「thin- layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(63ページ目) - Weblio英語例文検索

An electron discharge element 14 arranged oppositely to the object 10 to be charged has a semiconductor layer 16 having an energy band gap of ≥3.60 eV or ≤1.30 eV, a thin film insulation layer 18, a thin film electrode 20 formed on the surface side of the layer 18, and a substrate electrode 22 formed on the rear side of the layer 16.例文帳に追加

被帯電物１０に対向して設置されている電子放出素子１４は、３．６０ｅＶ以上か１．３０ｅＶ以下のエネルギーバンドギャップの半導体層１６及び薄膜絶縁層１８と、薄膜絶縁層１８表面側に形成された薄膜電極２０と、半導体層１６裏面側に形成された基板電極２２とを有している。 - 特許庁

The metal-containing fabric has a thin metal film layer and a coloring agent-containing resin layer on at least one surface of the fabric wherein the thin metal film layer and the coloring agent-containing resin layer are formed on the yarn portion composing the surface of the fabric, and the air-permeability at 125 Pa is not less than 0.5 cc/cm^2/sec.例文帳に追加

布帛の少なくとも片面に金属薄膜層および着色剤含有樹脂層を有する金属含有布帛であって、金属薄膜層および着色剤含有樹脂層は布帛表面を構成する糸条部に形成され、かつ、１２５Ｐａ時の通気度が、０．５ｃｃ／ｃｍ^2／ｓｅｃ以上であることを特徴とする金属含有布帛。 - 特許庁

To provide a method for epitaxially forming a thin oxide film, such as an intermediate layer or a superconductive layer, by removing the oxidized layer from the surface of an oriented metallic substrate without fail and keeping the biaxial orientability of the oriented metallic substrate.例文帳に追加

配向金属基板表面の酸化層を確実に除去し、配向金属基板の２軸配向性を維持して、中間層および超電導層などの酸化物薄膜をエピタキシャルに形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a two layer phase change optical information recording medium of which overwrite characteristic is excellent and in which a plurality of recording layers can be surely initialized even when the reflecting layer of an information layer is thin, and its recording and reproducing method.例文帳に追加

情報層の反射層が薄い場合でも、オーバーライト特性が優れ、なおかつ複数の記録層を確実に初期化できる２層相変化型光情報記録媒体、及びその記録再生方法の提供。 - 特許庁

To provide integrated touch screens including drive lines formed of grouped-together circuit elements of a thin film transistor layer and sense lines formed between a color filter layer and a material layer that modifies or generates light.例文帳に追加

薄膜トランジスタ層の連携グループ化回路素子で形成されたドライブ線、及びカラーフィルタ層と光を変更又は発生する材料層との間に形成されたセンス線を含む一体型タッチスクリーンを提供する。 - 特許庁

The thin film magnetic head is completed by forming the MR element, the first part of the upper shield layer placed on the MR element, a recording gap layer, and an upper magnetic pole layer or the like to the material as above.例文帳に追加

このような素材に対して、ＭＲ素子、このＭＲ素子の上側に配置される上部シールド層の第１の部分、記録ギャップ層、上部磁極層等を形成することで、薄膜磁気ヘッドが完成する。 - 特許庁

A core material comprising a first core material and a second core material is used to form a thick layer part comprising the first core material and second core material, and a thin layer part comprising the first core material and thinner in thickness than the thick layer part.例文帳に追加

第１の芯材と第２の芯材とを含む芯材を用いて、第１の芯材と第２の芯材とを含む厚層部と、第１の芯材を含みかつ厚層部よりも厚さが薄い薄層部とを形成する。 - 特許庁

The paper container, in which a printed layer having the metallic luster layer region is provided on a paper base material, is characterized by making the metallic luster layer region contain a binding resin and small pieces of a metallic thin film.例文帳に追加

紙基材上に、金属光沢層領域を有する印刷層を設けた紙容器であって、該金属光沢層領域が、結着樹脂と金属薄膜細片を含有することを特徴とする紙容器。 - 特許庁

An auxiliary capacitor CSC is composed of an active layer 42 of a TFT, a silicon thin film 43 as a common layer, an auxiliary capacitance line formed by patterning a 1st metallic layer 46 laminated across a gate insulating film 44.例文帳に追加

