「time for exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To properly control an exposure time when using an electronic shutter and a mechanical shutter for composing low and high sensitivity images with different exposure times to create an image with a wide dynamic range.例文帳に追加

電子シャッタとメカシャッタを用いて露光時間の異なる低感度画像と高感度画像とを合成して広ダイナミックレンジ画像を生成する場合に、露光時間を適正に制御する。 - 特許庁

A horizontal axis expresses time, a vertical axis expresses an X-ray exposure amount, B1, B2 express fluorography, and B3 expresses the X-ray exposure for last image hold imaging.例文帳に追加

横軸に時間、縦軸にＸ線の曝射量、Ｂ１及びＢ２は透視撮影、Ｂ３はラストイメージホールド撮影のためのＸ線の曝射を表している。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for measuring a position capable of locating a mark formed on an article in a short time, an exposure method using the above method, an exposure apparatus and a measurement inspection apparatus including the above apparatus, and a program.例文帳に追加

物体に形成されたマークの位置を短時間で特定することができる位置計測方法及び装置、当該方法を用いる露光方法、当該装置を備える露光装置及び測定検査装置、並びにプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate conveying system which shortens time required for adjusting the Z direction of a substrate stage when a substrate with a different thickness is conveyed into an exposure apparatus and does not reduce the throughput of the exposure apparatus.例文帳に追加

厚さの異なる基板が露光装置内に搬送された場合において、基板ステージのＺ方向の調整にかかる時間を減少させ、露光装置のスループットを低減させない基板搬送システムを提供する。 - 特許庁

To largely shorten an exposure and drawing time without reducing a quality of a press plate in manufacturing the press plate for printing a newspaper using a rotary drum type laser beam exposure device.例文帳に追加

回転ドラム型のレーザ光露光装置を用いた新聞印刷用刷版の製作に於いて、刷版の品質の低下を来たすことなしに、露光・描画時間の大幅な短縮を図れるようにする。 - 特許庁

To reduce temporary disorder of exposure when an ND filter is put in and out from the optical path of a lens and to reduce the time required for returning to proper exposure.例文帳に追加

レンズの光路中にＮＤフィルタを出し入れする際に一時的に露出が乱れるのを軽減すると共に、適正露出に戻るまでの時間を短縮する。 - 特許庁

Thus, the exposure accuracy can be kept at a high level for a long time by controlling the exposure quantity, image forming characteristics, etc., based on information of this optical sensor, without frequently replacing the optical sensors.例文帳に追加

従って、この光センサの情報に基づいて露光量、結像特性等を制御することにより、光センサを頻繁に交換することなく、露光精度を長期間に渡って高精度に維持することができる。 - 特許庁

To provide an article covered with a phtocatalyst film which havs a high activity to an organic compound decomposition reaction and does not suffes action saturation or deterioration of photcatalytic action even by exposure to high intensity light or by exposure to light for a long period of time.例文帳に追加

光照射強度が大きくても、または光照射が長期間に及んでも光触媒作用が飽和または低下しない、有機物分解反応に対する活性が大きい光触媒膜を被覆した物品を提供する。 - 特許庁

To provide a means which is capable of automatically regulating the exposure, etc., of photographic paper in real time in order to deal with a change in the temperature of a digital micromirror device for an exposure device, etc., using the digital micromirror device.例文帳に追加

デジタルマイクロミラー装置を用いた露光装置等に対して、デジタルマイクロミラー装置の温度の変化に対処するための印画紙露光量等の調整を、リアルタイムで自動的に行うことができる手段を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which decreases the number of exposure mask to remarkably shorten the man-hours and period of time of a process for exposure, in the manufacturing method of the semiconductor device, in which an identification information is given on a chip.例文帳に追加

チップ上に識別情報を付与した半導体装置の製造方法において、露光マスクの数を減らし、露光にかかる工程の工数と時間を大幅に短縮した半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

It is possible to optimize the exposure apparatus effectively in a short time without the use of the exposure apparatus for the appraisal of the conditions and without interrupting a manufacturing line.例文帳に追加

条件の評価に露光装置を使用する必要がなく、製造ラインを停止する必要なく、効率よく短時間で露光装置の最適化を行うことができる。 - 特許庁

If half-shutter operation is made, a slow synchronous exposure time Ta is calculated (S103), for calculating an exposure halfway change gain value Y (dB)(S104).例文帳に追加

ハーフシャッター操作がなされたならば、スローシンクロ露光時間Ｔａを算出し（Ｓ１０３）、露光途中変更ゲイン値Ｙ（ｄＢ）を算出する（Ｓ１０４）。 - 特許庁

To provide a method of estimating the shape of a resist pattern formed by exposure using a charged particle beam exposure device which exactly simulates the resist pattern and does not take a so long time for calculation thereof.例文帳に追加

