「resolution pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, satisfactory exposure latitude, good line width roughness and post-exposure delay stability (PED), and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

高感度、高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、真空引き置き安定性（ＰＥＤ）を同時に満足するパターンを形成することが可能な感活性光線または感放射線樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness property, and resolution of isolated space patterns, and allows formation of a pattern having a good profile, as well as an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

感度、ラフネス特性、孤立スペースパターンの解像性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a resist pattern which satisfies various properties required by FPC and excels particularly in flame retardancy, flexibility and hot press resistance, and capable of making sensitivity and resolution sufficiently high when the resist pattern is formed.例文帳に追加

ＦＰＣに要求されている各種特性を十分に満足するものであり、特に難燃性、可撓性及び耐熱プレス性が十分に優れたレジストパターンを形成でき、しかもそのレジストパターンを形成する際の感度及び解像度を十分に高くできる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can be suitably used, when ArF excimer laser light is used as an exposure light source, which is superior in resist profile, sensitivity, resolution and line edge roughness, and which is free from pattern collapse and of the problems of development defects, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、レジスト形状、感度、解像力、ラインエッジラフネスが優れるとともに、パターン倒れのなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developable colored photosensitive resin composition which ensures satisfactory surface curability and curing depth during exposure and can form a colored pattern excellent in resolution even when a thick colored pattern is formed by a photography process, and the cured material of the composition.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法により厚膜の着色パターンを形成する場合でも、露光の際に充分な表面硬化性と硬化深度が得られ、解像性に優れた着色パターンを形成できるアルカリ現像型の着色感光性樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyimide precursor composition, which shows high sensitivity and high resolution and a part of which is developable excellently with an alkali solution, a pattern forming method capable of forming a pattern showing excellent heat resistance and chemical resistant, and a highly reliable electronic component.例文帳に追加

高感度及び高解像度を示す感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物、またその一部はアルカリ水溶液で良好な現像が実現でき、優れた耐熱性、耐薬品性を示すパターンが製造可能なパターンの製造法及び信頼性に優れた電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming technique capable of efficiently forming a high resolution pattern for use in microfabrication using a radiation sensitive composition as a photoresist which can be developed with an aqueous alkali solution, has high sensitivity characteristics and is reversed from negative type to positive type in accordance with dose.例文帳に追加

アルカリ水溶液によって現像可能であり、高感度な特性を有し、照射量によってネガ型からポジ型に反転する感放射線組成物をホトレジストに用いて、微細加工に用いる高解像度なパターンを効率よく形成することのできるパターン形成技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for exposure and a phase shift mask in which the resolution of an image formed on a resist according to a two-dimensional random pattern can be improved and the dimensional accuracy of the two-dimensional random pattern projected onto the resist can be improved.例文帳に追加

本発明は、二次元ランダムパターンに対してレジストに結ばれる像の解像度の向上をさせることができ、併せてレジストに露光される二次元ランダムパターンの寸法精度を向上させることができる露光方法および位相シフトマスクを提供することを課題とする。 - 特許庁

A double density mode pixel pattern generating section 422 of a hard circuit configuration adds a binary image subjected to bit map expansion to the code information obtained by the pattern recognition as to the image attended with resolution change and double density processing and receives a main scanning/subscanning double density code to generate correction data through logical arithmetic operations.例文帳に追加

解像度変更：倍密を伴う画像はハード回路構成の倍密モード用画素パターン生成部４２２により、ビットマップ展開された２値画像をパターン認識し得たコード情報に加え、主走査・副走査倍密コードを入力として論理演算で補正データを生成する。 - 特許庁

To provide a transparent electrode substrate excellent in conductivity, capable of maintaining high levels of adhesion, storage stability and conductivity, and also excellent in heat resistance and moist heat resistance, while a pattern with high resolution can be formed in an electrode obtained by performing patterning and a pattern shape is also excellent.例文帳に追加