ＴＦＴの能動層４２と共通層であるシリコン薄膜４３とゲート絶縁膜４４を介して積層された第１金属層４６をパターン化した補助容量ラインとにより補助容量ＣＳＣを構成する。 - 特許庁

An image carrier protecting agent 21 (substance having self-lubricating property) having a high effect of preventing wear of a photoreceptor is supplied from a second protective layer forming device 2, and is formed into a thin layer by a protective layer forming mechanism 24.例文帳に追加

第２の保護層形成装置２から感光体磨耗の防止効果の高い像担持体保護剤２１（自己潤滑性を有する物質）が供給され、保護層形成機構２４により薄層化される。 - 特許庁

To provide a sputtering target for forming a seed layer becoming an underlying layer when a thin film becoming an interconnect line in a semiconductor device, e.g. an LSI, is formed by plating, and to provide a seed layer formed by using that target.例文帳に追加

ＬＳＩなどの半導体装置における配線となる薄膜をメッキにより形成する際の下地層となるシード層形成用スパッタリングターゲットおよびそのターゲットを用いて形成したシード層に関するものである。 - 特許庁

A laminated ferrimagnetic thin film is composed of two ferromagnetic layers 308 and 309, and a nonmagnetic intermediate layer 304 interposed therebetween, and each ferromagnetic layer is anti-ferromagnetically coupled through the nonmagnetic intermediate layer.例文帳に追加

積層フェリ型磁性薄膜は、２つの強磁性層３０８，３０９と、それらに挟まれた非磁性中間層３０４よりなり、各強磁性層が非磁性中間層を介して反強磁性的に磁気結合する。 - 特許庁

The ultracompact thin layer gel electrophoresis apparatus uses as a support a flat gel comprised of a concentration gel layer 5 of a thickness of at least 50-350 μm and a separation gel layer 6 of a thickness of not larger than 50 μm.例文帳に追加

少なくとも厚さ５０μｍ〜３５０μｍの濃縮ゲル層５と、厚さ５０μｍ以下の分離ゲル層６から成る平板ゲルを支持体とすることを特徴とする超小型薄層ゲル電気泳動装置を提供する。 - 特許庁

The method disclosed includes (i) ion implantation to create a thin amorphization layer, (ii) deposition of a high stress film on the amorphization layer, (iii) a thermal anneal to recrystallize the amorphization layer, and (iv) removal of the high stress film.例文帳に追加

（ｉ）薄いアモルファス化層を生成するためのイオン注入と、（ｉｉ）アモルファス化層上への高応力膜の堆積と、（ｉｉｉ）アモルファス化層を再結晶させるための熱アニールと、（ｉＶ）高応力膜の除去とを含む。 - 特許庁

To provide: a method of manufacturing a substrate advantageous in forming a conductive layer by plating while providing mold releasability between an imprinting mold and a resin layer using a metal thin film layer; and a substrate manufactured by the method.例文帳に追加

金属薄膜層を用いてインプリンティングモールドと樹脂層間の離型性を付与しながら、めっきによる導電層の形成に有利な基板の製造方法及びこの方法により製造された基板を提供する。 - 特許庁

To provide a resin multilayer substrate such that sufficient adhesion between a first resin layer and a second resin layer is secured and the thickness of the second resin layer is made thin, and a method of manufacturing the resin multilayer substrate.例文帳に追加

本発明は、第１樹脂層と第２樹脂層との密着性を十分に確保し、第２樹脂層の厚みを薄くすることが可能な樹脂多層基板及び該樹脂多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The oxide thin-film transistor substrate 1 is characterized in that a protection film 10 covering over an oxide semiconductor layer 7 is formed on an upper surface of an interlayer insulating layer 8 being the same layer as a pixel electrode 9 apart from the pixel electrode 9.例文帳に追加

酸化物薄膜トランジスタ基板１は、酸化物半導体層７の上方を覆う保護膜１０を、画素電極９と同一層である層間絶縁層８の上面に、画素電極９とは離間して形成した。 - 特許庁

The gas barrier film is constituted by laminating a transparent resin layer (B), which contains an unsaturated carboxylic acid or its derivative, on the surface of a transparent base material film (A) and further laminating a transparent inorganic thin film layer (C) on the transparent resin layer (B).例文帳に追加

