「second layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(119ページ目) - Weblio英語例文検索

The semiconductor substrate further includes a third insulating layer that extends from a surface of the first semiconductor layer to the first insulating film and electrically isolates a portion of the first semiconductor layer between the first insulating layer and the second insulating layer with the rest of the first semiconductor layer.例文帳に追加

さらに、前記第１半導体層の表面から前記第１絶縁膜に至る深さに延設され、前記第１半導体層における前記第１絶縁層と前記第２絶縁層との間の部分と、前記第１半導体層の残りの部分と、を電気的に分離した第３絶縁層を備える。 - 特許庁

Concretely, light silver type metallic ink is applied to the back surface of the polyurethane film layer with a thickness of 50 μm of the first layer by screen printing, and the ink coating layer is dried at 60°C for one hour to form the colored printing layer with a thickness of 10 μm of the second layer on the polyurethane film layer.例文帳に追加

具体的には、第１層である厚さ５０μｍの透明なポリウレタンフィルムの裏側に、ライトシルバー系のメタリックインキをスクリーン印刷した後６０℃で１時間乾燥を行なって前記ポリウレタンフィルム上に第２層である厚さ１０μｍの着色印刷を形成した。 - 特許庁

A first dielectric layer 102, a second dielectric layer 103, a third dielectric layer 104, a lower reflecting layer 105, a fourth dielectric layer 106, a recording layer 107, a fifth dielectric layer 108 and an upper reflecting layer 109 are successively laminated on a substrate 101 to have a constitution with heightened reflectivity toward incident light by a multilayered film from the first dielectric layer 102 to the third dielectric layer 104.例文帳に追加

基板１０１上に、第１誘電体層１０２、第２誘電体層１０３、第３誘電体層１０４、下部反射層１０５、第４誘電体層１０６、記録層１０７、第５誘電体層１０８、上部反射層１０９を順に積層し、第１誘電体層１０２から第３誘電体層１０４までの多層膜による入射光に対する反射率を高めた構成とする。 - 特許庁

In a laminated body formed by sequentially laminating, on an insulation material, a first electrode, a first impurity semiconductor layer having one conductivity type, an intrinsic semiconductor layer, a second impurity semiconductor layer having a conductivity type opposite to the one conductivity type, and a translucent second electrode, the translucent second electrode and the second impurity semiconductor layer have each one or more openings.例文帳に追加

絶縁体上に、第１電極と、一導電型を有する第１不純物半導体層、真性半導体層、一導電型とは逆の導電型を有する第２不純物半導体層、透光性の第２電極が順次積層された積層体であって、透光性の第２電極及び第２不純物半導体層は、１つ以上の開口部を有している。 - 特許庁

The first vibration layer 3 has a perpendicular piezoelectric component AZ to the surface 2a of the second vibration layer 2 and the second vibration body 2 has a perpendicular piezoelectric component BZ to the surface 2a of the second vibration layer 2 and has a parallel piezoelectric component BX toward at least a direction in the surfaces of the second vibration layer.例文帳に追加

第一の振動層３が、第二の振動層２の表面２ａに対して垂直な方向に垂直圧電成分ＡＺを有しており、第二の振動体２が、第二の振動層の表面２ａに対して垂直な方向に垂直圧電成分ＢＺを有し、第二の振動層の表面内の少なくとも一方向に向かって平行圧電成分ＢＸを有する。 - 特許庁

The LED includes a second layer 14 of a semiconductor material which forms a p-n diode along with a first layer 13 of the semiconductor material deposited on a substrate 112, a light emitting region 18 disposed between the first and second layers and emitting light, a first electrode 15 deposited on the second layer, and a second electrode 16 electrically connected to the first layer.例文帳に追加

基板１１２上に堆積した半導体材料の第１の層１３と共にｐ−ｎダイオードを形成する前記半導体材料の第２の層１４と、第１と第２の層の間にあって、光を発生する発光領域１８と、第２の層に堆積した第１の電極１５と、第１の層に電気的に接続された第２の電極１６が含まれている。 - 特許庁

