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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > surface atomに関連した英語例文

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surface atomの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 483



例文

An MgO particulate group 16 including a halogen atom in the surface vicinity, emitting the light by being excited by an ultraviolet ray of165 nm and dispersively arranging MgO particulates 16a having afterglow time of its light emission being ≥2 ms in a plane shape, is formed in a surface part of a surface layer 8.例文帳に追加

表面層8の表面部分に、表面近傍にハロゲン原子を含み,165nm以下の紫外線で励起されて発光し,その発光の残光時間が2ms以上であるMgO微粒子16aを平面的に分散配置させてMgO微粒子群16を形成する。 - 特許庁

The glass coated material 2 comprises a glass layer 6 on a surface of a metal base material 4 through an intermediate layer 20 containing a diffused layer 22 of a diffusible metal atom at the material 4 side.例文帳に追加

金属基材4の表面に、基材4側に拡散可能な金属原子の拡散層22を含む中間層20を介してガラス層6を備える、ガラス被覆体2とする。 - 特許庁

To provide an oxide film of atom layer level wherein entrance of impurities into an oxidizing process of a silicon crystal surface is suppressed for flatter and evener interface between the oxide film and a semiconductor.例文帳に追加

シリコン結晶表面の酸化工程での不純物混入を抑制し、且つ酸化膜と半導体の界面をより平坦で均一にした原子層レベルの酸化膜を提供すること。 - 特許庁

The surface roughness Ra value of a negative electrode collector 12A is not less than 0.2 μm, and the content 3 of oxygen in a negative electrode active material layer 12B is not less than 3 atom%.例文帳に追加

負極集電体12Aの表面粗度Ra値は0.2μm以上であり、負極活物質層12Bにおける酸素の含有量は3原子数%以上である。 - 特許庁

例文

In this metal oxide particle, at least two different kinds of hydrophobic groups are chemically bonded to the surface of a metal oxide particle itself via a metal atom.例文帳に追加

種類の異なる少なくとも2種の疎水基が、金属原子を介して金属酸化物粒子本体の表面に化学結合していることを特徴とする金属酸化物粒子。 - 特許庁


例文

The surface of an oxide ferroelectric is irradiated with an active oxygen such as an oxygen atom, an oxygen ion and ozone with low kinetic energy in the atmosphere where a gas element except for oxygen is satisfactorily reduced.例文帳に追加

酸化物強誘電体の表面に、酸素以外の気体元素を十分に低減した雰囲気で、酸素原子、酸素イオン、オゾンなどの活性酸素を低運動エネルギーで照射する。 - 特許庁

The modified surface modifier is expressed by general formula (1) formed by replacing hydrogen atom of Si-H bond in the molecular chain of methyl hydrogen polysiloxane by an alkoxide group.例文帳に追加

メチルハイドロジェンポリシロキサンの分子鎖中にあるSi−H結合の水素原子をアルコキシ基で置換した、下記一般式(I)で表される変性表面改質剤およびその製造方法。 - 特許庁

First, the plate is dipped into a fluoric acid solution and then into pure water to remove an oxygen atom from silicon oxide for covering the surface of the silicon particle for composing the plate before drying.例文帳に追加

そしてこのプレートを先ずフッ酸溶液に浸漬し、次に純水に浸漬してプレートを構成するシリコン粒の表面を覆う酸化シリコンから酸素原子を取り除き、しかる後乾燥を行う。 - 特許庁

In a Pt modified Ni catalyst prepared by the sequential impregnation method, Pt metal atom 1 is unevenly distributed on the surface of Ni metal fine particles 2 as shown by (a).例文帳に追加

逐次含浸法により調製したPt修飾Ni触媒は、(a)に示すように、Pt金属原子1がNi金属微粒子2の表面に主として偏在している。 - 特許庁

例文

The surface layer contains 3-25 atom% of carbon and 5×10^10 to 200×10^10 atoms/cm^2 of p-type metal elements.例文帳に追加

当該表面層は、3at.%の〜25at.%の炭素を含み、且つ、5×10^10原子/cm^2〜200×10^10原子/cm^2のp型金属元素を含んでいる。 - 特許庁