導電性に優れ、かつ、密着性、保存安定性、導通率を高いレベルで維持することができ、耐熱性、耐湿熱性も良好であり、パターニングを行って得られた電極は、解像度の高いパターンが形成でき、パターン形状も良好である、透明電極基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which suppresses deterioration of resolution and a depth of focus caused when forming a fine wiring pattern using optical lithography in a connection region between regions where wiring pitches are different, reduces possibilities of occurrence of disconnection and a short circuit of the wiring pattern, and attains high integration.例文帳に追加

配線ピッチが異なる領域間の接続領域における光リソグラフィを用いた微細な配線パターンを形成する時の解像度や焦点深度の悪化を抑制し、配線パターンの断線やショートが発生する可能性を低減し、高集積化が可能となる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition developable with an alkali developing solution having a normal concentration, capable of forming a resist pattern having high resolution and a rectangular cross-sectional shape as an ordinary line-and-space pattern and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液を適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で断面形状が矩形であるレジストパターンを形成することができ、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れるネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high sensitivity, high resolution and high radiation transmittance, excellent in smoothness of a pattern surface in micro dimensions and capable of avoiding partial insolubilization in over-exposure without impairing basic solid state properties as a resist such as pattern shape, dry etching resistance and heat resistance.例文帳に追加

パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なわずに、高感度、高解像度で、放射線透過率が高く、微細寸法でのパターン表面の平滑性に優れ、かつ過露光時の部分不溶化を解消しうる感放射性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

When a dither pattern emphasizing the gradation and a dither pattern emphasizing the resolution are used for binarization process in an output processing 3008 with respect to image processing, the calibration conducted by way of user's operation before start of print is applied only to the image processing emphasizing the resolution and the calibration conducted not through the user's operation during printing is applied to both the image processing processes.例文帳に追加

画像処理に関して、出力処理３００８における二値化処理について階調性を重視するディザパターンと解像度を重視するディザパターンとが用いられる場合に、印刷開始前にユーザの操作を介して行なうキャリブレーションは、上記解像度を重視する画像処理についてのみ行ない、印刷中にユーザの操作を介さずに自動的に行なうキャリブレーションは、上記二つの画像処理それぞれについて行なう。 - 特許庁

The specified pattern of the test image T has such a pixel value as color difference from the surroundings can be recognized when it is displayed on a monitor having a display color resolution of 24 bits, but color difference from the surroundings can not be recognized when it is displayed on a monitor having a display color resolution of 16 bits or less.例文帳に追加

テスト画像Ｔの所定パターンは、２４ビットの表示色分解能を有するモニタに表示した場合には周囲との色の差異を確認できるが、１６ビット以下の表示色分解能を有するモニタに表示した場合には周囲との色の差異を確認できなくなる画素値を有する。 - 特許庁

To output fine characters of high quality without troubling a user by varying the data resolution depending on the number of surfaces when printing of a plurality of pages is designated, and to hold down the transfer size of print data to reduce the processing load of a controller by generating high-resolution data of only registered character pattern.例文帳に追加

複数ページ印刷が指定された際、面数に応じてデータ解像度を変化させることで、ユーザの手を煩わせることなく、細かい文字をより高品位に出力することと、登録文字パターンのみ高解像度データを生成することで、印刷データの転送サイズを抑え、コントローラの処理負荷を低く抑えること。 - 特許庁

Information area read while directing the longitudinal direction of lines (92) on a measuring line pattern including a plurality of lines (92) formed of dot rows corresponding to recording elements respectively to a sub-scanning direction of an image reading apparatus, and reducing the read resolution of the sub-scanning direction of the image reading apparatus as compared to the reading resolution of a main scanning direction.例文帳に追加

各記録素子に対応したドット列による複数のライン（92）を含んだ測定用ラインパターン上のライン（92）の長手方向を画像読取装置の副走査方向に向け、当該画像読取装置の副走査方向の読取解像度を主走査方向の読取解像度に比べて低解像度として読み取りを行う。 - 特許庁