The memory device includes a first electrode 14, a first ferroelectric polymer layer 16 formed over the first electrode 14, a second electrode 18, a second ferroelectric polymer layer 22 formed over the second electrode 18, a third electrode 24, and a protective layer 20 formed between the first ferroelectric polymer layer 16 and the second ferroelectric polymer layers 22.例文帳に追加

メモリ素子は、第１の電極１４と、第１の電極１４上に形成された第１の強誘電性ポリマー層１６と、第２の電極１８と、第２の電極１８上に形成された第２の強誘電性ポリマー層２２と、第３の電極２４と、第１の強誘電性ポリマー層１６と第２の強誘電性ポリマー層２２との間に形成された保護層２０とを有する。 - 特許庁

A second gate electrode 20 is provided on the second surface 14b via a second gate insulating film 21 so that one side of a second inversion layer 24 induced by application of a second gate voltage Vg2 contacts the second impurity region 16, and the other side is spaced apart from the first impurity region 15.例文帳に追加

第２ゲート電極２０は、第２ゲート絶縁膜２１を介して第２の面１４ｂに、第２ゲート電圧Ｖｇ２が印加されると生じる第２反転層２４の一側が第２不純物領域１６に接触し、他側が第１不純物領域１５から離間するように配設されている。 - 特許庁

A second split bushing 14 is provided with: a second inner conductor 22; a second solid insulator 26 having a conical inserter 26A provided around the second inner conductor so as to be inserted into the receiving port 18; and a second shielding layer 28 provided around the second solid insulator 26.例文帳に追加

第２の分割ブッシング１４は、第２の内部導体２２と、その周囲に設けられた、受容口１８に挿入される円錐状の挿入部２６Ａを有する第２の固体絶縁体２６と、第２の固体絶縁体２６の周囲に設けられた第２の遮蔽層２８とを備えている。 - 特許庁

The electromagnetic wave absorber has such a structure that an outside pattern layer 6 having a first conductive pattern, electromagnetic wave absorption layer 5, intermediate pattern layer 4 having a second conductive pattern, dielectric layer 3, and conductive reflection layer 2, are stacked in this order from the electric wave incident side.例文帳に追加

電波入射側から、第１導電性パターンを有する外パターン層６と、電磁波吸収層５と、第２導電性パターンを有する中間パターン層４と、誘電体層３と、導電性反射層２の順序で積層して構成される。 - 特許庁

Further, in the second form of the composite material for brazing, the surface of the base material 11 is provided with a brazed layer obtained by laminating an Fe alloy layer 12 and a Ti or Ti alloy layer 13 at least layer by layer.例文帳に追加

また、本発明に係るろう付け用複合材の第２の形態は、基材１１の表面に、Ｆｅ合金層１２とＴｉ又はＴｉ合金層１３を少なくとも一層づつ積層して設けてなるろう付け層を有するものである。 - 特許庁

The foundation A forms an epoxy resin coating layer 10 as the first coating layer on the surface of rise 1b of the base concrete 1 and, at the same time, an elastic mortar layer 11 as the second coating layer is formed on the surface of the epoxy resin coating layer 10.例文帳に追加

基礎Ａは、基礎コンクリート１の立ち上がり１ｂの表面に第１塗料層となるエポキシ樹脂塗料層１０を形成すると共に該エポキシ樹脂塗料層１０の表面に、第２塗料層となる弾性モルタル層１１を形成する。 - 特許庁

The non-magnetic seed layer has a first seed layer of an Ni alloy having an fcc structure, and a second seed layer of an Ni alloy having an fcc structure and formed between the first seed layer and the non-magnetic intermediate layer.例文帳に追加

非磁性シード層は、ｆｃｃ構造を有するＮｉ合金で形成された第１のシード層と、第１のシード層と非磁性中間層との間に設けられておりｆｃｃ構造を有するＮｉ合金で形成された第２のシード層を有する。 - 特許庁

When a knob 26 formed between the tacky adhesive layer 21 and the second adhesive layer 24 is pulled up, the tacky adhesive layer 21 peels from the release layer 22 and the tape base material 23 is spread and the tacky adhesive layer 21 is exposed on its inner peripheral surface.例文帳に追加