透明基材フィルム（Ａ）表面上に不飽和カルボン酸またはその誘導体からなるポリマーを含む透明樹脂層（Ｂ）を積層し、更に該樹脂層上に、透明無機薄膜層（Ｃ）を積層してなるガスバリアフィルム。 - 特許庁

The dielectric layer is obtained by first deposition of a thin TiO_2 protective layer by atomic layer growth using water as an oxidant and subsequent deposition of a second dielectric body by ALD using O_3 as an oxidant.例文帳に追加

誘電体層は、酸化剤として水を用いた原子層成長による、薄いＴｉＯ_２保護層の最初の堆積と、これに続くＯ_３を酸化剤として用いたＡＬＤによる第２誘電体の堆積とにより得られる。 - 特許庁

This laminated film with gas barrier properties has a gas barrier layer composed of an inorganic thin film layer and an overcoat layer, formed on a base material film containing an inorganic compound, preferably a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation reaction under a sol-gel process.例文帳に追加

無機化合物、好ましくはゾルゲル法による加水分解及び重縮合反応により得られた金属酸化物を含有する基材フィルム上に、無機薄膜層とオーバーコート層とからなるガスバリア層を有する。 - 特許庁

The resonance frequency is adjusted, by forming a frequency adjusting layer 18' in the uppermost layer of the piezoelectric thin-film oscillator, and irradiating the adjusting layer with excitation energy thereby reducing its one part gradually.例文帳に追加

圧電薄膜振動子の最上層部に周波数調整層１８’を形成し、調整層に励起エネルギーを照射することによりその一部を漸減することによって共振周波数を調整することを特徴とする。 - 特許庁

The thin film device 100 includes a base electrode 2 made of metal, a first dielectric layer 4, a first inner electrode 10, a second dielectric layer 6, a second inner electrode 12, and a third dielectric layer 8.例文帳に追加

薄膜デバイス１００は、金属からなる下地電極２と、第１の誘電体層４、第１の内部電極１０、第２の誘電体層６、第２の内部電極１２、第３の誘電体層８と、を備える。 - 特許庁

In another mode, after a transparent electrode layer is formed on a substrate, an ultraviolet-absorbing thin-film pattern is formed on the transparent electrode layer, and then, ultraviolet laser beams are irradiated on the transparent electrode layer.例文帳に追加

他の形態では、基体上に透明電極層を形成した後、該透明電極層上に紫外光吸収性の薄膜パターンを形成し、次いで、前記透明電極層へ紫外レーザ光の照射を行う。 - 特許庁

To provide a thin-film transistor array in which alignment is easy and a sealing layer of a high yield is included in formation of the sealing layer on a semiconductor layer, and to provide its manufacturing method and an active matrix display.例文帳に追加

半導体層上の封止層形成において、アライメントが容易かつ歩留まりの高い封止層を有する薄膜トランジスタアレイおよびその製造方法、ならびにアクティブマトリスクディスプレイを提供することにある。 - 特許庁

The lower part magnetic shield 10 is flattened, and a flat insulating layer 24, a thin and flat GMR sensor layer 26 and a flat PMGI layer 28 having uniform thickness are formed on the lower part magnetic shield 10 thus flattened.例文帳に追加

下部磁気シールド１０が平坦化され、その平坦な下部磁気シールド１０上に平坦な絶縁層２４、薄い平坦なＧＭＲセンサ層２６および均一な厚さの平坦なＰＭＧＩ層２８が形成される。 - 特許庁

A noble metal plating layer 21 as thin as about 0.05 μm is formed on the silver plating layer 20 to cover the entire surface of the silver plating layer 20 becoming the light reflecting surface 22.例文帳に追加

更に、この銀めっき層２０上に厚さ０．０５μｍ程度の薄い貴金属めっき層２１を形成し、光反射面２２となる銀めっき層２０の表面全体を薄い貴金属めっき層２１でカバーする。 - 特許庁

To provide a conductive paste improving a breakdown voltage and high-temperature acceleration life of an electronic component after baking even when an electrode layer is particularly converted into a thin layer or a multi-layer.例文帳に追加

特に電極層を薄層化および多層化した場合であっても、焼成後の電子部品において破壊電圧および高温加速寿命を向上させることができる導電性ペーストを提供すること。 - 特許庁

