「time for exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

For example, the search range changing part 11 narrows the search range of the motion vector as the exposure time of the imaging element 3 is longer.例文帳に追加

例えば、探索範囲変更部１１は、撮像素子３の露光時間が長いほど、動きベクトルの探索範囲を狭くする。 - 特許庁

To provide a method and a device for producing an offset printing plate with much higher quality within much less exposure time.例文帳に追加

より少ない露光時間でより良質なオフセット印刷版を作る方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern by which a pattern having different film thickness can be formed by one time of exposure and development.例文帳に追加

１回の露光および現像により、膜厚の異なるパターンを形成することが可能な、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, a charge accumulation time can be controlled for each of lines constituting one frame and exposure times can be controlled at each frame.例文帳に追加

これにより、各フレームを構成する行ごとに電荷蓄積時間を制御でき、各フレームごとに露光時間を制御できる。 - 特許庁

To provide an electronic flash device capable of flashing electronic flash light in quantity necessary for exposure in a short period of time.例文帳に追加

露光に必要な光量のストロボ光を短時間で発光させることができるストロボ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an aqueous resin emulsion where the resin is hardly deteriorated even under exposure to natural light over a ling period of time.例文帳に追加

長期間にわたる自然光の暴露を受けても樹脂が劣化し難い水性樹脂エマルションの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a projection exposure apparatus having a shade apparatus, wherein time required for the detachment and reattachment of a shade, following the replacement of a circuit board is short.例文帳に追加

基板の交換に伴う遮光体の取り外しと再設置の所要時間が短い遮光体装置を有する投影露光装置を提供する。 - 特許庁

Histograms showing the distributions of values of respective image data are generated for each exposure time, and an optimum effective value about each histogram is calculated.例文帳に追加

露光時間毎に、各画像データの値の分布を示すヒストグラムを生成し、各ヒストグラムについて最大有効値を求める。 - 特許庁

To easily detect the location of a shot joint in a display area in divided exposure and to shorten time required for inspecting a joint of patterns.例文帳に追加

分割露光における表示領域でのショットの継ぎ目の位置を発見しやすく、パターンの継ぎ目検査に要する時間の低減を図ること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has good transmitting property for exposure light, which can form a pattern in a short time and which has good light resistance.例文帳に追加

露光光に対する良好な透過性を備えて短時間で形成し得ると共に、良好な耐光性を備えた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method and program that can shorten the time required for determining an exposure condition.例文帳に追加

露光条件の決定までに要する時間を短縮することができる方法およびプログラムを提供する。 - 特許庁

To obtain a photomask for manufacturing a printed wiring board less liable to a dimensional change even when subjected to repetitive exposure over a long time.例文帳に追加

長時間繰り返し露光を行っても寸法変化の少ないプリント配線板作製用のフォトマスクを得る。 - 特許庁

AF control is implemented and focus is set on the subject, and AE control is implemented, to determine the imaging conditions (stop value, exposure time) for regular imaging.例文帳に追加

ＡＦ制御を実施して、被写体にピントを合せるとともに、ＡＥ制御を実施して、本撮像時の撮像条件（絞り値、露光時間）を決定する。 - 特許庁

To provide technology for easily measuring a delay time occurring in a start and a stop of an X-ray exposure at low cost without providing a special configuration.例文帳に追加

特別な構成を設けることなくＸ線曝射の開始及び停止において生じる遅延時間を簡易で安価に測定する技術を提供する。 - 特許庁

To produce a mask pattern satisfying the reference value of process margin in an exposure step for manufacturing a semiconductor device in a short period of time.例文帳に追加

半導体装置製造の光露光工程におけるプロセス余裕度が基準値を満たすマスクパターンを短時間に作製する。 - 特許庁

Leakage around the edge of the diode which may be caused by radiation exposure for a long time is reduced by the gate layer.例文帳に追加

長時間にわたる放射線被曝によって生じ得るダイオードのエッジの周りの漏れが、ゲート層によって低減される。 - 特許庁

The method for measuring the inside of the oral cavity includes a light projecting process, an imaging process, an exposure time control process, an image composition process, and a three-dimensional arithmetic process.例文帳に追加

口腔内測定方法は、投光工程と、撮像工程と、露光時間制御工程と、画像合成工程と、三次元演算工程とを備えている。 - 特許庁

To shorten a release time lag, as for a camera with a shake reducing function allowing the exposure when a shake is small.例文帳に追加

ブレが小さいときに露光許可を行うブレ軽減機能付きカメラにおいて、発生するレリーズタイムラグが短くなるようにすること。 - 特許庁

To provide an exposure method by which the best focus of an isolated line pattern can be measured for a short time, and to provide a correcting method of lens aberration.例文帳に追加