荷電粒子線露光装置を使用して露光を行った場合に、形成されるレジストパターンを正確にシミュレートでき、かつ計算時間があまり長時間とならないレジストパターン形状の推定方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device and an exposure potential control method for avoiding an aging exposure causing the increase of start-up time, for example, after resetting when the device is started up and further having a restraining effect not only to the lowering phenomenon of VL by exposure memory but also to density fluctuation caused by the increase of the VL by the exposure memory.例文帳に追加

装置立ち上げ時のリセット後のような立ち上げ時間の増加につながるエージング露光を廃止し、さらに、露光メモリによるＶＬの低下現象だけでなく、露光メモリによるＶＬの増加による濃度変動にも抑制効果を有する画像形成装置及び露光電位制御方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, it is not necessary for the camera side to have a function for synthesizing the long-time-exposure video image and the short-time-exposure video image and a function for transmitting a plurality of video image data that meet a plurality of reception terminals to respective reception terminals, thereby reducing the cost, space, and power consumption of the camera side.例文帳に追加

従って、カメラ側に長時間露光映像と短時間露光映像との合成を行う機能と、複数の受信端末に応じた複数の映像情報をそれぞれの受信端末に送信する機能が不要となるため、カメラ側のコスト、スペース、消費電力が低減できる。 - 特許庁

The semiconductor wafer which is etched after lapping is set on a microscopic photographing device with an exposure time numerically displayed, the exposure time for the rear face of the semiconductor wafer is measured, and the roughness of the wafer rear face is evaluated based on a known correlation between the exposure time and the etched amount.例文帳に追加

ラッピング後、エッチングした半導体ウェハを、露出時間が数値表示される顕微鏡写真撮影装置にセットして、当該導体ウェハの裏面についての露出時間を計測し、予め把握されている上記露出時間とエッチング量との相関から、当該半導体ウェハの裏面粗さを評価する。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor used for an image forming apparatus of at least ≤100 msec in the time between exposure and development is formed by laminating a photosensitive layer and a protective layer on a conductive substrate and is ≤700 V/sec in the amount of change in the potential of an exposure section in relation to a time change of the time between the exposure and development at ≥35 msec.例文帳に追加

少なくとも露光−現像間時間が１００ｍｓｅｃ以下の画像形成装置に用いる電子写真感光体であって、該電子写真感光体が導電性基体上に感光層、保護層を積層し、且つ、３５ｍｓｅｃ以上における露光−現像間時間の時間変化に対する露光部電位の変化量が７００Ｖ／ｓｅｃ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

An exposure time is gradually made large from an initial value (step 500) (step 520), when a film density is high, a prescribed pixel value included in the image data is detected (step 505), and the exposure time for when the pixel value becomes equal to or more than a reference value (step 515) is decided as the optimum exposure time of a high density film.例文帳に追加

フィルム濃度が高いとき露光時間を初期値（ステップ５００）から徐々に大きくしながら（ステップ５２０）画像データに含まれる所定の画素値を検出し（ステップ５０５）その画素値が基準値以上になる（ステップ５１５）ときの露光時間を高濃度フィルムの最適露光時間として決定する。 - 特許庁

To provide a photographing device capable of performing photographing in an exposure time suitable for a photographing object without performing temporary photographing operation.例文帳に追加

仮撮影動作を行なうことなく撮影対象物に適した露出時間で撮影を行なうことが出来る撮影装置を提供する。 - 特許庁

Alternatively or additionally, the camera can select a relatively short exposure time for the urgent photograph.例文帳に追加

その代わりに、またはそれに付け加えて、カメラは、緊急の写真については比較的短い露出時間を選択してもよい。 - 特許庁

In the case of photographing the moving picture simultaneously while photographing the animation, photographing is performed after changing an exposure time to that for photographing the still picture.例文帳に追加

動画撮影中に静止画を同時撮影する際、露光時間を静止画撮影用の露光時間に変更した上で撮影を行う。 - 特許庁

During a first exposure time, a first substrate set is patterned by a first reticle, and the reticle is exchanged for a second reticle.例文帳に追加

第１露光期間中、第１のレチクルにより第１の基板セットをパターニングし第１のレチクルを第２のレチクルと交換する。 - 特許庁

The focal depth is changed according to sine waveform, and the cycle is made equal to a time required for allowing a certain point of the substrate to pass through the exposure field.例文帳に追加

焦点深さはサイン波形により変化させ、その周期は基板のある点が露光フィールドを通過するのに要する時間に等しい。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a multilayer film reflecting mirror for forming a film in a short time, and thinning the thickness of an interface layer, and an exposure device.例文帳に追加

短い時間で膜形成が行われ、かつ、界面層の厚さが薄い多層膜反射鏡の製造方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, time for detection is shortened and total throughput of the exposure device is improved.例文帳に追加

そのため検出時間を短くすることができ、ひいては露光装置のトータル・スループットを向上することができる。 - 特許庁

An adsorption amount in a prescribed concentration in the air and for a prescribed exposure time is actually measured, and an equilibrium adsorption amount is analyzed by molecular simulation.例文帳に追加

