「time for exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The first read timing of reading the stored charge of the long time exposure from the group for the long time exposure and the second read timing of reading the stored charge signal of the short time exposure from a short time exposure pixel group are respectively independently adjusted.例文帳に追加

長時間露光用のグループから長時間露光の蓄積電荷を読み出す第１の読出しタイミングと、短時間露光画素グループから短時間露光の蓄積電荷信号を読み出す第２の読出しタイミングを、それぞれ独立に調整する。 - 特許庁

To obtain a synthetic image signal wherein irregular saturation in a high luminance part of a long-time exposure signal and noise in a luminance signal and a chromatic signal in a low luminance part of a short-time exposure signal are inconspicuous in an imaging apparatus for synthesizing the long-time exposure signal and the short-time exposure signal to generate a wide dynamic signal.例文帳に追加

長時間露光信号と短時間露光信号を合成してワイドダイナミック化する撮像装置において、長時間露光信号の高輝度部の飽和ムラや短時間露光信号の低輝度部の輝度信号や色信号のノイズが目立たない合成画像信号を得る。 - 特許庁

The requirements for driving the optical sensor include at least either precharge time or exposure time.例文帳に追加

光センサの駆動条件は、プリチャージ時間又は露光時間の少なくとも一方とする。 - 特許庁

To provide an image input apparatus for conducting exposure time control at a high speed shutter time without mechanical restriction.例文帳に追加

画像入力装置において、機械的な制約なく高速秒時の露光時間制御を実現すること。 - 特許庁

To easily form optimum mask patterns for ordinary exposure at the time of forming circuit patterns of the smallest line width corresponding to the line width of fine line patterns by the multiple exposure of fine line pattern exposure and the ordinary exposure.例文帳に追加

微細線パターン露光と通常露光との多重露光によって微細線パターンの線幅に対応する最小線幅の回路パターンを形成する際の、前記通常露光用として最適なマスクパターンを容易に作成する。 - 特許庁

To solve the following problem: when exposure of an electronic circuit region and exposure of a humidity-resistant ring region are individually performed using an exposure apparatus with high resolution, it is necessary to occupy the exposure apparatus for a long time.例文帳に追加

電子回路領域の露光と、耐湿リング領域の露光とを、解像度の高い露光装置を用いて別々に行うと、露光装置の占有時間が長くなってしまう。 - 特許庁

An aperture driver 22 and a sensor driver 21 adjust an aperture diameter and an exposure time by an inputted exposure correction signal to obtain an adequate exposure for actual exposing by correcting exposure at photometry.例文帳に追加

絞りドライバ２２，センサドライバ２１は、入力された露出補正信号により絞り径，露出時間を調節し、測光時の露出を補正して本露光時の適正露出を得る。 - 特許庁

The beam is guided to a second exposure object W2 during the stage transfer time for the first exposure object W1, to perform the second exposure process on the surface of the second exposure object W2.例文帳に追加

第１露光対象物Ｗ１に対するステージ移送時間の間、光を第２露光対象物Ｗ２に誘導して、第２露光対象物Ｗ２の表面に第２露光工程を行う。 - 特許庁

A driving time of an infrared LED and an exposure time of a light-receiving side are set at the same timing, and the light-receiving side is exposed for a time period identical to the exposure time set at the same time period during a time period in which the infrared LED is not driven.例文帳に追加

赤外ＬＥＤを駆動する時間と、受光素子側の露光時間を同一タイミングとし、更に、赤外ＬＥＤを駆動させない期間に受光素子側を上記露光時間と同じ時間だけ露光させる。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and an exposure method which reduce the time for change of reticles as well as the time for measurement and correction for performing exposure with high accuracy.例文帳に追加

レチクルを交換する時間を削減しつつ、露光処理を精度良く行うための計測、補正時間をも削減する露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light irradiation apparatus for an exposure apparatus, an exposure apparatus and an exposure method, the light irradiation apparatus decreasing the time for replacing a light source part and the time for stopping the apparatus.例文帳に追加

光源部の交換時間及び装置のダウンタイムを短縮することができる露光装置用光照射装置、露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

An imaging device comprises exposure compensating means for temporally release the AE lock when an exposure target value is changed in an AE locked state for performing an exposure retry operation about the changed exposure target value, and for automatically returning to the AE locked state again at the time when the exposure becomes proper.例文帳に追加

ＡＥロック状態で露出目標値の変更があった場合に、一時的にＡＥロックを解除し、変更された露出目標値で再露出動作を行い、露出が適正になった時点で再度ＡＥロック状態に自動的に戻る露出補正手段を備える。 - 特許庁

To provide a method and device for optimizing the exposure time for an area of the pixel of an image sensor array during an exposure.例文帳に追加

本発明は、露出中に画像センサ・アレイの画素の領域の露出時間を最適化する方法及び装置の提供を目的とする。 - 特許庁

In addition, when dot images continuous in a main scan direction are exposed to light, the exposure energy is reduced by making the exposure time spent for exposing the continuous dot images to light shorter than the exposure time spent for exposing the isolated 1 dot image to light.例文帳に追加