短時間に、孤立線パターンのベスト・フォーカスを測定することができる露光方法およびレンズ収差補正方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a glass for slit exposure from being broken by a gap holding member at the time of closing an automatic document feeder.例文帳に追加

自動原稿搬送装置を閉鎖しときに間隙保持部材によってスリット露光用ガラスが破損することを防止した画像読取装置。 - 特許庁

Then the mechanical shutter is operated with same exposure time Y3 and aperture value α for the purpose of photographing the emitter.例文帳に追加

次に、同じ露光時間Ｙ３、絞り値αで、メカシャッタを動作させて、一定の明るさを放つ発光体を撮像する。 - 特許庁

An exposure position on an image recording medium 10 moves by 0.1 mm in the Y direction at each time and moves by 20 mm in the Y direction, after finishing moving for 200 times.例文帳に追加

画像記録媒体１０上の露光部位は１回毎に０．１mmＹ方向へ移動し、２００回終了後には、２０mmＹ方向へ移動している。 - 特許庁

To accurately decide an exposure value to be used for autofocus processing using AF auxiliary light concurrently in a short period of time.例文帳に追加

ＡＦ補助光を併用したオートフォーカス処理に使用する露出値を短時間で精度良く決定する。 - 特許庁

To produce an exposure device of high quality for a short time.例文帳に追加

本発明は、短時間に高品質の露光装置を製造可能な製造装置及び製造方法を提供することを例示的目的とする。 - 特許庁

To shorten a time necessary to decide an exposure value in a camera for contrast light compensated meter by using a multipoint auto-focusing image sensor.例文帳に追加

多点測距用のイメージセンサーを用いて分割測光を行うカメラにおいて、露出値決定までの時間を短縮する。 - 特許庁

To measure the optical characteristics of an optical system for test, such as a projection optical system with sufficient accuracy, without generating around dust at the time of exposure processing.例文帳に追加

露光処理時に発塵を起こすことなく投影光学系等の被検光学系の光学特性を精度よく計測する。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a semiconductor device, which is capable of forming fine patterns through a one-time exposure process.例文帳に追加

１回の露光工程により微細パターンを形成する半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus which has an optical element making synthetic crystal as a glass-forming material, and can reduce the deterioration of optical performance for a long time.例文帳に追加

人工水晶を硝材とする光学素子を有し、長時間に亘り光学性能の劣化を低減することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for feeding and ejecting a substrate in an exposure apparatus to feed and eject a substrate, in a short time.例文帳に追加

短時間で基板を給排することができる露光装置における基板の給排方法を提供する。 - 特許庁

At this time, the exposure timing of X-rays from the X-ray tube is set so that the intervals of irradiation positions for irradiating a subject with X-rays are constant.例文帳に追加

この際、被写体にＸ線を照射する照射位置の間隔が一定となるように、Ｘ線管からのＸ線の曝射タイミングを設定する。 - 特許庁

To provide an anticlouding optical component which needs no exposure to ultraviolet light, can retain an excellent anticlouding performance for a long time, and is excellent in durability.例文帳に追加

紫外線曝露を必要とせず、優れた防曇性能が長期間持続し、耐久性にも優れた防曇性光学部材を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem of a conventional image signal processing apparatus for processing an image signal generated from an imaging element, wherein an extended exposure time results in increase in noise.例文帳に追加

撮像素子により生成された画像信号を処理する画像信号処理装置において、露光時間が長くなるとノイズが増える。 - 特許庁

To prevent the invasion of foreign matter by reducing the external exposure time for an upper surface of a circuit board when assembling an image sensor module.例文帳に追加

イメージセンサーモジュールの組立につき、回路基板の表面外部露出時間を短縮させて異物質侵入の未然防止を図る。 - 特許庁

To provide a method for forming a color pattern which can reduce the exposure time, which is easy with excellent productivity, and which gives excellent pattern accuracy.例文帳に追加

露光時間を短縮することができて簡便で生産性に優れ、しかもパターン精度に優れた着色パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide equipment for film conveyance constituted in such a manner that films can be exactly positioned by exposure time and can be manufactured at a low cost.例文帳に追加

フィルムを露光時により正確に位置決めすることができると共に低コストで製造できるようにしたフィルム搬送用装置を提供する。 - 特許庁

To easily detect an alignment mark for exposure by a stepper and at the same time reduce contact resistance.例文帳に追加

ステッパーによる露光用アライメントマークの検出を容易にすると同時に、コンタクト抵抗の低抵抗化を可能にする。 - 特許庁

To set appropriate exposure time for an area of interest even when a luminance value of an object to be observed changes.例文帳に追加

