「time for exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

In this regional medical information cooperation center 20 for managing the information in a regional medical network, an exposure managing part 21 calculates a cumulative exposure dose from the patient's past exposure history when the patient receives a medical examination in a medical institution 13_1 this time, and provides the information of the cumulative exposure dose to medical institutions 13_2 and 13_3.例文帳に追加

地域医療ネットワーク内に於いて、情報の管理を行う地域医療情報連携センタ２０であって、被曝管理部２１に於いて、患者の過去の被曝履歴から、今回医療機関１３_1 で受診した場合の積算被曝量が計算され、医療機関１３_2 ，１３_3 にその情報が提供される。 - 特許庁

To make compensatable the adverse effect of a dimensional difference occurring, when backward scattering electrons generated at the time of electron beam exposure cover light exposure pattern in the vicinity of an EB exposure area, by light exposure pattern formed on a photomask, and to eliminate a need of complicated calculation for plotting the photomask.例文帳に追加

電子ビーム露光時に発生する後方散乱電子が、ＥＢ露光領域に近接する光露光パターンに振りかぶることで生じる寸法差の影響を、フォトマスクに形成する光露光用パターンで補正することができ、且つフォトマスクの描画に際して複雑な計算を必要としない。 - 特許庁

Density adjustment data is stored, and at least one of the current, the voltage and the exposure time of an exposure control signal is corrected so that a relation between the light exposure of the light source controlled by the exposure control signal for controlling lighting an LPH becomes linear.例文帳に追加

濃度調整データを記憶しＬＰＨの点灯制御を行う露光制御信号によって制御される光源の露光量と露光時間との関係がリニアになるように、前記露光制御信号の電流、電圧、及び露光時間の少なくとも１つを補正する。 - 特許庁

In the consecutive photographing mode, the diaphragm control means is configured such that a diaphragm state for the exposure of the photographic image GA1 continues to the exposure of the photographic image GA2 without driving the diaphragm during the period (time T14 to T25, etc) from the exposure of the photographic image GA1 to the exposure of the photographic image GA2.例文帳に追加

絞り制御手段は、連写モードにおいて、撮影画像ＧＡ１の露光時から撮影画像ＧＡ２の露光時までの期間中（時刻Ｔ１４〜Ｔ２５等）に絞りを駆動することなく、撮影画像ＧＡ１の露光時における絞り状態を撮影画像ＧＡ２の露光時まで継続する。 - 特許庁

The method includes predicting the time needed for the lithographic exposure apparatus to become ready to receive a substrate that has been prepared by the track unit for exposure, and adjusting the speed with which the track unit prepares the substrate so that the substrate becomes ready for the lithographic exposure apparatus to receive in time.例文帳に追加

方法は、リソグラフィ露光装置が、露光のためにトラック装置から準備済みの基板を受け入れるのに使用可能になる時間を予測することと、リソグラフィ露光装置が受け入れるために、基板の準備が間に合うよう、トラック装置が基板を準備する速度を調節することとを含む。 - 特許庁

In this case, the deciding method for starting the exposure operation by the part 02 before a lapse of prescribed time after starting the operation of each part is made differ from that after the lapse of the time by a part 04 for changing the deciding method for starting the exposure.例文帳に追加

この際、これら各部の動作をスタートしてから所定時間が経過するまでと、経過した以降とで、露光開始判定方法変更部０４が、上記露光開始判定部０２での露光動作開始判定方法を異ならせる。 - 特許庁

For all pixels of rows Rw1-Rw5, photodiodes are reset all at once at a time point ts for starting exposure, and the accumulated electric charges of the photodiodes are transferred all at once to FD at a time point te for finishing exposure (Fig. (a)).例文帳に追加

行Ｒｗ１〜行Ｒｗ５の全画素について、時点ｔｓでフォトダイオードを一斉にリセットして露光開始し、時点ｔｅでフォトダイオードの蓄積電荷をＦＤへ一斉に移送して露光終了する（図(a) ）。 - 特許庁

