレジスト材料及びそのパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can easily form a contact connected to a pattern of a processing film on an upper layer of the pattern of the processing film serving as a line-and-space pattern less than an exposure resolution limit of the photolithography method.例文帳に追加

フォトリソグラフィ法の露光解像限界未満のラインアンドスペースパターンとなる被加工膜のパターンの上層に、その被加工膜のパターンと接続するコンタクトを容易に形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which exhibits good sensitivity, resolution and pattern profile, small line edge roughness and good surface roughness as a composition for pattern formation with an active ray or radiation, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

活性光線又は放射線によるパターン形成用として、感度、解像力、パターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスが小さく、更には、表面ラフネスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

(1) In a direction going toward the data part from the servo part of each track, a distance from a servo pattern to be a reference of timing matching for starting to detect the data pattern to a data pattern closest to the servo part is natural number times as long as resolution in a detector.例文帳に追加

（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。 - 特許庁

To obtain a resist composition which retains high sensitivity and high resolution peculiar to a chemical amplification type resist, has stability through a pattern forming process and gives a fine resist pattern having a rectangular cross-section and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

本発明は、化学増幅型レジストとして特有の高感度、高解像性能を保持し、パターン形成プロセスを通して安定であり、微細な断面矩形のレジストパターンを供することのできるレジスト組成物及びパターン形成方法を用いる。 - 特許庁

To provide an exposure method and an aligner wherein exposure can be made with high resolution but without exchanging a mask pattern having a fine width (e.g. smaller than 0.15 μm), with the pattern being a mixture pattern ranging from various patterns, isolated and complicated patterns including L and S patterns.例文帳に追加

微細な（例えば、０．１５μｍ以下の）線幅を持ち、各種パターンや、Ｌ＆Ｓパターンから孤立及び複雑なパターンまでが混在するマスクパターンを、マスクを交換せずに、解像度良く露光可能な露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a rotating angle detection error reducing method for highly accurately detecting the rotating angle of a source image pattern with low image resolution or detecting the rotating angle of a pattern limiting the spatial frequency, that the pattern has, to a low frequency band.例文帳に追加

画像解像度の低い原画像パターンの回転角度検出や、パターンの有する空間周波数が低周波帯域に限られるようなパターンの回転角度を高精度に検出するための回転角度検出誤差低減方法を提供する。 - 特許庁

Also, by having both a low resolution optical system and a high resolution optical system, both a circular or a rectangular pattern defect and a defect of fine line width such as an CD error can be detected simultaneously.例文帳に追加

さらに、低解像度光学系と高解像度光学系の両方を具えることにより、円形又は矩形のパターン欠陥とＣＤエラーのような微細線幅の欠陥の両方を同時に検出することができる。 - 特許庁

To obtain a polymerizable composition for color filter, which suppresses illuminance dependency upon forming a color pattern even when exposure machines having different illuminance values are used, achieves excellent curability of a formed color pattern, and forms a rectangular pattern with superior resolution, to provide a color filter having high color separation property, and to provide a solid-state imaging device having high resolution.例文帳に追加

着色パターンを形成するに際して、照度の異なる露光機を用いても照度依存性を抑制することができ、形成された着色パターンの硬化性に優れ、解像度の優れた矩形のパターンを得ることができるカラーフィルタ用の重合性組成物を得ることであり、色分離性が良好なカラーフィルタ、および高解像度の固体撮像素子を得る。 - 特許庁

This pattern formation method is provided with process for forming a super-high resolution film, for narrowing the beam diameter of irradiated light on the resist film formed on a substrate, the process for irradiating the resist film with the light via the super-high resolution film and performing pattern alignment and the process for developing the resist film, to which the pattern alignment is performed.例文帳に追加

基板上に形成されたレジスト膜上に、照射される光のビーム径を絞る超解像膜を形成する工程と、前記超解像膜を介して前記レジスト膜に対して光を照射し、パターン露光を行なう工程と、前記パターン露光が行なわれた前記レジスト膜を現像する工程とを備えるパターン形成方法である。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has excellent resolution and with which pattern rectangularity is not deteriorated even in a subsequent step of post baking in pattern formation with low exposure (in particular, less than 200 mJ/cm^2).例文帳に追加