本発明では、観察対象の輝度値が変化した場合でも、注目領域に対して適正な露光時間を設定することを目的とする。 - 特許庁

Two projection lenses are provided on the same surface plate to independently perform two exposures, that is, a cyclic pattern exposure referring to dual-beam flux interference exposure and an ordinary pattern exposure, excluding the cyclic pattern exposure, a mask for each of exposures is provided respectively, and then the respective exposures are performed by a unit of wafer and the wafer is exchanged within a short time.例文帳に追加

同一定盤上に、二光束干渉露光に代表される周期パターン露光と周期パターン露光を含まない通常パターン露光の２つの露光を独立可能とする投影レンズを２本設け、さらに、各露光用のマスクを各々設けて、各露光をウエハ単位で露光処理し、短時間にウエハ交換する。 - 特許庁

The electronic camera corrects the sensitivity of an image pickup element, when the hand shaking value detected by the sensor 90 lies outside an allowable range, and a system controller 3 calculating an exposure value on the basis of the sensitivity and the luminance value of a subject, decides a diaphragm value and exposure time for executing proper exposure control from the calculated exposure value.例文帳に追加

この電子カメラは、手振れセンサ９０により検出された手振れ値が許容範囲外の場合には、撮像素子の感度を補正し、当該感度と被写体の輝度値とに基づいて露出値を算出するシステムコントローラ３を備えているシステムコントローラ３は、算出した露出値から適正な露光制御を実行するための絞り値と露出時間とを決定する。 - 特許庁

To provide a method and system for exposure by which the throughput of an exposure system group is improved by shortening the waiting time of each exposure system by making the substrate to be exposed of a semiconductor device, etc., which is constituted of a plurality of layers of circuit patterns and requires strict superimposing accuracy exposable by performing little preceding exposing work by using a plurality of different exposure systems.例文帳に追加

複数層の回路パターンから構成され、厳しい重ね合わせ精度が要求される半導体装置等の対象露光基板に対して先行露光作業を殆どすることなく複数の異なる露光装置を用いて露光処理を可能にして各露光装置における待ち時間を低減して露光装置群においてスループットの向上を図るようにした露光方法およびそのシステムを提供することにある。 - 特許庁

Before a minimum exposure time for forming a reproducible hologram is reached, interference exposure using signal line and reference light is completed to form an incomplete hologram and independent exposure wherein the incomplete hologram is irradiated with the reference light is performed after the interference exposure to generate diffracted light, thereby recording information through interference between the reference light and the diffracted light.例文帳に追加

再生可能なホログラムを形成するための最小露光時間に達する前に、信号光及び参照光による干渉露光を完了して、未完ホログラムを形成し、干渉露光後に参照光を未完ホログラムに照射する単独露光を行うことによって回折光を発生させ、参照光及びその回折光の干渉により情報を記録するようにした。 - 特許庁

During a third exposure time, the second substrate set is patterned by the first reticle and the second substrate set is exchanged for a third substrate set; then during the third exposure time, the third substrate set is patterned by the first reticle and the first reticle is exchanged for the second reticle.例文帳に追加

第３露光期間中、第２の基板セットを第１のレチクルによりパターニングし、第２の基板セットを第３の基板セットと交換し、第３露光期間中、第３の基板セットを第１のレチクルによりパターニングし、第１のレチクルを第２のレチクルと交換する。 - 特許庁

The imaging apparatus sets, in the computation and exposure control, a first time constant indicating response characteristic of the amount of correction for changes in the photometric values in the face area larger than a second time constant indicating response characteristic of the exposure control result for changes of the photometric values in the complete area of the image.例文帳に追加

撮像装置は、この算出と露出制御において、顔領域の測光値の変化に対する補正量の応答性を示す第１の時定数を、画像の全領域の測光値の変化に対する露出制御結果の応答性を示す第２の時定数よりも大きくする。 - 特許庁

First image data are obtained by exposing an imaging device for a first exposure time (T1) while opening an optical path opening/closing means, and second image data are obtained by exposing the imaging device for a second exposure time (Ta) while closing the optical path opening/closing means.例文帳に追加

光路開閉手段を開いた状態で撮像素子を第１の露光時間（Ｔ１）露光させることにより第１の画像データを得るとともに光路開閉手段を閉じた状態で撮像素子を第２の露光時間（Ｔａ）露光させることにより第２の画像データを得る。 - 特許庁

During a second exposure time, the first substrate set is patterned by the second reticle, and the first substrate set is patterned by the second reticle and the first substrate set is exchanged for a second substrate set; then during the second exposure time, the second substrate set is patterned by the second reticle and the second reticle is exchanged for the first reticle.例文帳に追加

第２露光期間中、第２のレチクルにより第１の基板セットをパターニングし第１の基板セットを第２の基板セットと交換し、第２露光期間中、第２の基板セットを第２のレチクルによりパターニングし第２のレチクルを第１のレチクルと交換する。 - 特許庁