In the stepwise movement of the substrate stage, the stand-by time from the time when the position change from the target position where the substrate stage should stop is in a predetermined tolerance, until the time when exposure of the mask pattern image onto each exposure region of the photosensitive substrate is started is controlled depending on the time for exposure onto each exposure region on the photosensitive substrate.例文帳に追加

基板ステージのステッピング移動において基板ステージの停止すべき目標位置からの位置変動が所定の許容範囲内に収まった時点から感光性基板上の各露光領域へのマスクのパターンの像の露光を開始する時点までの待機時間を感光性基板上の各露光領域への露光時間に基づいて制御する。 - 特許庁

Writing start signal for color K is output from a control section to a laser exposure machine, after delaying only for time tk, from the time when the page synchronization signal is output.例文帳に追加

Ｋ色書き出し信号は、ページ同期信号が出力された時点から時間ｔｋだけ遅延して制御部からレーザ露光器に出力される。 - 特許庁

Thus, waiting time for charging the main capacitor is eliminated, and the electronic flash light in quantity necessary for the exposure is flashed in a short period of time.例文帳に追加

これにより、メインコンデンサの充電の待ち時間がなくなり、短時間で露光に必要な光量のストロボ光を発光させることができる。 - 特許庁

When a release button is pressed fully, control takes place so as to enable a charge storage for an exposure time determined according to an object luminance and to minimize the period, so that a long frame period or short frame period is selected in accordance with a total exposure time minimally necessary for operation of still-image exposure.例文帳に追加

レリーズボタンが全押しされると、被写体輝度に応じて決定される露光時間での電荷蓄積が可能、かつ最も期間が短くなるようにして、静止画露光の動作に最低必要な全露光時間に応じて長フレーム期間または短フレーム期間を選択する。 - 特許庁

An immersion exposure device is provided with a means for operating an exposure device so as to have the immersion liquid on all target parts of a substrate during a time of substantially the same length or for controlling the exposure quantity to a specific target part based on the length of the time having the immersion liquid on it.例文帳に追加

液浸露光装置において、実質的に同じ長さの時間の間、基板のすべての目標部分がその上に浸漬液を有するように露光装置を動作させること、あるいは特定の目標部分への露光量を、その上に浸漬液を有している時間の長さに基づいて制御する手段を備える。 - 特許庁

Furthermore, the control part 101 executes setting for changing the exposure time of a camera imaging part 15 to second exposure time when the instruction for illuminating the object is set by the key operation part 104.例文帳に追加

さらに、制御部１０１は、キー操作部１０４よって被写体を照明する指示が設定された際に、カメラ撮像部１５の露光時間を第２の露出時間へ変更する設定を実行する。 - 特許庁

The correction factor determined for each shutter part is multiplied by the exposure time of the corresponding pixel contained in the (N+1)-th image frame, thereby correcting the exposure time for each pixel of the (N+1)-th image frame.例文帳に追加

シャッタ部毎に決定された補正係数を、Ｎ＋１番目の画像コマに含まれる対応の画素の露光時間に乗算して、Ｎ＋１番目の画像コマの各画素の露光時間を補正する。 - 特許庁

With respect to a read row that acquires a signal for excluding an influence of deviation for each row in an exposure time caused by signal reading in the order of rows after the lapse of the exposure time, a thinning reset row to be paired therewith is set.例文帳に追加

露光時間経過後の行順の信号読出しにより生じる露光時間の行ごとのズレの影響を排除するための信号を取得する読出し行に対して対となる間引きリセット行を設定する。 - 特許庁

The photography apparatus comprises a means for detecting vibration being applied to the apparatus body, and a control means for altering the exposure time and the number of exposure sheets of each image at the time of photography.例文帳に追加

装置本体に加わる振動を検出する振動検出手段を有し、前記振動検出手段の検出結果に応じて、撮影時の各画像の露光時間と露光枚数を変更する制御手段を有する。 - 特許庁

The solid-state imaging device includes: a pixel section 22 in which a plurality of cells 12 are two-dimensionally arranged on a semiconductor substrate; and an exposure time control means 32 for controlling the exposure time for performing photoelectric conversion in photodiodes PD.例文帳に追加

固体撮像装置は、セル１２が半導体基板上に二次元的に配置された画素部２２と、フォトダイオードＰＤで光電変換する露光時間を制御する露光時間制御手段３２とを具備する。 - 特許庁