A first image is generated at a FAX resolution (801), a second image is generated at a monitor resolution (802), patterns of the first image are identified using a pixel window of a fixed size (803), expectations of pixels of the second image corresponding to the patterns are computed (804), and the expectations are set to entries of a density value table for each pattern (805).例文帳に追加

ファクス解像度で第１画像を生成し（８０１）、モニタ解像度で第２画像を生成し（８０２）、一定サイズの画素ウインドウを用いて第１画像のパターンを識別し（８０３）、各パターンに対応する第２画像の画素の期待値を計算し（８０４）、パターン毎に濃淡値テーブルのエントリーに期待値を設定する（８０５）。 - 特許庁

To provide a negative resist material, in particular a chemical amplitude negative resist material, which has a high contrast of alkali dissolution rate before and after light exposure, has a high resolution at high sensitivity and small line edge roughness and is especially suitable as a fine pattern forming material in manufacturing a super LSI or in manufacturing a photo mask pattern material and to provide a pattern formation method and a photomask blank using the negative resist material.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures high shelf stability of a solution of the composition, enhances dissolution contrast between unexposed and exposed parts and forms a pattern with high sensitivity and good resolution while maintaining a high rate of a residual film, a method for producing an accurate pattern of a good shape and high reliability electronic parts with a pattern obtained by the method.例文帳に追加

本発明は、組成物溶液の保存安定性が高く、未露光部と露光部の溶解コントラストを高くし、高い残膜率を維持しながら高感度で解像性の良好なパターンを形成させる感光性樹脂組成物、 良好な形状の精密なパタ−ンの製造法及び前記製造法により得られるパターンを有することにより、信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern by which ArF (argon fluoride) excimer laser light can be used as exposure light upon patterning, a resist pattern can be stably made thick to a desired thickness without depending on the size, and a fine resist cut-out pattern can be inexpensively, easily and efficiently formed over the exposure limit (resolution limit) of a light source of an exposure device.例文帳に追加

パターニング時に露光光としてＡｒＦ（フッ化アルゴン）エキシマレーザー光をも利用可能であり、レジストパターンをそのサイズに依存することなく、所望の厚みに安定的に厚肉化することができ、露光装置の光源における露光限界（解像限界）を超えて微細なレジスト抜けパターンを低コストで簡便に効率よく形成可能なレジストパターンの形成方法等の提供。 - 特許庁

To provide a polymer compound capable of constituting a positive type resist pattern having excellent resolution and capable of favorably resolving a resist pattern even by using an acid generating agent having weak strength of an acid generated, a compound suitable for producing the polymer compound and a positive type resist composition containing the polymer compound and to provide a method for forming resist pattern by using the positive type resist composition.例文帳に追加

優れた解像性を有し、かつ発生する酸の強度が弱い酸発生剤を用いても良好にレジストパターンを解像できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を製造するのに好適な化合物、該高分子化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dry film which is useful for pattern formation of a radiation-sensitive resin composition layer, which requires high-accuracy fine working, and which gives a radiation-sensitive resin composition layer excellent in surface smoothness and resolution.例文帳に追加

高精度の微細加工が要求される感放射線性樹脂組成物層のパターン形成に有用な、表面平滑性、解像度に優れる感放射線性樹脂組成物層を与えるドライフィルムの提供。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive composition having such heat resistance as not to impair the properties (shape, hue, etc.), of a color filter and capable of forming a fine pattern with high resolution and to provide a color filter using the same.例文帳に追加

カラーフィルタの性状（形状、色相等）を損なわない耐熱性を有し、精細なパターンを高解像度に形成することが可能な着色感光性組成物、及びこれを用いたカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition with high resolution, excellent in dry etching resistance, with reduced wear of the film and suitably used in a method for forming a resist pattern via an exposing step using a low-energy electron beam.例文帳に追加