The dye-sensitized photoelectric conversion element is formed by sequentially arranging a dye-sensitized semiconductor layer 3, a porous insulating layer 4 and a counter electrode 5 on a transparent conductive layer 2 which is formed on the thin-film glass substrate 1.例文帳に追加

薄膜ガラス基板１上に形成した透明導電層２上に色素増感半導体層３、多孔質絶縁層４および対極５を順次積層して色素増感光電変換素子を構成する。 - 特許庁

The magnetic head 10 has a reproduction lower shielding layer 20, a reproduction lower insulating layer 22, a magneto-resistance element layer 24, a pair of hard magnetic material layers 26 and a pair of terminal layers 28 successively thin-film forming on a substrate 12.例文帳に追加

磁気ヘッド１０は、基板１２上に順次薄膜形成される再生下部シールド層２０、再生下部絶縁層２２、磁気抵抗素子層２４、一対の硬質磁性体層２６及び一対の端子層２８を備える。 - 特許庁

Also, fiber ribbons 13 forming the divided sub-units are coated with the covering layer 12 of the thin layer and therefore, the coated fiber ribbons can be easily separated to the single core optical fibers 11 by removing the covering layer 12.例文帳に追加

また、分割されたサブユニットを形成するテープ心線１３は薄層の被覆層１２で被覆されているので、被覆層１２を除去することにより容易に単心の光ファイバ１１に分離することができる。 - 特許庁

In the optical thin film including a substrate and a layer comprising a fluoride-base material formed on the substrate, a layer comprising an oxide-base material is disposed as a top layer on the opposite side to the substrate side.例文帳に追加

基板と、前記基板上に成膜されるフッ化物系物質からなる層を含む光学薄膜において、基板側とは反対側である最上層に酸化物系物質からなる層を配置する構成とした。 - 特許庁

A membrane layer of a thin film is formed when dried by the concrete release agent prepared by dispersing a swelling layer-shaped clay mineral in water, and good mold-release properties are made possible since the membrane layer is interlayer-peeled easily.例文帳に追加

膨潤性層状粘土鉱物を水に分散させてなるコンクリート離型剤で、乾燥すると薄膜の皮膜層を形成し、この皮膜層が容易に層間剥離することで良好な離型性を可能とする。 - 特許庁

To prevent the vicinity of a separating part of an outer semiconductor layer from becoming a weak point when the outer semiconductor layer provided on the outer circumference of a reinforced insulating layer covering the joint of a power cable is thin.例文帳に追加

電力ケーブルの接続部分を覆う補強絶縁層の外周に設けられる外部半導電層の厚みが薄い場合に、外部半導電層の縁切り部付近が絶縁の弱点となるのを防止すること。 - 特許庁

Furthermore, the surface layer part of the joint silicon single crystal thin film 5, stuck on the first substrate 7, is etched back upto an etch-stop layer 6' that is formed based on the ion implantation layer 6, through this peeling operation.例文帳に追加

そして、この剥離により第一基板７上に貼り合わされた結合シリコン単結晶薄膜５表層部を、エッチストップ用イオン注入層６に基づいて形成されたエッチストップ層６’までエッチバックする。 - 特許庁

The substrate for flexible printed circuit is produced by laminating a thin film layer of copper and a substrate of aromatic polyamide film through an alloy layer of nickel and chromium wherein the ratio of chromium in the alloy layer is 2-5 wt.%.例文帳に追加

銅薄膜層と芳香族ポリアミドフィルムからなる基材とが、ニッケルとクロムからなる合金層を介して積層され、該合金層中のクロムの割合が２〜５重量％であるフレキシブルプリント回路用基板。 - 特許庁

The substrate for flexible printed circuit is produced by laminating a thin film layer of copper and a substrate of aromatic polyamide film through an alloy layer of nickel and chromium wherein the ratio of chromium in the alloy layer is 15-25 wt.%.例文帳に追加

銅薄膜層と芳香族ポリアミドからなる基材とが、ニッケルとクロムからなる合金層を介して積層され、該合金層中のクロムの割合が１５〜２５重量％であるフレキシブルプリント回路用基板。 - 特許庁

