「resolution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern forming material having high sensitivity and high resolution, excellent in adhesion and temporal stability of sensitivity, and capable of forming a high-definition pattern with less residue on development, and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

高感度及び高解像度で、密着性及び感度の経時安定性に優れ、現像残渣が少なく、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming method with which a fine pattern can be formed with high definition, productivity upon pattern formation can be improved, and a prescribed pattern can be formed in a photosensitive composition with high resolution.例文帳に追加

微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The exposure equipment comprises: a pattern generation part PG which generates a pattern with a predetermined resolution; and an optical device PL which projects an image of a pattern generated at the pattern generation part onto a member to be exposed S with a predetermined resolving power and a predetermined projection magnification.例文帳に追加

所定の解像度でパターンを生成するパターン生成部ＰＧと、パターン生成部で生成されたパターンの像を所定の分解能及び所定の投影倍率で被露光部材Ｓに投影する光学装置ＰＬとを備える。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a fine pattern with high precision, while improving the productivity of the pattern formation and for forming a predetermined pattern on a photosensitive composition with high resolution.例文帳に追加

微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition from which a pattern having high resolution and a high aspect ratio is formed and which has high sensitivity.例文帳に追加

高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a colored positive radiation-sensitive resin composition having high resolution in a colored cured resin pattern.例文帳に追加

着色硬化樹脂パターンにおいて、解像度の高いポジ型着色感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition in which a resist pattern having a high resolution and a high aspect ratio is formed.例文帳に追加

高解像度、高アスペクト比であるレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for realizing a fine pattern between a wire/space using a high resolution photosensitive material.例文帳に追加

高解像度感光材料を用いて配線／空間の間に微細パターンを具現する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with the excellent coating property so as to form a pattern with the excellent resolution.例文帳に追加

塗布性に優れ、かつ解像性に優れたパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a salt for an acid generator of a resist composition capable of forming a pattern having excellent resolution.例文帳に追加

優れた解像度を有するパターンを得ることができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。 - 特許庁

To accurately transfer a pattern having a line of minute dimensions which exceed the resolution of a projection aligner or space.例文帳に追加

露光装置の解像度を上回る微細な寸法のラインまたはスペースを有するパターンを高精度に転写する。 - 特許庁

To provide a resist composition that can form a pattern having an excellent resolution and line edge roughness.例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin for a photoresist composition capable of forming a pattern having satisfactory resolution and exposure margin.例文帳に追加

優れた解像度及び露光マージンを有するパターンを形成できるフォトレジスト組成物用の樹脂の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a pattern exhibiting sufficient resolution and having high transmittance.例文帳に追加

十分な解像度を示す、高い透過率のパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a precise pattern having excellent resolution without bleeding or sagging and a semiconductor device.例文帳に追加

にじみやだれがなく、解像性に優れる精密パターンの形成方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a high-sensitive photosensitive resin composition, with which a pattern of high-resolution and high aspect ratio can be formed.例文帳に追加

高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern excellent in sensitivity, resolution and line width roughness, and to provide a developing solution used therefor.例文帳に追加

感度、解像力、ラインウィズスラフネスに優れるレジストパターン形成方法およびそれに用いる現像液の提供。 - 特許庁

To prevent the formation of a pattern having a bad profile by enhancing resolution furthermore in liquid immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィによる解像度をより向上させることにより、パターンの形状不良を防止できるようにする。 - 特許庁

To provide a forming method of minute resist pattern for realizing high resolution at lower wavelength than exposure wavelength.例文帳に追加

露光波長以下の高解像度が実現された微細パターンを形成できるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The engine control unit 1 of this image forming device selects a mask pattern in accordance with the output resolution in a toner saving mode.例文帳に追加

エンジン制御ユニット１は、トナー節約モードの場合、出力解像度に応じてマスクパターンを選択する。 - 特許庁

To form a line-and-space pattern having a fine pitch smaller than the resolution limit of exposure technology.例文帳に追加

露光技術の解像度の限界よりも微細なピッチを有するラインアンドスペースパターンを形成可能なようにする。 - 特許庁

The epoxy acrylate photosensitive resin compsn. 2 is superior in resolution, and the fine conductor pattern 5 can be formed.例文帳に追加