高解像性で、ドライエッチング耐性に優れ、膜減りの低減された、低加速電子線を用いて露光する工程を経てレジストパターンを形成する方法に好適に用いられるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The camera 5 is arranged so that the cylindrical body axis becomes orthogonal to the optical axis, and images a domain on the cylindrical surface including the striped pattern at the speed corresponding to a resolution in the circumferential direction determined beforehand, and outputs image data.例文帳に追加

カメラ５は、円筒体軸と光軸とが直角になるように配置され、縞模様を含む円筒面の領域を予め定められる周方向の分解能に応じた速度で撮像して画像データを出力する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a radiation and suitable for use as a chemically sensitized resist excellent in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本性能に優れた化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

When pattern formation is performed by using the positive photosensitive resin composition, the additive fulfills functions for attaining high resolution and high sensitivity, and for minimizing thickness change after heat crosslinking, without causing other properties to deteriorate.例文帳に追加

添加剤は、ポジティブ型感光性樹脂組成物を用いてパターン形成を行うときに、他の物性を低下させずに高解像度、高感度、および熱架橋後の厚さ変化を最小化する役割を実行することができる。 - 特許庁

To realize a resist composition having high transparency with respect to far-ultraviolet rays and radiation and moreover, superior in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern shape and line edge roughness.例文帳に追加

遠紫外線及び放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチ耐性、パターン形状及びラインエッジラフネス等のレジストとしての基本特性が優れたレジスト組成物を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which has excellent photocurability and excellent resolution and can be processed into patterns having high aspect ratios and high accuracy, and to provide a flat panel display having a desired cured pattern formed from the photosensitive paste composition.例文帳に追加

光硬化性や解像度に優れ、高アスペクト比かつ高精度のパターン加工を可能にする感光性ペースト組成物及びそれを用いて所望の焼成物パターンを形成したフラットパネルディスプレイを提供する。 - 特許庁

Such a reaction that a part or whole of the α-alkyl-δ-hydroxy acid structure or α,α'-dialkyl-δ-hydroxy acid structure changes into a lactone structure by an acid catalyst reaction is used to form a negative pattern with high resolution and no swelling by water-based alkali development.例文帳に追加

そして、そのようなα−アルキル−δ−ヒドロキシ酸構造またはα，α’−ジアルキル−δ−ヒドロキシ酸構造の一部または全てが、酸触媒反応によりラクトン構造に変わる反応を用いる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having excellent sensitivity and resolution and sufficiently suppressing production of sludge, and to provide a photosensitive element, a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board by using the composition.例文帳に追加

感度、解像度に優れかつスラッジの発生を十分に抑制することができる感光性樹脂組成物、及びこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having excellent resolution and etching resistance, capable of giving a resist pattern that undergoes a small dimensional change per unit temperature by a thermal flow process and having good aging stability.例文帳に追加

解像性及び耐エッチング性に優れ、サーマルフロープロセスにより単位温度当りの寸法変化量が小さいレジストパターンを与えることができ、かつ経時安定性の良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition with high sensitivity and high resolution wherein films are hardly decreased, a pattern form is not broken, and scums of the photosensitive resin composition in an exposed area do not remain.例文帳に追加

膜減りが少なく、パターン形状の崩れがなく、更に露光部の感光性樹脂組成物の残り（スカム）がない特性を有する高感度で、かつ高解像度であるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

Upon processing a chromium film M1 on a glass substrate GS, a real pattern and a SRAF (sub-resolution assist feature) are separately drawn in resists having opposite relations of positive/negative properties to each other and the chromium film M1 is consecutively processed by two lithographic processes.例文帳に追加

ガラス基板ＧＳ上のクロム膜Ｍ１の加工に際し、実パターンとＳＲＡＦとをポジ／ネガが互いに逆の関係にあるレジストに個別に描画し、２つのリソグラフィ工程でクロム膜Ｍ１を順次に加工する。 - 特許庁