また、主走査線方向に連続するドット画像を露光する場合は、孤立１ドット画像を露光するときの露光時間よりも露光時間を短くして露光エネルギーを低減させる。 - 特許庁

Next, when it is determined that the bracketing has been set, a stop and an exposure time for proper exposure are set, and an image under the exposure condition is displayed on the display device 16 for a specified period of time.例文帳に追加

ついでブラケッティングが設定されていると判断した場合、適正露出となる絞り，露光時間を設定し、所定時間、その露出条件の画像を表示装置１６に表示する。 - 特許庁

To provide an exposure system, in which time management for implementing accuracy checking of an exposure device is facilitated, the time required for implementing the accuracy check can be shortened and further, process accuracy of the exposure device can be managed accurately.例文帳に追加

露光装置の精度チェック実施の時間管理が容易であり、また精度チェックの実施に要する時間が短くでき、さらに、露光装置の正確なプロセス精度の管理が行える露光システムを提供する。 - 特許庁

On the basis of the set exposure time and other photographing conditions, images for one frame are photographed by performing exposure and photographing processing (S115).例文帳に追加

設定された露出時間、及びその他の撮影条件に基づいて、露出及び撮影処理を行って１フレーム分の画像を撮影する（Ｓ１１５）。 - 特許庁

To shorten the time required for reducing hydrophobicity after liquid immersion exposure while the hydrophobicity of a film surface in liquid immersion exposure is increased.例文帳に追加

液浸露光時において被膜表面の疎水性を高くしつつ、液浸露光後における疎水性の低下に要する時間の短縮を図ること。 - 特許庁

In addition, a timing of input stop of an electronic shutter pulse for achieving the exposure time using the frame period is set to perform the still-image exposure.例文帳に追加

また、そのフレーム期間を用いて露光時間を得るための電子シャッタパルスの入力停止のタイミングを設定して静止画露光を行う。 - 特許庁

An exposure correction part 70 emits a signal for adjusting an exposure time of an imaging device in the imaging part 30 based on the selected luminance component.例文帳に追加

露出補正部７０は、選択された輝度成分を基準として、撮像部３０内の撮像素子における露光時間を調整する信号を発する。 - 特許庁

To reduce the whole time required for an exposure process of a workpiece and to prevent decrease in the throughput in a double-sided exposure apparatus having a mask library.例文帳に追加

マスクライブラリを備える両面露光装置において、ワークの露光処理に要する全体の時間を短くし、スループットの低下を防ぐこと。 - 特許庁

To provide a polarizing exposure apparatus that reduces cost and tact time required for rubbing by exposure.例文帳に追加

ラビング工程を露光によって行う際のコスト低減とタクトタイムの短縮化とを図ることができる偏光露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of exposure and an exposure apparatus with which the productivity can be improved by reducing the time required for calibration of projection lens systems.例文帳に追加

投影光学系のキャリブレーションに関する時間を短縮し、生産性を向上できる露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

Each selective exposure is executed for a period which does not exceed 50% of a row time, and the lengths of at least two exposure periods have a nonbinary relation.例文帳に追加

各選択的露光は、行時間の５０％を超えない期間行い、少なくとも２つの露光期間の長さは非２進関係を有する。 - 特許庁

The electronic flash light emission is performed in response to the fully depressing operation of the shutter button, and the exposure for a subject is started when the exposure start time elapses.例文帳に追加

シャッタボタンの全押し操作に応答してストロボ発光が行われ、露光開始時間が経過したときに被写体の露光を開始する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus in which a transportation time for transporting a mask or a wafer to the exposure apparatus is shortened.例文帳に追加

マスク及びウェハを露光装置に搬送する際の搬送時間を短縮した露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus for reliably making constant a time from the completion of exposure treatment to the start of heat treatment after exposure.例文帳に追加

露光処理完了から露光後加熱処理開始までの時間を確実に一定にすることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure time control function for an address control type imaging apparatus capable of suppressing or eliminating motion distortion caused by line exposure.例文帳に追加

アドレス制御型の撮像装置において、ライン露光に起因した動き歪みを抑制・解消できる露光時間制御機能を実現する。 - 特許庁

To provide a device and a method for exposure which shorten the time of conveyance of a wafer to an exposure device.例文帳に追加

ウェハを露光装置に搬送する際の搬送時間を短縮した露光装置及び方法を提供する。 - 特許庁

An electronic camera executing an exposure control operation by the exposure control program used exclusively for a consecutive photographing at the time of performing a consecutive photographing is disclosed.例文帳に追加

連写動作時に、連写専用の露出制御プログラムによる露出制御動作を実行する電子カメラが開示されている。 - 特許庁

An exposure time of each color component is inversely proportional to a relative intensity for other color components in a pre-exposure frame.例文帳に追加

各色成分の露光時間は、前露光フレームにおける他の色成分に対する相対強度に反比例する。 - 特許庁

To decide whether appropriate exposure is obtained for exposure time calculated by arithmetic operation inexpensively with small space.例文帳に追加

演算により算出された露出時間にて適正露出が得られるかを少スペース、低コストで判定可能にする。 - 特許庁

To provide an exposure device that has a shutter unit for minimizing the minimum exposure amount and shortens the cycle time.例文帳に追加