例文

Moreover, in the method for cleaning the ceramics susceptor 2 having the semiconductor setting surface 2a, a complexing agent to form a complex with the metal atom is used for the cleaning process.例文帳に追加

また、半導体設置面2aを有するセラミック製サセプター2を洗浄する方法であって、金属原子と錯体を形成する錯化剤を用いて洗浄することを特徴とする。 - 特許庁

The removal or elution of the oxidized surface atom according to the back and forth movement of the blade 15 cuts the work 13 or forms the groove to the work 13.例文帳に追加

酸化された表面原子がブレード15の往復移動に伴い除去または溶出されることによって、被加工物13が切断、あるいは被加工物13に溝が形成される。 - 特許庁

Disclosed are: the photoreceptor whose outermost layer of the photoreceptor contains fluorocarbon resin particulates and in which an amount of fluorine atoms of the outermost surface of the photoreceptor increases and saturates by being repeatedly used in the electrophotographing apparatus, the photoreceptor being characterized in that the fluorine atom saturation quantity of the outermost surface is 20 to 60 atom %; the electrophotographing apparatus using the same; and a process cartridge for the electrophotographing apparatus.例文帳に追加

感光体の最表層にフッ素樹脂微粒子を含有し、当該感光体の最表面のフッ素原子量が電子写真装置内での繰り返し使用により増加し、飽和する感光体であって、最表面のフッ素原子飽和量が20〜60原子%である感光体及びそれを用いた電子写真装置さらに電子写真装置用プロセスカートリッジである。 - 特許庁

In the fluoropolymer molded product, the surface of the molded product made of the perfluoropolymer which has a heat of crystal fusion of10 J/g and an MFR (230°C) of 0.1-100 g/min and can be melt-molded at a low temperature is modified into a surface having a nitrogen atom-derived bond.例文帳に追加

結晶融解熱量が10J/g以下で、かつMFR(230℃)が0.1〜100g/分である低温溶融成形可能なパーフルオロ重合体よりなる成形品の表面が窒素原子由来の結合を持つ表面に改質された含フッ素重合体成形品。 - 特許庁

To provide a new method for surface defect detection and its device which can quantitatively measure a defect in atom size generated on the surface and interface of a sample in a manufacturing process for semiconductor devices or the like in real time with high precision.例文帳に追加

半導体デバイスの製造プロセス等において試料の表面および界面に発生する原子サイズの欠陥を実時間で、且つ高精度で定量測定することのできる、新しい表面欠陥検出方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method by which a copper atom included in a base material can be effectively prevented from being diffused in a surface layer, in a material used for an LED lighting unit or the like, the material comprising the base material made of copper or a copper alloy and having the surface layer of a silver coating or the like formed thereon.例文帳に追加

LED照明ユニット等の銅又は銅合金を基材として銀皮膜等の表面層が形成された材料において、基材に含まれる銅原子が表面層に拡散することを効果的に防止できる方法を提供する。 - 特許庁

And a second production process is a process comprising a step of mixing a water-absorbent resin having an internal crosslinked structure and a crosslinked surface obtained by polymerizing a monomer containing acrylic acid and/or a salt thereof as a main component, and a complex containing a polyvalent metal atom as a central atom in the presence of an aqueous liquid.例文帳に追加

そして、第2の製造方法は、アクリル酸および/またはその塩を主成分とする単量体を重合してなり内部架橋構造を有するとともに表面架橋されてなる吸水性樹脂と、多価金属原子を中心原子とする錯体と、を水性液の存在下で混合する工程を含む、方法である。 - 特許庁

Amount of a hydrogen atom contained in a thin hard carbon film 3 covering the whole surface of a cutting edge 2 of a drill 1, which is a cutting tool coated with a hard carbon thin film to be used for a cutting work in the presence of the cutting oil for a cutting tool coated with a hard carbon thin film, is not more than 1 atom%.例文帳に追加

この硬質炭素薄膜付き機械加工工具用切削油の存在下における機械加工に用いる硬質炭素薄膜付き機械加工工具としてのドリル1において、切れ刃2を含めた全面を覆う硬質炭素薄膜3に含まれる水素原子の量を1原子%以下とする。 - 特許庁