粘着剤層２１と第２接着剤層２４との間に形成されたつまみ２６を引き上げると、粘着剤層２１が剥離層２２から剥離してテープ基材２３が展延され、その内周面に粘着剤層２１が露出する。 - 特許庁

This magnetic recording medium has a multilayered base layer comprising a soft magnetic layer 2, a first base layer 3 containing crystal particles of plane oriented Cu, and a second base layer 4 mainly of Cu and nitrogen on the Cu base layer 3 formed on the substrate 1.例文帳に追加

基板１上に形成された軟磁性層２と、面配向したＣｕからなる結晶粒子を含有する第１の下地層３と、Ｃｕ下地層３上にＣｕと窒素を主成分とする第２の下地層４とを含む多層下地層を設ける。 - 特許庁

The alignment layer 40 (60) is arranged so that a second alignment layer 42 formed on the first alignment layer 41, has uniform in-plane anisotropy more than that of the first alignment layer and aligned along the surface alignment of the first alignment layer.例文帳に追加

配向膜４０（６０）は、第１配向膜層４１上に、その第１配向膜よりも面内異方性が均一で、且つ第１配向膜の表面配向に沿って配向される第２配向膜層４２が形成された構成を具備している。 - 特許庁

A copper wiring layer is laminated on the upper surface of the first copper diffusion-preventing layer in a width slightly smaller than the width of the first copper diffusion-preventing layer, and a second metal diffusion-preventing layer is provided thereon so as to cover the whole surface of the copper wiring layer.例文帳に追加

次に、その第１の銅拡散防止層上面に第１の銅拡散防止層の幅より僅かに狭い銅配線層を積層し、銅配線層の全表面を覆うように、第２の金属拡散防止層を設ける方法である。 - 特許庁

The epitaxial film 30 includes a substrate 32, a first conductivity-type clad layer formed on the substrate 32; an active layer 35 formed on the first conductivity-type clad layer; and a second conductivity-type clad layer formed on the active layer 35.例文帳に追加

エピタキシャル膜３０は、基板３２と、基板３２上に形成された第１導電型クラッド層と、第１導電型クラッド層上に形成された活性層３５と、活性層３５上に形成された第２導電型クラッド層とを備えている。 - 特許庁

The semiconductor light-emitting element comprises: a first cladding layer 111; a nitride semiconductor layer 101 including an active layer 113 and a second cladding layer 116; and current blocking layers 121 for selectively injecting current into the active layer 113.例文帳に追加

半導体発光素子は、第１のクラッド層１１１、活性層１１３及び第２のクラッド層１１６を有する窒化物半導体層１０１と、活性層１１３に選択的に電流を注入する電流ブロック層１２１とを備えている。 - 特許庁

In the method for manufacturing a micro electromechanical device, a first sacrifice layer member 102 and a second sacrifice layer member 104 having an etching rate lower than that of the first sacrifice layer member 102 are prepared, and a space layer 102a is formed by removing all of the first sacrifice layer member 102.例文帳に追加

第１犠牲層部材１０２と、第１犠牲層部材１０２のエッチング・レートよりも遅いエッチング・レートを有する第２犠牲層部材１０４とからなり、第１犠牲層部材１０２がすべて除去されて空間層１０２ａを形成する。 - 特許庁

The outermost layer in the central part 4a of the chamfer honing part is a titanium compound layer or a zirconium compound layer, and the outermost layer in a first region 7a including a rake face side boundary region 7 and a second region 8a including a flank side boundary region 8 is an aluminum oxide layer.例文帳に追加

チャンファーホーニング部の中央部4aの最外層をチタン化合物層又はジルコニウム化合物層、すくい面側境界部7を含む第一領域7a及び逃げ面側境界部8を含む第二領域8aの最外層を酸化アルミニウムとする。 - 特許庁

In a four-layer board, a circuit pattern 1 of a first conductor layer of an inner layer and a circuit pattern 2 of a second conductor layer are made the same circuit pattern when viewed from the same direction, and a first insulating layer 5 between both of the layers is thinned.例文帳に追加