最小露光量を極めて小さくできるシャッターユニットを備え、タクトタイムの短縮を図ることができる露光装置を提供することにある。 - 特許庁

However, in the case of repeated exposure data for more than 90 days, only the exposure time per day is corrected, and correction by the number of days is not performed.例文帳に追加

ただし、90 日を超える反復曝露データでは１日当りの曝露時間についてのみ補正を行い、日数による補正は実施しない。 - 経済産業省

To provide an imaging apparatus for a microscope having an interlace scan system imaging device, which can perform an exposure over the range from a short-time exposure to a long-time exposure inexpebsively without increasing the number of component parts.例文帳に追加

インターレーススキャン方式の撮像素子を有する顕微鏡用撮像装置であって構成部品を増やすことなく安価に短時間露光から長時間露光を行うことのできる装置を提供する。 - 特許庁

When executing exposure by an exposure station and measurement by a measurement station in parallel with each other, reference mark measurement by the measurement station is executed again in the case where a time required for the exposure is longer than the time of the measurement.例文帳に追加

露光ステーションによる露光と、計測ステーションによる計測を並行して実行する際、露光に要する時間が計測の時間よりも長い場合、計測ステーションによる基準マーク計測を再度行う。 - 特許庁

Then, if judging that bracketing is set, the CPU 21 sets a diaphragm and an exposure time to obtain a proper exposure, and displays the image of this exposure condition on a display device 16 for a predetermined time.例文帳に追加

ついでブラケッティングが設定されていると判断した場合、適正露出となる絞り，露光時間を設定し、所定時間、その露出条件の画像を表示装置１６に表示する。 - 特許庁

Preliminary irradiation-exposure time (t2-t1) or (t5-t1) necessary for an exposure to preliminary irradiation is calculated with a thickness of the breast as a parameter, and the preliminary irradiation is performed in accordance with the calculated preliminary irradiation-exposure time (t2-t1) or (t5-t1).例文帳に追加

乳房の厚みをパラメータとして、プレ曝射に必要なプレ曝射時間（ｔ２−ｔ１）又は（ｔ５−ｔ１）を算出し、算出したプレ曝射時間（ｔ２−ｔ１）又は（ｔ５−ｔ１）に従ってプレ曝射を行う。 - 特許庁

To improve a work efficiency by shortening a period of time for detecting and controlling the light quantity of light exiting from each exposure head in an exposure method carried out by relatively moving a plurality of exposure heads in a predetermined scanning direction with respect to an exposure face, each exposure head imaging the incident light onto the exposure face through an optical system for exposure.例文帳に追加

入射された光を光学系によってそれぞれ露光面に結像して露光を行う複数の露光ヘッドを、露光面に対して相対的に所定の走査方向に移動させて露光を行う露光方法において、上記各露光ヘッドから射出される射出光の光量の検出および調整時間を短縮して作業効率の向上を図る。 - 特許庁

To provide an exposure device and an exposure method by which exposure of a substrate for transferring an image and conveyance of the substrate onto and from a substrate stage are simultaneously carried out to reduce a cycle time, and influences of vibration caused upon conveying the substrate in and out of the stage on the exposure accuracy are eliminated to perform high accuracy exposure and transfer.例文帳に追加

基板の露光転写と基板ステージへの基板の搬入及び搬出とを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ると共に、基板の搬入出時に発生する振動が露光精度に及ぼす影響を排除して、高精度で露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

In a generation method and an apparatus for high time resolution video image, a high frame rate video image is produced from a low frame rate video image by applying high time resolution for disassembling frames as if it divides the exposure time of a low time resolution video image in one unit of consecutive exposure.例文帳に追加

１つの連続露光の低時間分解能映像から、露光時間を分割するようにフレームを分解する高時間分解能化により、低フレームレート映像から高フレームレート映像を生成する。 - 特許庁

At this time, the printer arranges the n-th exposure place from the 1st exposure place expressing the 1-pixel tone in the place where the total sum of the difference of optical density obtained by adjoining exposure patterns for each of these exposure patterns gets minimum when performing an exposure by the 2nd^n exposure pattern from the 1st exposure pattern obtaining the different optical density.例文帳に追加

このとき、印刷装置は、異なる光学濃度を得る第１の露光パターンから第２^ｎの露光パターンによる露光を行う際に、これら露光パターンのそれぞれについて隣接する露光パターンによって得られる光学濃度の差の合計が最小となる場所に、１画素の階調を表現する第１の露光場所から第ｎの露光場所を配置する。 - 特許庁

It also occurs through exposure for a long time period to a light beam other than sunshine such as fluorescent lamp for indoor use. 例文帳に追加

室内蛍光灯など、日光以外の光線に長時間さらされていても発生する。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide an advantageous technique for shortening the time of temperature control needed for an exposure apparatus.例文帳に追加

露光装置において必要な温度調整の時間を短縮するために有利な技術を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus advantageous for shortening the time needed for focus detection.例文帳に追加

フォーカス検出に要する時間の短縮に有利な露光装置を提供する。 - 特許庁