The semiconductor substrate has: a junction layer forming a junction surface between a support substrate and a single-crystal semiconductor layer; a barrier layer formed by an insulating material containing nitrogen; a relaxing layer formed by an insulating material containing 1-20 atom% hydrogen while nitrogen concentration is less than 20 atom%; and an insulation layer containing halogen.例文帳に追加

半導体基板は、支持基板と単結晶半導体層の間に接合面を形成する接合層、窒素含有絶縁材料で形成されるバリア層、窒素濃度が20原子%未満であって水素を1〜20原子%含む絶縁材料で形成される緩和層、ハロゲンを含有する絶縁層を有する。 - 特許庁

In the glass plate, a Si high concentration region where the concentration ratio of the Si atomic concentration (atom%) to the Si atomic concentration (atom%) in the center position in the thickness direction of the glass plate is higher by 5% or more is formed in a depth range of >0 and ≤30 nm along the thickness direction from the glass surface.例文帳に追加

ガラス板には、ガラス板の厚さ方向の中心位置におけるSi原子濃度(原子%)に対するSi原子濃度(原子%)の濃度比率が5%以上高いSi高濃度領域が、ガラス表面から厚さ方向に沿って0より大きく30nm以下の深さの範囲に形成されている。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor in which the surface layer of the photoreceptor contains at least a compound cured by polymerizing or crosslinking a mixture containing a hole transportable compound having a chain polymerizable functional group and a fluorine atom-containing compound having a repeating unit containing a specific fluorine atom by radiation irradiation.例文帳に追加

感光体の表面層が少なくとも連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物と、特定のフッ素原子含有の繰り返し単位を持つフッ素原子含有化合物とを含有する混合物を放射線照射により重合あるいは架橋することにより硬化した化合物を含有する。 - 特許庁

An inner ring and an outer ring of this corrosion-resisting rolling bearing are respectively composed of iron steel material containing chrome of 5 wt% or more, and have surface hardness within a range of HRC50-57, and oxide coatings of abundance ratio (Cr/Fe) of chrome atom and iron atom of 0.5 or more, are formed on their surfaces.例文帳に追加

耐食性転がり軸受の内輪および外輪は、それぞれ、クロムの含有率が5重量%以上である鉄鋼材料からなり、その表面硬さがHRC50〜57の範囲内にあり、その表面にクロム原子と鉄原子との存在比(Cr/Fe)が0.5以上である酸化被膜を有している。 - 特許庁

Cleaning the semiconductor substrate with the solution containing a small amount of CN^- ion and adjusted at pH 9 to 14 at a temperature of 50°C or below, preferably at a range of 30 to 40°C, removes the initial metallic contamination of a surface copper concentration of about 10^13 atom/cm^2 to 10^9 atom/cm^2 or below.例文帳に追加

半導体基板を、少量のCN^−イオン含有,pH9〜14に調整された溶液によって、50℃以下、好ましくは30℃〜40℃の範囲の温度で洗浄処理することで、当初の表面銅濃度約10^13原子/cm^2の金属汚染が、10^9原子/cm^2以下にまで除去される。 - 特許庁

A second production method includes a step of mixing a water-absorbent resin obtained by polymerizing a monomer containing acrylic acid and/or a salt thereof as a main component and having an internal crosslinked structure and a crosslinked surface, with a complex containing a polyvalent metal atom as a central atom in the presence of an aqueous liquid.例文帳に追加

そして、第2の製造方法は、アクリル酸および/またはその塩を主成分とする単量体を重合してなり内部架橋構造を有するとともに表面架橋されてなる吸水性樹脂と、多価金属原子を中心原子とする錯体と、を水性液の存在下で混合する工程を含む、方法である。 - 特許庁

The surface treatment composition is obtained by adding a silane compound, wherein at least one alkyl group having a fluorine atom and at least one hydrolyzable functional group are directly bonded to a silicon atom, to a mixture of water and an aprotic organic solvent in the presence of an acid substance.例文帳に追加