所定の気中濃度及び曝露時間における吸着量を実測し、平衡吸着量を分子シミュレーションによって解析する。 - 特許庁

To maintain the transmittance of exposure light, and at the same time to improve utilization efficiency of a low-absorption gas for inhibiting useless consumption.例文帳に追加

露光光の透過率を維持しつつ、低吸収性ガスの利用効率を向上して無駄な消費を抑制する。 - 特許庁

This exposure is performed for a relatively long time so as to roughly determine the shape of the microlens array.例文帳に追加

この露光は比較的長時間行い、これによりマイクロレンズアレイの形状が大まかに決定されるようになる。 - 特許庁

Thus, operator's work for removing the errors can be done promptly and the exposure processing can be reestablished in a short time.例文帳に追加

オペレータによるエラー解消に係る作業を迅速に行うことが可能になり、露光処理を短時間で復旧することが可能になる。 - 特許庁

To reduce necessary exposure at the time of forming a resist pattern even as a desired resolution is produced for a resist layer having a prescribed composition.例文帳に追加

所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。 - 特許庁

The reticle 100A used for exposure is replaced, after a certain time, with a reticle 100B having same patterns.例文帳に追加

露光に使われたレチクル１００Ａは、ある時間間隔をおいて同じパターン形状をもったレチクル１００Ｂと交換される。 - 特許庁

To reduce the time required for an exposure step while improving the alignment accuracy of circuit patterns drawn on either face of a substrate.例文帳に追加

基板の表裏に描画される回路パターンの位置合わせ精度を向上しつつ、露光工程に要する時間を短縮する。 - 特許庁

To make exposure control (AE) processing fast and to shorten a time needed for automatic focus detection control (AF) processing.例文帳に追加

露出制御（ＡＥ）処理の高速化と自動焦点検出制御（ＡＦ）処理に要する時間の短縮化を図る。 - 特許庁

To provide a calibration method for a charged-particle-beam exposure system capable of reducing time needed to calibrate the optics system.例文帳に追加

光学系の較正に要する時間を短縮することができる荷電粒子線露光装置の較正方法等を提供する。 - 特許庁

To realize a new method for accurately detecting the defect and distortion of the mask pattern of an electron beam exposure device relatively in a short time.例文帳に追加

電子ビーム露光装置に使用するマスクパターンの欠陥及び歪みを、実際の露光電子パターンを比較的短時間に正確に測定できる。 - 特許庁

Prior to main photographing, a pre-image is captured, and the exposure time for a plurality of times of photographing during a panning mode is set from the pre-image.例文帳に追加

本撮影前にプレ画像を取得し、プレ画像から流し撮りモード時における複数回の撮影時の露光時間を設定する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus obtaining a recording image with high image quality while displaying an object in real time for a period of recording exposure operations.例文帳に追加

記録用の露光動作の期間に被写体をリアルタイムで表示しつつ、高画質な記録画像を得ることのできる撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method for measuring mask distortion in a short time with high accuracy by using a conventional coordinates measuring device and an exposure device.例文帳に追加

既存の座標測定装置と露光装置を用いて、短時間かつ高精度にマスク歪を測定する検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus and its imaging method which shortens the exposure time required for imaging to more quickly photograph than conventional one.例文帳に追加

撮像に要する露光時間の短縮化を図って、従来の撮像に比べて高速撮影が行える撮像装置およびその撮像方法の提供。 - 特許庁

When relation of L1≤R<L2 continues for a fixed time, an exposure correction value is set to -1Ev (first photographing condition).例文帳に追加

Ｌ１≦Ｒ＜Ｌ２の関係が一定時間継続した場合には、露出補正値を−１Ｅｖ（第１の撮影条件）に設定する。 - 特許庁

A mechanical shutter is driven at a proper shutter time decided from the photometry value and the aperture value for the real exposure mode to expose the image pickup element (S15).例文帳に追加

先の測光値と本露光モード用絞り値から決定される適正なシャッタ秒時で機械シャッタを駆動し、撮像素子を露光する（Ｓ１５）。 - 特許庁

The heat radiation luminance distribution of the molten matter 5 is imaged with resolution ≤1 mm, for an exposure time ≤1/5,000 sec.例文帳に追加

溶融物５の熱放射輝度分布を分解能１ｍｍ以下かつ露光時間１／５０００秒以下で撮像する。 - 特許庁

By referring to coefficient calculation data and on the basis of the average value, the correction factor at the time of exposure of the (N+1)-th image frame is determined for each shutter part.例文帳に追加

係数算出データを参照して、その平均値に基づいてＮ＋１番目の画像コマの露光時の補正係数をシャッタ部毎に決定する。 - 特許庁

To provide a decorative sheet having prolonged anti-weathering property even after exposure in outdoor for a long period of time.例文帳に追加

長期間にわたる野外の暴露においても耐候性を有することができる化粧シートを提供すること。 - 特許庁

To provide a technology for more accurately aligning images having respectively different exposure time lengths and then synthesizing the aligned images.例文帳に追加

露出が異なる画像同士をより正確に位置合わせしてから合成するための技術を提供すること。 - 特許庁