低い露光量（特に２００ｍＪ／ｃｍ^２未満）でパターン形成された際も、解像性に優れ、かつ後工程のポストベークでもパターン矩形性が劣化しない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern by which a fine and sharp pattern applicable in a wide range can be formed by an easy method, and to provide method for forming an image with excellent picture quality and resolution.例文帳に追加

簡易な方法で、広範囲に応用可能な微細で鮮明なパターンを形成することのできるパターン形成方法と、画質及び解像度に優れた画像形成方法と、を提供すること。 - 特許庁

To provide a fine pattern forming method for stably forming a pattern of a base film having a width not greater than a resolution limit in a reproductive manner while strongly but easily removing a sacrificial film.例文帳に追加

犠牲膜を、強度を有しながらも容易に除去できるものとし、解像限界以下の幅を持つ下地膜のパターンを再現性良く安定して形成できる微細パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of forming a pattern with an excellent resolution, a wide exposure latitude (EL) and a small line width variation (LWR), a chemical amplification resist composition used in the method, and a resist film.例文帳に追加

解像力に優れ、露光ラチチュード（ＥＬ）が広く、また線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さいパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a bar code pattern generation method which allows a good reading rate to be obtained regardless of restrictions on the number of print digits, a scanner reading range, and resolution on bar code pattern generation.例文帳に追加

バーコードパターンの生成において、印刷桁数、スキャナの読取範囲および分解能に制約がある場合でも、良好な読取率を得ることができるバーコードパターン生成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method by which high sensitivity, high resolution, high adhesion of thin lines and excellent pattern forming property are shown even under a low exposure condition by blue-violet laser exposure.例文帳に追加

青紫色レーザー露光による低露光条件下においても、高感度、高解像力、高細線密着性、パターン形成性に優れた効果を示すレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection device for pattern defects, capable of realizing high reliability stable pattern defect inspection, having high resolution relative to minute patterns by using an ultraviolet laser beam as the light source.例文帳に追加

紫外レーザ光を光源として微細パターンを高解像度で、しかも安定したパターン欠陥検査を高信頼性で実現するようにしたパターン欠陥検査装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a resist composition for forming a resist pattern excellent in resolution and a profile, to provide a resist pattern forming method using the resist composition, and to provide a compound suitable for the resist composition.例文帳に追加

解像性および形状に優れたレジストパターンを形成できるレジスト組成物、該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該レジスト組成物用として好適な化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern film, capable of forming a pattern film with a narrower width than the resolution of an exposure machine and a resist used independently of etching at the end.例文帳に追加

最終的にエッチングに依存せずとも、使用される露光機及びレジストの分解能よりも小さな幅を有するパターン膜を形成することができるパターン膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in a pattern profile, reproducibility of a beam form and resolution relating to pattern formation by irradiation of active rays or radiation, particularly electron beams, X-rays or EUV light.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光の照射によるパターン形成に関して、パターンプロファイル、ビーム形状再現性、解像力に優れたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

By varying the threshold of binarization processing before pattern matching according to the base level of a picture, a satisfactory picture processing result capable of satisfactorily executing pattern matching for interpolation for improving resolution is obtained.例文帳に追加

パターンマッチングの前の２値化処理のしきい値を、画像の下地レベルに応じて可変することで、解像度を高めるための補間のためのパターンマッチングを良好に行える良好な画像処理結果が得られる。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition for forming a fine line pattern particularly even when the space width of a line-and-space pattern is wide and excellent also in transparency, sensitivity and resolution to radiation.例文帳に追加

特に、ライン・アンド・スペースパターンのスペース幅が広い場合にも、微細なラインパターンを形成でき、しかも放射線に対する透明性、感度、解像度等にも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in resolution in lithography, having high etching resistance and capable of giving an ultrafine resist pattern and to provide an appropriate pattern forming method using the composition.例文帳に追加

リソグラフィーにおける解像度に優れ、高エッチング耐性を有し、極めて微細なレジストパターンを得ることを可能とするレジスト組成物及びこれを用いた好適なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To achieve practical application of a pattern transfer process by using a gray-tone mask having a gray-tone part which is constituted by a micro- light-shielding pattern lower than a limit of resolution of an exposing equipment that uses the gray-tone mask.例文帳に追加