フッ素原子を有する少なくとも1つのアルキル基と、少なくとも1つの加水分解性官能基と、がケイ素原子に直接結合したシラン化合物を、酸性物質存在下、水と非プロトン性の有機溶媒との混合物中に添加することによって得られる表面処理組成物を使用する。 - 特許庁

The resin composition for optically shaping a three-dimensional article by surface exposure comprises, as a radically polymerizable organic compound, a dimethacrylate compound (I) represented by general formula (I) (wherein R^1 is a hydrogen atom or a methyl group; R^2 is a hydrogen atom or a methyl group; and m and n are each independently an integer of 1-20).例文帳に追加

ラジカル重合性有機化合物として、下記の一般式(I);(式中、R^1は水素原子又はメチル基、R^2は水素原子又はメチル基、m及びnはそれぞれ独立して1〜20の整数を示す。)で表されるジメタクリレート化合物(I)を含有する、面露光による光学的立体造形用樹脂組成物。 - 特許庁

This method for producing the purified aromatic polycarbonate resin by treating the molten state aromatic polycarbonate resin with a polymer filter is provided by using as a polymer filter, a filter having ≥1.5 (Cr/Fe) ratio of the chromium atom concentration to the iron atom concentration on the at most surface of the filter measured by an X-ray photoelectron spectroscopy.例文帳に追加

溶融状態の芳香族ポリカーボネート樹脂をポリマーフィルターで処理して精製芳香族ポリカーボネート樹脂を製造するに当たり、ポリマーフィルターとして、X線光電子分光法によるフィルター最表面の鉄原子濃度に対するクロム原子濃度の比(Cr/Fe)が1.5以上であるフィルターを使用する。 - 特許庁

When an opening method by a laser processing technique is used, the water-repellent layer 11 is formed by substituting the hydrogen atom on the wall face of the opening part 10 and the surface of the plastic material part for fluorine atom to realize an excellent release property for the printing materials on the side to be in direct contact with a matter to be printed.例文帳に追加

またレーザー加工技術による開口法を用いた場合には、プラスチック材料部の開口部10壁面及び表面の水素原子をフッ素原子に置換することにより撥水性層11を形成し、直接被印刷物に接する側での印刷材料に対する良好な抜け性を実現する。 - 特許庁

Subsequently, after so feeding a water (a water vapor) to the surface of the substrate 3 by the water feeding line 16 as to oxidize the metal-atom layer, the feeding of the water is so stopped as to purge the water by the high-temperature inert gas.例文帳に追加

次に、水供給ライン16により基板3表面に水(水蒸気)を供給して金属原子層を酸化した後、水の供給を停止して高温不活性ガスによるパージを行う。 - 特許庁

The carbon material for the electric double layer capacitor comprises a carbon pore body containing 0.1 to 5% of boron in an atom ratio and a specific surface area of which is 1,000 m^2/g or over.例文帳に追加

本発明の電気二重層キャパシタ用炭素材料は、ホウ素を原子比で0.1〜5%含み、かつ比表面積が1000m^2/g以上である炭素細孔体からなることを特徴とする。 - 特許庁

Simple oxidation activity is more excellent than that of Pd and the Pt present on the surface of the two-phase colloid acts as an adsorption point to generate the adsorption- dissociation of saturated HC and, thereafter, Pt is reacted with an oxygen atom adsorbed by Pd.例文帳に追加

また単純な酸化活性ではPdよりも優れ表面に存在するPtを吸着点として飽和HCの吸着−解離が起こり、その後Pdに吸着している酸素原子と反応する。 - 特許庁

Press oil containing an ester component is applied on the surface of an Mg-containing aluminum alloy having hydrated phosphate or hydrogen phosphate of ≥2.0 atom.% in phosphorus concentration.例文帳に追加

リン濃度が2.0原子%以上である水和したリン酸塩もしくはリン酸水素塩を有するMg含有アルミニウム合金材の表面に、エステル成分を含有するプレス油が塗布されたものである。 - 特許庁

A hydrophobic organic high polymer film, comprising a polyimide resin film containing a fluorine atom is formed on the surface of a member 1 exposed to vacuum in a vacuum processing chamber by deposition polymerization reaction.例文帳に追加