前記エポキシアクリレート感光性樹脂組成物２は解像度に優れるので微細な導体パターン５が形成できる。 - 特許庁

The image recognition apparatus performs pattern matching determination after making the resolution lower in a second step than in the first step.例文帳に追加

画像認識装置は２段階目に１段階目よりも解像度を低くした後にパターン照合判定を行う。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity and capable of forming a pattern having high resolution and a high aspect ratio.例文帳に追加

高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度である感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To suppress the generation of a vibration in an inspection means and to appropriately inspect a fine pattern with a high resolution.例文帳に追加

検査手段における振動の発生を抑制し、高分解能での微細なパターンの検査を適切に行う。 - 特許庁

To accurately transfer a pattern having lines of minute dimensions which exceed the resolution of a projection aligner or a space.例文帳に追加

露光装置の解像度を上回る微細な寸法のラインまたはスペースを有するパターンを高精度に転写する。 - 特許庁

To form a wide-width pattern and ultra-fine patterns, which exceed a limit of the resolution of the today exposure art, simultaneously by a manufacturing method for semiconductor devices.例文帳に追加

幅広のパターンと露光技術の解像度の限界以上の超微細パターンとを同時に形成する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive positive composition having a resolution capable of microfabricating a subquarter micron pattern and high sensitivity.例文帳に追加

サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which has excellent sensitivity and resolution and reduces a dimensional difference between a sparse pattern and a dense pattern, and a manufacturing method of relief pattern and an electronic component using the resist composition.例文帳に追加

感度及び解像力に優れ、且つ疎密パターン寸法差を小さくするネガ型レジスト組成物、並びに、当該レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a functional material pattern high in pattern resolution on a ceramic green sheet, and a method of forming a circuit board having a fine circuit pattern, especially, a muitilayer circuit board.例文帳に追加

セラミックグリーンシート上にパターン解像力の高い機能材料パターンを形成する方法と、微細な回路パターンを有する回路基板、特に多層回路基板を製造する方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a polyvalent phenolic material as a base material for a pattern forming material with which a pattern with high resolution and reduced line edge roughness (LER) can be formed, and to provide a positive resist composition and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

ＬＥＲの低減された高解像性のパターンが形成できるパターン形成材料の基材用の多価フェノール材料、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, by which a required wiring pattern having a uniform pattern pitch smaller than a pattern pitch obtained by the minimum resolution capacity of an exposure device can be formed.例文帳に追加

露光装置の最小解像能力で得られるパターンピッチよりも小さく且つ均一なパターンピッチを有する所望の配線パターンを形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A hole pattern or the like free from a development defect, the pattern having a crosslinked hardened layer 5 on the surface of the resist pattern and having a size less than the resolution limit of the exposure wavelength is formed by developing the coating layer 4.例文帳に追加

被覆層４を現像することにより、レジストパターン表面に架橋、硬化層５を有し、露光波長の解像限界以下のサイズを有する、現像欠陥のないホールパターンなどが形成される。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a permanent pattern such as a wiring pattern can be formed with high definition and good efficiency, and in which both high resolution and adhesion between a substrate and a photosensitive layer are highly satisfied.例文帳に追加

配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能であり、しかも、高い解像度と基体と感光層との密着性とを高度に両立したパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a design method for mask pattern in which an auxiliary pattern for improving a focal depth of an isolated pattern is arranged, with respect to a mask of performing exposure by using a light source having a direction dependence for resolution.例文帳に追加

解像特性に方向依存性を有する光源を用いて露光を行うマスクについて、孤立パターンの焦点深度を向上させる補助パターンを配置するマスクの設計方法を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing an exposure mask which is used to perform pattern exposure with a high resolution by shifting the phase of light transmitting both sides in the line width direction of a mask pattern, high-precision patterns requiring line width precision and high-resolution patterns requiring pattern exposure with high resolution are extracted from gate patterns (design patterns) (S2).例文帳に追加

マスクパターンの線幅方向両側を透過する光の位相をシフトさせることで高解像度のパターン露光を行う際に用いられる露光マスクの作製方法であって、ゲートパターン（設計パターン）の中から、線幅精度が要求される高精度パターンと、高解像度でのパターン露光が要求される高解像度パターンとを抽出する（Ｓ２）。 - 特許庁