To provide a positive resist material that is highly sensitive, has high-resolution, has both a chemical amplification function and a non-chemical amplification function, and is suitable as a material for forming a fine pattern for making a VLSI or a photomask.例文帳に追加

高感度で高解像性を有する化学増幅機能と非化学増幅機能の両方を有し、超ＬＳＩ製造用又はフォトマスク作製用微細パターン形成材料に好適なポジ型レジスト材料の提供。 - 特許庁

To provide a chemical amplification resist composition to be used for the preparation of a mold, capable of forming a pattern excellent not only in sensitivity and resolution, but also in the line width roughness (LWR) performance, in preparation of a mold.例文帳に追加

モールドの作成において、感度及び解像力に優れるとともに、ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能にも優れたパターンを形成可能な、モールドの作成に用いられる化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a conductive pattern material equipped with conductive patterns which exhibit high conductivity, high adhesion, and high resolution and has no disconnection and whose conductive material exhibits high retention and high persistence.例文帳に追加

高い導電性及び密着性を有し、高解像度で断線がなく、且つ、導電性素材の保持性及びその持続性に優れた導電性パターンを備えた導電性パターン材料の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method extracts edges of the dots and counts the dots unidirectionally to detect positions of deformed dots located at borders of patterns with different gradation values in the output resolution level thereby particularizing the position of pattern pixels with high accuracy.例文帳に追加

網点のエッジを抽出し、一方向にカウントすることにより、階調値の異なる絵柄の境界に位置する変形した網点の位置を出力解像度レベルで検出し、絵柄画素の位置を高精度に特定する。 - 特許庁

To provide a colored alkali developable photosensitive resin composition that has superior sensitivity, resolution and adhesion, and that enables a fine pattern to be formed accurately.例文帳に追加

感度、解像度、密着性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できる着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物、及び該着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

A replica signal generating section 105 and a propagation parameter estimating section 106 are configured to repeatedly estimate the propagation parameter of the arrival wave which arrives at an array antenna 101, at the same resolution as an angle step of the antenna pattern table.例文帳に追加

レプリカ信号作成部１０５および伝搬パラメータ推定部１０６は、アレーアンテナ１０１に到来する到来波の伝搬パラメータをアンテナパターンテーブルの角度ステップと同じ分解能で繰り返し推定する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition which attains cost reduction without impairing basic performances such as sensitivity and resolution, ensures small ruggedness due to stationary waves and improves pattern profile, particularly line edge roughness.例文帳に追加

感度、解像度などの基本的な性能を落とさずにコストが低減され、また定在波による凹凸が小さく、パターンプロファイル、特にラインエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

A comparator 6 applies multi-value gradation conversion to each pixel whose resolution is converted and an area gradation conversion section 8 replaces the pixels whose gradation is converted with an area gradation pattern consisting of N×N pixels in response to its multi-value level.例文帳に追加

解像度変換された各画素をコンパレータ６で多値に階調変換し、階調変換された画素を面積階調変換部８においてその多値レベルに応じたＮ×Ｎ画素の面積階調パターンに置き換える。 - 特許庁

To provide a positive chemically amplifying resist composition having high sensitivity and high resolution which can give a square and superior pattern profile and which is excellent in PCD(post coating delay) and PED(post exposure delay) stability and coating property.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかもＰＣＤ、ＰＥＤ安定性及び塗布性に優れたポジ型化学増幅レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosetting resin composition which has high transparency, resolution and sensitivity and provides uniformity in coating, proper developing capability, pattern shapes, heat resistance, preservability and stability and to provide a display element using the composition.例文帳に追加

高い透明性と高い解像度を併せ持ち、かつ高感度であり、さらに塗布均一性、現像性、パターン形状、耐熱性、保存安定性等を満足する光硬化性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