グレートーンマスクを使用する露光機の解像限界以下の微細遮光パターンで構成されるグレートーン部を有するグレートーンマスクを用いたパターン転写プロセスの実用化を目的とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which provides superior resolution, even when a pattern is formed, using a low exposure intensity (in particular, <200 mJ/cm^2) and may inhibit deterioration in pattern rectangularity, during a post baking process of a post treatment.例文帳に追加

低い露光量（特に２００ｍＪ／ｃｍ^２未満）でパターン形成された際も、解像性に優れ、かつ後工程のポストベークでもパターン矩形性が劣化しない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a heat-resistant photosensitive polymer composition having high sensitivity and excellent pattern form, resolution and storage stability, to provide a method for manufacturing a pattern and to provide electronic parts having high reliability.例文帳に追加

本発明は、感度が高く、パタ−ン形状、解像性及び保存安定性に優れる耐熱性感光性重合体組成物、パターンの製造方法及び信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures a small viscosity change during storage, achieves resolution up to a fine pattern, and can form a pattern or a film excellent in solvent and heat resistances.例文帳に追加

保存時の粘度変化が小さく、微細なパターンまで解像可能であり、耐溶剤性、耐熱性に優れたパターンや塗膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

Test image data T having color resolution of total 24 bits, i.e., 8 bits for each color of RGB, and representing a test image including a specified pattern is prepared.例文帳に追加

ＲＧＢ各色８ビット、合計２４ビットの色分解能を有し、所定パターンを含むテスト画像を表すテスト画像データＴを用意する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition from which a pattern having high resolution and a high aspect ratio is formed and which has high sensitivity, and is excellent in storage stability of the liquid.例文帳に追加

高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度で液保存安定性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an aligner for exposure which can transfer an image of a fine isolated pattern formed on a mask to a wafer with high resolution.例文帳に追加

マスク上に形成された微細な孤立パターンの像を高い解像力でウェハ上に転写可能な露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

In such a case, a resolution of the printed document image is 600 dpi, for example, and each of the points constituting the pattern is a black point of 1 dot, for example.例文帳に追加

ここで、印刷された文書画像の解像度は、例えば６００ｄｐｉであり、パターンを構成する点は、例えば１ドットの黒点である。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is excellent in sensitivity and resolution and satisfies even a rectangular pattern shape and good edge roughness.例文帳に追加

感度と解像性に優れ、更には矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性をも満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To prevent pattern defects by improving the resolution of a resist material to be used for lithography when no barrier film is prepared on a resist film.例文帳に追加

レジスト膜の上にバリア膜を設けないリソグラフィに用いるレジスト材料の解像性を向上してパターン不良を防止できるようにする。 - 特許庁

To provide an adjustment reference chart with which a pattern for measuring geometrical characteristics and resolution characteristics are easily disposed on one substrate.例文帳に追加

幾何特性と解像力特性を測定するパターンを１つの基板上に容易に配置することができる調整基準チャートを得ること。 - 特許庁

To provide a method of forming a hard mask pattern for defining active regions arrayed in a matrix below a resolution limit of exposure equipment.例文帳に追加

マトリックス状に配列された露光装備の解像度限界以下の活性領域を定義するためのハードマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

In a lithographic device manufacturing method, sub-resolution assist features are provided to equalize the intensities of the diffraction orders that form the image of the pattern on a substrate.例文帳に追加

リソグラフィデバイス製造方法で、解像度以下のアシストフィーチャを設けて、基板上にパターンの像を形成する回折次数の強度を等化する。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive resin composition having high resolution and useful as a chemically amplified resist excellent in a margin for pattern collapse.例文帳に追加

高解像度であり、且つパターン倒れマージンに優れた化学増幅型レジストとして有用なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To suppress pattern collapse and to obtain high resolution in a resist film after pre-exposure heat treatment in lithographic processes and to improve line edge roughness.例文帳に追加

リソグラフィー工程に於ける露光前加熱処理後のレジスト膜に於いて、パターン倒れを抑制し、高解像力とし、ラインエッジラフネスを改良する。 - 特許庁

To improve the profile of a pattern by enhancing the resolution in immersion lithography while sustaining the depth of focus.例文帳に追加

液浸リソグラフィにおける解像度の向上と焦点深度の維持とを両立させることにより、パターン形状を良好にできるようにする。 - 特許庁