４層基板において内層の第１の導体層の回路パターン１と第２の導体層の回路パターン２を同一方向から見て同一回路パターンとし、かつ両層間の第１の絶縁層１の厚みを薄くしたことを特徴とする。 - 特許庁

In addition, a photo fabrication method is applied to a conductive metal layer at an opening side, which comprises a second conductive metal layer, a conductive material layer and a plated conductive metal layer, and a first conductive metal layer to form a circuit wiring pattern.例文帳に追加

第二の導電性金属層と導電性物質層とメッキ形成された導電性金属層からなる開口側導電性金属層、および第一の導電性金属層に対するフォトフォブリケーション手法により回路配線パターンを形成する。 - 特許庁

The light emitting device has a substrate 10, a wiring layer 19 formed on the substrate 10, an insulating layer 20 formed on the wiring layer 19, an OLED 70 formed on the insulating layer 20, and a second electrode layer 24 as a cathode of the OLED 70.例文帳に追加

基板１０と、基板１０上に形成された配線層１９と、配線層１９上に形成された絶縁層２０と、絶縁層２０上に形成されたＯＬＥＤ７０と、ＯＬＥＤ７０の陰極となる第２電極層２４とを有する。 - 特許庁

At least one of the cathode layer and the anode layer comprises a first layer arranged at the interface with the electrolyte membrane and a second layer arranged on the surface on the opposite side to the surface opposed to the electrolyte membrane of the first layer.例文帳に追加

カソード電極層とアノード電極層との少なくとも一方は、電解質膜との界面に配置された第１の層と、第１の層の電解質膜と対向する表面とは反対側の表面に配置された第２の層とを含む。 - 特許庁

An optical recording medium comprises: an inorganic recording layer; a first protective layer installed on at least one surface of the inorganic recording layer and containing indium oxide; and a second protective layer adjacent to the first protective layer and containing titanium oxide, zirconium oxide or tin oxide.例文帳に追加

光記録媒体は、無機記録層と、無機記録層の少なくとも一方の面に設けられた、酸化インジウムを含む第１の保護層と、第１の保護層に隣接した、酸化チタン、酸化ジルコニウム、または酸化スズを含む第２の保護層とを備える。 - 特許庁

Regarding the thermal barrier coating, the surface of a heat resistant alloy base material 11 is provided with a metal bonding layer 12 and a ceramics layer 13, and the metal bonding layer 12 is composed in such a manner that the first layer 12a and the second layer 12b are laminated in order from the side of the base material 11.例文帳に追加

耐熱合金基材１１上に、金属結合層１２と、セラミックス層１３とを備え、金属結合層１２が、基板１１側から順に第１層１２ａ及び第２層１２ｂが積層されて構成される遮熱コーティング。 - 特許庁

The light-emitting element has n (n is a natural number of 2 or more) EL layers between the anode and the cathode, and has a first layer, a second layer and a third layer between the m-th layer and the (m+1)th layer (m is a natural number, 1≤m≤n-1) from the anode.例文帳に追加

陽極と陰極の間にｎ（ｎは２以上の自然数）層のＥＬ層を有し、陽極からｍ（ｍは自然数、１≦ｍ≦ｎ−１）番目のＥＬ層とｍ＋１番目のＥＬ層の間に、第１の層、第２の層及び第３の層を有する。 - 特許庁

The nucleic acid analysis device includes a first metal layer 602, with a gap formed on a support substrate 601, and a second metal layer or an insulation layer 603 different from the first metal layer 602 between the supporting substrate 601 and the first metal layer 602.例文帳に追加

支持基体６０１上に形成された、ギャップを有する第一の金属層６０２と、支持基体６０１と第一の金属層６０２の間に第一の金属層６０２とは異なる第二の金属層又は絶縁層６０３を有する。 - 特許庁

The image printing sheet includes: a transparent or translucent support layer 11; a first image receiving layer 12 which has glossiness and is formed on one surface of the support layer 11; and a second image receiving layer 13 which is frosted and formed on the other surface of the support layer 11.例文帳に追加