Further, the diffusion reflection plate is manufactured by using a photomask 32 prepared by combining a region of pattern of size of resolution limit or more, a region of pattern less than resolution limit and a region having no pattern and, thereby, the liquid crystal display device can be manufactured with a few processes, at a good yield and at a low cost.例文帳に追加

また、この拡散反射板を、解像限界以上のサイズのパターンの領域と解像限界未満のパターンの領域とパターンのない領域とを組み合わせたフォトマスク３２を用いて作製することにより、少ない工程で歩留まり良く安価に作製できるようにする。 - 特許庁

To provide the forming method of a resist pattern, which can form a comparatively larger pattern which does not reach the limit of a resolution using a KrF exposure technique, and an extremely microscopic pattern which is under the limit of the resolution using the KrF exposure technique, simultaneously and favorably, and to provide an aligner which is used for this forming method.例文帳に追加

ＫｒＦ露光技術の解像限界に達しない比較的大きなパターンとＫｒＦ露光技術の解像限界以下の極く微細なパターンを同時に良好に形成できるレジストパターンの形成方法及びこの方法に用いる露光装置を提供する。 - 特許庁

To perform an adequate correction of density unevenness by performing accurate reading even when a resolution at a time when a pattern is recorded is different from a resolution at a time when the pattern is read in a process of correcting density unevenness of an image forming apparatus.例文帳に追加

画像形成装置の濃度ムラ補正処理において記録されるパターンを記録する際の解像度とそれを読取るときの解像度とが異なっていても、正確な読み取りを行ない、良好な濃度ムラ補正を行なう。 - 特許庁

To provide a pattern forming material excellent in adhesion to a substrate such as a substrate for printed wiring formation, having good sensitivity and resolution as well as good strippability, and enabling a high-definition pattern to be formed, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

プリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れ、剥離性が良好であるのみならず、感度及び解像度が良好で、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having good scratch resistance in a developer, excellent in resolution and tenting property, excellent also in developability, and realizing formation of an accurate pattern free from variation in line width, a chip and disconnection, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

現像液中での耐傷性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、線幅のバラツキや欠け、断線のない正確なパターン形成が可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The liquid crystal display includes a first panel having a first resolution; a second panel having a second resolution, which is lower than the first resolution; and a compensation pattern formed on an array substrate of the second panel for maintaining a cell gap.例文帳に追加

本発明の液晶表示装置は第1解像度を持つ第1パネル;前記第1解像度より低い第2解像度を持つ第2パネル;及びセルギャップを維持するために前記第2パネルのアレイ基板上に形成された補償パターンを含む。 - 特許庁

To provide a pattern forming material from which a high resolution negative pattern is obtained using supercritical carbon dioxide without deteriorating dry etching resistance, and also to provide a pattern forming material and a developing method which enable a fine pattern to be formed without pattern falling.例文帳に追加

本発明の目的は、ドライエッチング耐性を低下させることがなく、高解像度のネガ型パタンが超臨界の二酸化炭素で得られるパタン形成材料を提供し、微細なパタンをパタン倒れなしに形成できるパタン形成材料及び現像方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a surface modifying material and a resist pattern forming method which can form a resist pattern with excellent adhesion to a support, good pattern collapse resistance and high resolution, and a pattern forming method in which such a resist pattern hardly comes unstuck from the support in etching treatment.例文帳に追加

支持体との密着性に優れ、パターン倒れの耐性が良好で、解像性の高いレジストパターンを形成できる表面改質材料及びレジストパターン形成方法と、エッチング処理を行った際に支持体からレジストパターンが剥がれにくいパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming material allowing formation of a pattern excellent in sensitivity and resolution in pattern formation by irradiation with electron beams or EUV, and to provide a negative resist composition using the pattern forming material, and a pattern forming method and an electronic component using the negative resist composition.例文帳に追加

電子線又はＥＵＶの照射によるパターン形成において、感度及び解像力に優れたパターンを形成可能なパターン形成材料、当該パターン形成材料を用いたネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法並びに電子部品を提供する。 - 特許庁