A part or the whole of nitrogen constituting the nitrogen containing layer or a part or the whole of nitrogen or oxygen constituting oxygen/nitrogen containing layer is coupled with Si in the semiconductor layer 33 of the thin film transistor.例文帳に追加

窒素含有層を構成する窒素の一部若しくは全部、または、酸素窒素含有層を構成する窒素または酸素の一部若しくは全部は、薄膜トランジスタの半導体層３３のＳｉと結合している。 - 特許庁

The metal aluminum layer 12 and the protective oxide film 11 are caused to react each other to form an alumina preliminary layer 13 of the single crystal oxide thin film by heating them in vacuum after the deposition of the metal aluminum layer 12.例文帳に追加

金属アルミ層１２堆積後に真空中で加熱することにより、金属アルミ層１２と保護酸化膜１１とを反応させて単結晶の酸化物薄膜であるアルミナ予備層１３を形成する。 - 特許庁

The lower electrode layer 103 made of a conductive thin film composed of ruthenium (Ru) and nitrogen (N), the metal oxide layer 104, and an upper electrode 105 are provided on a substrate 101 via an insulating layer 102.例文帳に追加

基板１０１の上に、絶縁層１０２を介し、ルテニウム（Ｒｕ）と窒素（Ｎ）とから構成された導電薄膜よりなる下部電極層１０３と、金属酸化物層１０４と、上部電極１０５とを備える。 - 特許庁

Once the mask layer (250) is removed, the pattern (242) is completely transferred to the ARC layer (240) using an etching process, and the pattern (242) in the ARC layer (240) is transferred to the underlying thin film (220).例文帳に追加

一旦マスク層（２５０）が除去されると、パターン（２４２）は、エッチングプロセスを用いることによって、ＡＲＣ層（２４０）へ完全に転写され、ＡＲＣ層（２４０）中のパターン（２４２）は、下地の薄膜（２２０）へ転写される。 - 特許庁

A resistance R2 of the lower layer 31 has a relation of R2≥R1×10 with a resistance R1 of the heat generating resistor layer 33 and current hardly flows, and since only the thin heat generating resistor layer 33 generates heat, heating efficiency is excellent.例文帳に追加

下部層３１の抵抗値Ｒ２は発熱抵抗層３３の抵抗値Ｒ１と「Ｒ２≧Ｒ１×１０」の関係にあり電流は殆ど流れず、薄い発熱抵抗層３３のみが発熱するので発熱効率がよい。 - 特許庁

A thin film magnetic head is completed by forming the MR element, the 1st part of the upper shielding layer to be arranged on the top of this MR element, a recording gap layer, an upper magnetic pole layer, etc., for such materials.例文帳に追加

このような素材に対して、ＭＲ素子、このＭＲ素子の上側に配置される上部シールド層の第１の部分、記録ギャップ層、上部磁極層等を形成することで、薄膜磁気ヘッドが完成する。 - 特許庁

A base material film 11 is superposed on a sealant film 14 formed by forming a thin inorganic deposited layer 13 on a sealant base material 12 through an adhesive layer 15, the deposited layer 13 being located inside the base material 12.例文帳に追加

基材フィルム１１と、シーラント基材１２に無機物質の蒸着薄膜層１３を形成させてなるシーラントフィルム１４とを、蒸着薄膜層１３を内側にして接着層１５を介して積層した。 - 特許庁

A pixel electrode 11 is connected to the source/drain 22a of a thin film transistor 12 through an electrically conductive light-shielding layer 25 and an electrically conductive film 34 so that the electrically conductive light-shielding layer 25 acts as a contact layer for the source/drain 22a.例文帳に追加

画素電極１１が導電性遮光層２５と導電膜３４とを介して薄膜トランジスタ１２のソース／ドレイン２２ａに接続しており、導電性遮光層２５がソース／ドレイン２２ａのコンタクト層を兼ねている。 - 特許庁

In this manufacturing method for a magnetoresistance effect thin-film magnetic head provided with an SV-GMR element 4, a process in which a plasma treatment layer 45 is formed between a fixation layer 44 and an antiferromagnetic layer 46 for the SV-GMR element 4 is provided.例文帳に追加

SV-GMR素子４を備えた磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの製造方法において、SV-GMR素子４の固定層４４と反強磁性層４６との間にプラズマ処理層４５を形成する工程を備える。 - 特許庁