透明または半透明な支持層１１と、支持層１１の一方の表面に形成された光沢性を有する第１の受像層１２と、支持層１１の他方の表面に形成されたつや消しの第２の受像層１３とを有する。 - 特許庁

The nonmagnetic separation layer 6 helps the easy-to-magnetize axis of the magnetic recording layer located at an upper layer is directed in the vertical direction against the surface of the medium, and cuts the exchange interaction between the first magnetic recording layer 5 and the second magnetic recording layer 7.例文帳に追加

非磁性分離層６は、上層にある磁気記録層の磁化容易軸が媒体面に対して垂直方向に向くように補助し、かつ第１の磁気記録層５と第２に磁気記録層７の交換相互作用を切る役割を担う。 - 特許庁

The LED element (the semiconductor light-emitting element) has an n-type active layer 4 having an MQW structure, a diffusion preventive layer 5 formed on the active layer 4 and a semi-insulating second clad layer 6 formed on the diffusion preventive layer 5.例文帳に追加

このＬＥＤ素子（半導体発光素子）は、ＭＱＷ構造を有するｎ型活性層４と、活性層４上に形成された拡散抑止層５と、拡散抑止層５上に形成された半絶縁性の第２クラッド層６とを備えている。 - 特許庁

The first distribution Bragg reflection layer consists of a first layer and a second layer having a different refractive index than that of the first layer which are stacked one on top of another, and has a center wavelength which matches the emission wavelength of emitted light from the luminous layer.例文帳に追加

前記第１の分布ブラッグ反射層は、第１の層と、前記第１の層の屈折率とは異なる屈折率を有する第２の層と、が交互に積層され、前記発光層からの放出光の発光波長と一致する中心波長を有する。 - 特許庁

The semiconductor device comprises a capacitive element 100 including a first electrode layer 40, a ferroelectric layer 50 and a second electrode layer 60, and contact parts 200 and 300 including a first plug conductive layer 30 and a contact conductive layer 110.例文帳に追加

本発明の半導体装置は、第１電極層４０、強誘電体層５０、および第２電極層６０を含む容量素子１００と、第１プラグ導電層３０およびコンタクト導電層１１０を含むコンタクト部２００，３００と、を含む。 - 特許庁

The sliding member includes an overlay layer 3 that is formed on a copper alloy layer 2, wherein the second phase component comprising Bi or Pb contained in the copper alloy layer 2 is not present in the boundary between the copper alloy layer 2 and the overlay layer 3.例文帳に追加

銅合金層２上にオーバレイ層３が形成されている摺動部材において、銅合金層２中に含まれるＢｉあるいはＰｂによる第２相成分が、銅合金層２とオーバレイ層３との界面に存在しないものとする。 - 特許庁

A second insulating layer is formed on a substrate and covers side walls of the gate line and the gate electrode, the first insulating layer, the semiconductor layer, and the ohmic contact layer, and at the same time, exposes the ohmic contact layer in the source region and the drain region.例文帳に追加

第二の絶縁層が基板に形成され、ゲートライン及びゲート電極と、第一の絶縁層と、半導体層と、オーミック接触層と、の側壁を覆うと共に、前記ソース領域とドレイン領域におけるオーミック接触層を露出させる。 - 特許庁

Further, in the second form of the composite material for brazing, the surface of the base material 11 is provided with a brazed layer obtained by laminating a Cu or Cu alloy layer 14 and a Ti or Ti alloy layer 13 at least layer by layer.例文帳に追加

また、本発明に係るろう付け用複合材の第２の形態は、基材１１の表面に、Ｃｕ又はＣｕ合金層１４とＴｉ又はＴｉ合金層１３を少なくとも一層づつ積層して設けてなるろう付け層を有するものである。 - 特許庁

The depletion layer 104 is held between the selective etching layer 103 of the first conductivity and the selective etching layer 109 of the second conductivity, and the outer peripheral edge of the selective etching layer is positioned more on the inner side than the outer peripheral edge of the depletion layer 104 in the plane view.例文帳に追加