As the control signal, for example, exposure control signals composed of the same pattern are output successively in time series to the plural pixels within a pixel group to realize pixel-by-pixel exposure control in which exposure time on plural pixels belonging to one pixel group is equal.例文帳に追加

制御信号として、例えば画素グループ内の複数画素に対して同一パターンからなる露光制御信号を時系列に順次、出力し、１つの画素グループに属する複数画素の露光時間を同一としたグループ単位の露光制御を実現する。 - 特許庁

To avoid excess exposure of a subject (a patient) while shortening time required for imaging to shorten a medical treatment time.例文帳に追加

撮像に要する手間を短縮して医療時間を短縮できるようにするとともに被検体（患者）に対する余分な被曝を回避する。 - 特許庁

An exposure time is imparted on an image pickup device through an image pickup optical system before photographing, and the exit pupil position required for the photographing is measured during this time.例文帳に追加

撮影前に撮像光学系を通して撮像素子上に露光する時間を設け、その間に本撮影に必要な射出瞳位置を測定する。 - 特許庁

The inspection work 1 is continuously imaged for a specified time period by extending exposure time at imaging to intentionally cause blur in the imaging data.例文帳に追加

さらには，撮像時の露光時間を長くし，意図的に撮像データにぶれを生じさせるように，当該検査ワーク１を所定時間連続して撮像する。 - 特許庁

Further, the patterns of pit signals for turning the exposure beam on/off are changed at an outer peripheral deflection time and at an inner peripheral deflection time.例文帳に追加

また、露光光をオンオフさせるためのピット信号のパターンを外周偏向時と内周偏向時で異ならせる。 - 特許庁

Quantity of exposure for 1 dot is controlled through combination of the light transmitting time of a pixel at each driving time.例文帳に追加

各駆動時のピクセルの光透過時間の組み合わせによって１個のドット（画素）の露光量を制御する。 - 特許庁

Thus, the exposure and white balance of a video signal at the time of releasing the stand-by operation mode are stabilized to unnecessitate much time for restart.例文帳に追加

こうして、スタンバイ動作モード解除時におけるビデオ信号の露光量および白バランスを安定させて、再起動に時間を要しないようにする。 - 特許庁

Next, an exposure time for obtaining the white balance is obtained and also the shading correction coefficient of each pixel is obtained from the exposure time and the full range of an A/D converter 7.例文帳に追加

次に、前記ホワイトバランスを得るための露光時間を求め、前記露光時間とＡ／Ｄ変換器７のフルレンジから、各画素毎のシェーデング補正係数を求める。 - 特許庁

In the pattern exposure process, the time when the electron beam 83 passes on the exposure position reference mark 21 is detected with the electron detector and the timing for irradiating the electron beam 83 is controlled with reference to the passing time.例文帳に追加

パターン露光を行う工程において、露光位置参照マーク21上を電子ビーム83が通過する時刻を電子検出器により検出し、通過時刻を基準として電子ビーム83を照射するタイミングを制御する。 - 特許庁

The resulting real-time adjusted gain calibration image is divided to amplifier offset adjusted exposure signals in units of pixels, thereby generating an exposure signal with the offset and gain compensated for in real time.例文帳に追加

この結果得られるリアルタイム調整済みゲイン較正画像を、ピクセル単位の増幅器オフセット調整済み露出信号に分割して、オフセット及びゲインをリアルタイムで補償した露出信号を生成する。 - 特許庁

A operational loss time calculating section 3 calculates operational loss time caused by a combination of the exposure device and the reticle for each combination of the reticle and the exposure device using information corrected by the data collecting section 2.例文帳に追加

ロス時間算出部３は、データ収集部２が収集した各情報を用いて、レチクルと露光装置との組み合わせごとに、露光装置とレチクルとの組み合わせに起因する稼動ロス時間を算出する。 - 特許庁

A priority level determining section 4 determines a priority level of the combination of the reticle and the exposure device based on the operational loss time calculated by the operational loss time calculating section 3 for each combination of the reticle and the exposure device.例文帳に追加