真空処理室の真空中に露出される部材1の表面に、フッ素原子を含有するポリイミド樹脂膜から成る疎水性有機高分子膜を蒸着重合反応により形成する。 - 特許庁

The compound semiconductor substrate 10 is equipped with substrate 12 consisting of a p type compound semiconductor, and substance 14 combining with surface 12a of the substrate 12 while containing a p-type dopant atom.例文帳に追加

化合物半導体基板10は、p型の化合物半導体からなる基板12と、基板12の表面12aに結合しておりp型の不純物原子を含む物質14とを備える。 - 特許庁

The oxidant generates an activated species having a strong oxidizing power with a transition metal (the blade 15) as a catalyst, and the surface atom is oxidized by the contact or the extreme approximation of the work 13 to the activated species.例文帳に追加

酸化剤が遷移金属(ブレード15)を触媒として酸化力の強い活性種を生成し、この活性種に被加工物13が接触または極接近することで表面原子が酸化される。 - 特許庁

The fire-resistant additive is produced by surface-treating the compound comprising the heterocyclic compound containing a nitrogen atom and phosphoric acid with one or more hydrophobic compounds each comprising an organic silicon compound.例文帳に追加

窒素原子を含む複素環化合物とリン酸からなる化合物を、有機ケイ素化合物からなる疎水性化合物の1種又は2種以上で表面処理してなることを特徴とする難燃性添加物。 - 特許庁

A method of manufacturing a quaternary nitrogen-containing heterocyclic polymeric material comprises vaporizing a haloaliphatic compound and bringing it into contact with a nitrogen-containing heterocyclic polymeric material to form a quaternized nitrogen atom on the surface of the material.例文帳に追加

含窒素複素環ポリマー材料に、ハロ脂肪族化合物を気化接触させ、材料表面に第四級塩化窒素原子を形成する含第四級窒素複素環ポリマー材料の製造方法。 - 特許庁

Further, a metal density in a range from the surface of the electron emission film to the depth of 10 nanometers is set up to be 0.1 to 40 atom% against the carbon atomic number included in the electron emission film.例文帳に追加

さらに、電子放出膜の表面から10nmまでの範囲における金属の濃度を、電子放出膜中に含まれる炭素原子数に対し0.1原子%以上40原子%以下とする。 - 特許庁

The ITO transparent electroconductive film includes 13-22% tin by an atom ratio of Sn/(In+Sn), has small crystallites, and is superior in surface flatness and reduction resistance.例文帳に追加

スズをSn/(In+Sn)の原子比で13〜22%の割合で含有させることにより、結晶子が小さく表面平坦性及び耐還元性に優れたITO透明導電膜とすることが可能となる。 - 特許庁

The fluorescent paste comprises a nonionic surfactant bearing a hydroxyalkyl group and a nitrogen atom, a fluorescent substance of a BET specific surface area of ≥1 m^2/g, a binder and a solvent.例文帳に追加

ヒドロキシアルキル基と窒素原子とを含む化合物からなる非イオン性界面活性剤、BET比表面積が1m^2/g以上の蛍光体、バインダーおよび溶剤が含有されてなる蛍光体ペースト。 - 特許庁

The curing agent (B) may be composed of a dispersible polyisocyanate which is obtained through a reaction between a polyisocyanate and a surface-active or dispersible component having an active hydrogen atom which is reactive with an isocyanate group.例文帳に追加

硬化剤(B)は、ポリイソシアネートと、イソシアネート基に対して反応性の活性水素原子を有する界面活性又は分散性成分との反応により得られる分散性ポリイソシアネートであってもよい。 - 特許庁

By controlling the nitrogen content to the aforementioned range and controlling the total content of nitrogen and oxygen to be 50 atom% or higher, chemical resistance of the surface of the antireflection film 14 is improved.例文帳に追加

そして、窒素の含有率を上記範囲とし、かつ窒素と酸素の含有率の合計を50atom%以上とすることで反射防止膜14の表面の薬品耐性を向上させている。 - 特許庁

A compound semiconductor substrate 10a comprises a substrate 12 consisting of a p type compound semiconductor, and a substance 14 bonded to a surface 12a of the substrate 12 and containing a p-type impurity atom.例文帳に追加