空乏層１０４は、第一の導電型の選択エッチング層１０３と第二の導電型の選択エッチング層１０９に挟まれ、平面視にて選択エッチング層の外周縁は、空乏層１０４の外周縁より内側に位置する。 - 特許庁

The floor laying material 1 has the carpet 11 to which a backing layer 12 is applied; a first felt layer 13 adhered to a desired area on the backing layer 12 side of the carpet 11; and a second felt layer 14 adhered to a back surface of the first felt layer 13.例文帳に追加

フロア敷設材１は、裏打ち１２が施されたカーペット１１と、カーペット１１の裏打ち１２側の所望の領域に貼着された第１のフェルト層１３と、第１のフェルト層１３の裏面に貼着された第２のフェルト層１４とを有する。 - 特許庁

After that, the mask layer on the second surface is removed and the photocrosslinking resin layer removing liquid is supplied, the uncured photocrosslinking resin layer is removed, an etching resist layer is formed on an exposed conductive layer, and a circuit board is manufactured by a subtractive technique.例文帳に追加

その後、第２面のマスク層を除去して光架橋性樹脂層除去液を供給し、未硬化の光架橋性樹脂層を除去し、露出した導電層にエッチングレジスト層を形成し、サブトラクティブ工法により、回路基板を製造する。 - 特許庁

In addition, the p-type cladding layer 26 is composed of at least two layers where the composition is mutually different in a layer thickness direction, and a first p-type cladding layer 20 positioned near the active layer 17 has a lower refractive index than a second p-type cladding layer 21.例文帳に追加

さらに、ｐ型クラッド層２６は層厚方向に互いに組成が異なる２層以上から構成され、活性層１７に近い第１のｐ型クラッド層２０が、より遠い第２のｐ型クラッド層２１に比べて低い屈折率を有する。 - 特許庁

To provide a double-layer insert injection molded product consisting of at least two layers such that a first layer (e.g.; outer layer) is flexible and hardly damaged and has rubbery or leather-like appearance and a second layer (e.g.; inner layer) has excellent rigidity and impact resistance.例文帳に追加

少なくとも２層からなり第１層（例えば外層）が柔軟で傷がつき難く、ゴム状、皮革状の外観を有するとともに第２層（例えば内層）が優れた剛性、耐衝撃性を有する複層インサート射出成形品の提供。 - 特許庁

To protect a quantum well layer and a barrier layer against damage by a method wherein an In-containing first nitride semiconductor layer is formed, a substrate is made to rise in temperature as a second another nitride semiconductor layer is formed, an In-free third nitride semiconductor layer is formed, and a first to a third process are successively carried out.例文帳に追加

結晶成長によりインジウムを含む半導体層を安定に形成する、例えば良好な活性層を備えた窒化物レーザを製造できる、インジウムを含む窒化物半導体結晶の成長方法を提供する。 - 特許庁

The first layer 31 has 68 to 74% of a width dimension D1 in contrast with a section width SW, and then the relation of; the width dimension of the first layer 31 > the width dimensions of the second layer 32 > the width dimensions of the third layer 33 > the width dimensions of the fourth layer 34 is established.例文帳に追加

セクション幅ＳＷ対比で、６８〜７４％の幅寸法Ｄ１を第１層３１が有し、第１層３１の幅寸法＞第２層３２の幅寸法＞第３層３３の幅寸法＞第４層３４の幅寸法の関係とされる。 - 特許庁

To put it concretely, the TMR element 4 is provided with: a first magnetic layer 44 being the magnetism sensitive layer; second magnetic layers 41 and 42 in which the magnetization direction is fixed; and a non-magnetic layer (insulating layer) 43 sandwiched between the magnetism sensitive layer 44 and the fixing layers 41 and 42.例文帳に追加

具体的には、ＴＭＲ素子４は、感磁層である第１磁性層４４と、磁化方向が固定された第２磁性層４１，４２と、感磁層４４及び固定層４１，４２に挟まれた非磁性層（絶縁層）４３とを含んで構成される。 - 特許庁