優先順位決定部４は、ロス時間算出部３が算出した、レチクルと露光装置との組み合わせごとの稼動ロス時間に基づいて、レチクルと露光装置との組み合わせの優先順位を決定する。 - 特許庁

Then, frame image data B imaged in the long exposure time are displayed, recorded, and frame image data A imaged in the short exposure time is used for the image evaluation, namely, face detection processing and calculation of an AF evaluation value.例文帳に追加

そして、長い露光時間で撮像されたフレーム画像データＢを表示させて記録していき、短い露光時間で撮像されたフレーム画像データＡを画像評価、つまり、顔検出処理やＡＦ評価値の算出に用いる。 - 特許庁

The illumination control unit also includes a signal supply means for supplying the first rectangular wave signal to the illuminating means when the exposure period is shorter than a fixed length of time whereas it supplies the second rectangular wave signal to the illuminating means when the exposure period is longer than the fixed length of time.例文帳に追加

露光時間が一定時間より短い場合には第１矩形波信号を、露光時間が一定時間以上長い場合には第２矩形波信号を、照明手段に供給する信号供給手段を備える。 - 特許庁

Concerning a CCD 303, exposure is controlled by a timing generator(TG) 308 corresponding to an exposure control time Tv' [Ev] as the integer multiple of a scanning time tr0 (sec) for one horizontal line in a video image.例文帳に追加

ＣＣＤ３０３はＴ．Ｇ３０８によりビデオ画像における水平１ラインの走査時間ｔro（秒）を整数倍してなる露光制御時間Ｔｖ′〔Ev〕で露光が制御される。 - 特許庁

By adding m continuous unit images 21 (m is 1 to n), an image 22 for synthesization can be obtained of which an exposure time is m-times as long as the unit exposure time and an imaging term is a total imaging term of the added unit images 21.例文帳に追加

連続する単位画像２１のｍ枚（ｍ＝１〜ｎ）を加算することによって、露光時間が単位露光時間ｔのｍ倍で、撮像期間が、加算した単位画像２１の撮像期間の合計となる合成用画像２２が得られる。 - 特許庁

For example, when the change in a specific image area is above the threshold, the image processing engine 103 generates a high-dynamic range composite frame by combining a complementary frame having long exposure time and a frame having short exposure time.例文帳に追加

例えば、特定の画像領域の変化が閾値を超えている場合に、露光時間の長い補完フレームと露光時間の短いフレームとを合成し、ハイダイナミックレンジ合成フレームを生成する。 - 特許庁

Therefore, the illumination of the substrate surface, that is, the first to third exposures are appropriately set by the main control unit 50 so that the exposure time for each process or the entire exposure time is appropriately set.例文帳に追加

従って、主制御装置５０により基板面の照度、すなわち第１〜第３の露光量が適宜設定され、個々の工程の露光時間、又は全体の露光時間が適宜設定される。 - 特許庁

When it is determined that the measured time of the exposure waiting timer is within the upper limit value of the exposure waiting time (S29, YES), the processing is advanced to a step S30, and a message for urging the correction of the placing position or exposing position of the medium to the customer is displayed.例文帳に追加

かざし待ちタイマの計測時間が、かざし待ち時間の上限値以内と判定されたときには（Ｓ２９、ＹＥＳ）、ステップＳ３０に進み、顧客に媒体の置き位置又はかざし位置の修正を促すメッセージを表示する。 - 特許庁

When the AE calculation part 49 judges that the setting of the exposure time adaptive to the change is necessary, the exposure time adapted for the change of observation image is set.例文帳に追加

ＡＥ演算部４９は、変化に適応した露出時間の設定が必要であると判断すると、観察像の変化に適応した露出時間を設定する。 - 特許庁

By adding (m) (m=1 to n) of continuous unit images 21, an image 22 for composition with which the exposure time is an (m) multiple of the unit exposure time (t) and an image pickup period becomes a total of image pickup periods of the added unit images 21 is obtained.例文帳に追加

連続する単位画像２１のｍ枚（ｍ＝１〜ｎ）を加算することによって、露光時間が単位露光時間ｔのｍ倍で、撮像期間が、加算した単位画像２１の撮像期間の合計となる合成用画像２２が得られる。 - 特許庁