化合物半導体基板10aは、p型の化合物半導体からなる基板12と、基板12の表面12aに結合しておりp型の不純物原子を含む物質14とを備える。 - 特許庁

The electrifying roller is provided with a surface layer having a block copolymer containing either a polymer component having a fluorine atom in a side chain or a polymer component having siloxane coupling in a main chain.例文帳に追加

側鎖にフッ素原子を有する重合体成分、または、主鎖にシロキサン結合を有する重合体成分のいずれかを含有するブロック共重合体を有する表面層を設けた帯電ローラ。 - 特許庁

The carbon film or the self-organizing film has ≤10 nm film thickness and a carbon film of at least two carbon atom layer or the carbon film having 0.5 nm thickness is present on the surface of the glass optical device after press-molding, press-molded by the molding surface.例文帳に追加

前記炭素膜または自己組織化膜は、膜厚が10nm以下であり、かつ、プレス成形後のガラス光学素子の前記成形面によりプレス成形された表面上に少なくとも2原子層若しくは0.5nmの膜厚の炭素膜が存在するように形成されたものである。 - 特許庁

This acrylic resin composition is obtained by compounding such particles that at least the surface thereof consists of a calcium phosphate- based compound having petaloid porous structure, the atom ratio Ca/P is ≤33.3, and specific size, size distribution and BET specific surface area are met resepctively.例文帳に追加

少なくとも粒子表面が、花弁状多孔質構造を有するリン酸カルシウム系化合物からなり、Ca/Pの原子比が33.3以下であり、且つ特定の粒度、粒度分布及びBET比表面積を満足する粒子を配合してなるアクリル系樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, capable of easily processing shapes different in etching depth on a same surface without inducing a defect (group V atomic vacancy) by desorption of a constituent atom of a semiconductor and causing degradation of a surface morphology.例文帳に追加

半導体の構成原子の脱離による欠陥(V族原子空格子)の誘起または表面モフォロジーの劣化を生じさせずに、同一面内でエッチング深さが異なる形状を容易に加工することができる半導体素子の作製方法を提供する。 - 特許庁

A surface nitride layer section 1B is made so that the nitrogen content at a depth of 10 Å from the surface may be 2 atom.% or over by arranging the sapphire single crystal substrate 1 in nitrogen-containing atmosphere such as ammonium atmosphere.例文帳に追加

サファイア単結晶基板1をアンモニア雰囲気などの窒素含有雰囲気中に配置し、所定時間加熱することによって表面窒化層部分1Bを、その表面から10Åの深さにおける窒素含有量が2原子%以上となるように形成する。 - 特許庁

When a voltage is applied between these electrodes 30, 40 and a hydrogen atom is permeated into the test sample electrode 30 to reach to the above second surface, the hydrogen is ionized by a current flowing between the second surface positive-charged and the electrodes.例文帳に追加

これらの電極30,40の間に電圧を印加し、水素原子が試験標本電極30に浸透して前記第2の面に達すると、正に帯電した第2の表面と前記電極間を流れる電流によって前記水素原子がイオン化されるようにする。 - 特許庁

例文

A compound semiconductor substrate is etched and acid-cleaned as a pre-process for forming an epitaxial growth layer on the surface of the compound semiconductor substrate, and the compound semiconductor substrate which is pre-processed is placed in a gas comprising carbon atom such as atmosphere, carbon dioxide, methane gas, so that the accumulated layer of carbon atom is formed on the surface of the compound semiconductor substrate before epitaxial growth.例文帳に追加

化合物半導体基板の表面にエピタキシャル成長層を形成する前処理工程として、化合物半導体基板にエッチングと酸洗浄を行い、かかる前処理を行った化合物半導体基板を、大気、炭酸ガス、メタンガス等の炭素原子を含む気体中に置いて、エピタキシャル成長前に、化合物半導体基板の表面に炭素原子の蓄積層を形成するようにした。 - 特許庁




  
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