For an arbitrary point P0 on an image, a point P1 where an object of observation point-imaged at an exposure start time is imaged at an exposure end time is computed, and an image output on a line joining the points P0 to P1 on image data is added.例文帳に追加

画像の任意のある点Ｐ_0について、露出開始時刻に該点結像する観測対象が、露出終了時刻に結像する点Ｐ_lを求め、画像データ上で点Ｐ_0と点Ｐ__lを結ぶ線上の画像出力を加算する。 - 特許庁

In an imaging apparatus, the time less than light-emission time required for emitting light with a maximum light emission quantity that can be emitted by a light emission means is set as exposure time in strobe shooting, and exposure conditions in strobe shooting are set so that the exposure time in strobe shooting is not shorter than the light emission time required for emitting light with a light emission quantity calculated by a light emission quantity calculation means.例文帳に追加

発光手段で発光可能な最大発光量の発光を行うのに要する発光時間以下の時間をストロボ撮影時の露光時間として設定し、発光量算出手段により算出された発光量の発光を行うのに要する発光時間よりもストロボ撮影時の露光時間が短くならないようにストロボ撮影時の露出条件を設定する。 - 特許庁

To simplify the circuit constitution of a processing circuit by reducing the number of light quantity detectors while maintaining the accuracy of the detection of a light quantity constant in an exposure device provided with the light quantity detectors for detecting the light quantity before starting exposure so as to make the light quantity of an exposure beam uniform at the time of performing scanning exposure with the exposure beam generated by using an optical modulation element.例文帳に追加

光変調素子を用いて生成された露光ビームで走査露光を行う際に露光ビームの光量が均一となるように、露光開始前に光量を検出する光量検出器の設けられた露光装置において、光量の検出の精度を一定にしつつ光量検出器の数を減らし、処理回路の回路構成を簡略化する。 - 特許庁

In exposing, either of the processing to delay the timing of an exposure on with respect to the timing at which the top end of the pixel position to be recorded on the recording medium passes the exposure position and the processing to expedite the timing of an exposure off with respect to the timing at which the pixel position termination passes the exposure position is at least performed, by which the time for exposure is shortened.例文帳に追加

露光の際、記録媒体上の記録すべき画素位置先端を露光位置が通過するタイミングに対して露光オンのタイミングを遅らせる処理、および、記録媒体上の記録すべき画素位置終端を露光位置の通過するタイミングに対して露光オフのタイミングを早める処理の、少なくともいずれか一方を行ない、露光時間の短縮を行う。 - 特許庁

To provide a work chuck for attaining exposure of high precision and high throughput by preventing uneven coloring, or the like, in the exposure pattern of a color filter even if a work is enlarged at the time of multi-piece exposure of the color filter, for example, and to provide an aligner and a process for producing a flat panel.例文帳に追加

カラーフィルタの多面取り露光等ワークが大型化した状態においも、カラーフィルタの露光パターンにおける色むら等を防止して、高精度、高スループットの露光を達成するためのワークチャック、露光装置及びフラットパネル製造方法を提供する。 - 特許庁

In order to photograph a series of changes of the photographic subject, conditions such as a unit photographing time, the number of times of exposure within the unit photographing time and an exposure time are inputted to a control part 11 beforehand for every unit photographing time to control driving of an imaging device 7.例文帳に追加

撮影対象の一連の変化を撮影するために、撮影対象に応じてフレームのフレーム間隔、単位撮影時間および単位撮影時間内の露光回数、露光時間などの条件を単位撮影時間ごとに予め制御部１１に入力して撮像素子７の駆動を制御する。 - 特許庁

To provide an exposure method for a dummy chip which substantially shortens a processing time needed for exposing an unnecessary chip to light, and makes unnecessary the development of electron beam exposure data or a reticle for exposing the unnecessary chip to light.例文帳に追加

ダミーチップ露光方法に関し、不要チップへの露光に要する処理時間を大幅に短縮するとともに、不要チップ露光のための電子ビーム露光データ或いはレチクルの開発を不要にする。 - 特許庁