「time for exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent a time interval from the end of one exposure photographing to the start of the next exposure photographing from being longer as compared with the case an image for correction is not photographed, when acquiring an image for correcting an image obtained by exposure photographing.例文帳に追加

露光撮影された画像を補正するための画像を取得する場合において、１回の露光撮影を終えた後に次の露光撮影を行うまでの時間間隔が、補正用の画像を撮影しない場合に比べ長くならないようにする。 - 特許庁

To provide a laser exposure device which can reduce a time and labor for adjusting an exposure clock of each laser beam and timing for starting exposure in a main scan direction, and thereby enhance adjustment precision in the main scan direction.例文帳に追加

主走査方向における各レーザビームの露光クロック、露光開始タイミングの調整の手間を軽減し、主走査方向における調整の精度を上げるレーザ露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a master disk exposure apparatus and master disk exposure method for manufacturing an optical information recording medium with high recording density at a low cost by shortening an exposure time per a sheet of master disk for information recording medium.例文帳に追加

情報記録媒体用原盤の１枚当たりの露光時間を短縮し、高記録密度の光情報記録媒体をより低コストで製造するための原盤露光装置及び原盤露光方法を提供する。 - 特許庁

Exposure light is used for allowing the pattern of the mask M to project onto the wafer W, and at the same time the wafer W and exposure light are relatively scanned for exposing an exposure region on the wafer W.例文帳に追加

マスクＭのパターンを露光光を用いてウエハＷ上に投影するとともにウエハＷと露光光を相対走査してウエハＷ上の露光領域を露光する。 - 特許庁

It generates histograms Hr1, Hg1,..., Hb2 showing the distribution of each image data for every exposure time.例文帳に追加

露光時間毎に各画像データの分布を示すヒストグラムHr1、Hg1、…Hb2を生成する。 - 特許庁

To reduce time necessary for removing a reflection type exposure mask absorbed by an electrostatic chuck.例文帳に追加

静電チャックに吸着させた反射型露光マスクを取り外すのに必要な時間を短縮させる。 - 特許庁

In this photographing method for confirming movement, a latent image is captured during the interval of film exposure time.例文帳に追加

動き確認用写真撮影方法では、フィルム露出時間間隔中に潜像が捕捉される。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus capable of displaying a real time image for confirming an image angle during exposure.例文帳に追加

画角確認用のリアルタイム画像を露光中に表示し得る撮像装置を提供する。 - 特許庁

This current is accumulated for a predetermined exposure time to obtain a signal voltage.例文帳に追加

この電流を所定の露光時間分だけ蓄積することにより信号電圧を得る。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus, which shortens time required for exchanging a substrate, and improves the productivity.例文帳に追加

基板の交換に要する時間を短縮し、生産性が向上された露光装置を提供する。 - 特許庁

To shorten time required for completing exposure process to all of substrates in a plurality of lots.例文帳に追加

複数のロットの基板を全て露光処理し終えるのに要する時間をより短くする。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR ADJUSTING EXPOSURE TIME IN CMOS IMAGE SENSOR例文帳に追加

ＣＭＯＳイメ—ジセンサにおける露出時間を調節するための装置及び方法 - 特許庁

In a fixed pattern noise canceling unit, a timing controller makes an image sensor generate image signals for an exposure time of 200ns.例文帳に追加

タイミングコントローラは撮像素子に２００ｎｓの露光時間で画像信号を生成させる。 - 特許庁

To shorten the time required for transferring a substrate and reduce unevenness in exposure.例文帳に追加

基板の受け渡しに要する時間を短くし、露光時の焼きむらを少なくする。 - 特許庁

To manage overlay accuracy in an exposure process for manufacturing a semiconductor while considering changes with time.例文帳に追加

半導体製造の露光工程における重ね合わせ精度を、経時的な変動を考慮して管理する。 - 特許庁

To reduce a time required for the exposure preparation of a plurality of stages circulating in a circuit.例文帳に追加

循環路中で循環する複数のステージの露光準備に要する時間を短縮する。 - 特許庁

An image pickup element driving section 10 turns on the reset transistor for a given time from the endpoint of exposure.例文帳に追加

撮像素子駆動部１０は、露光終了時点から一定期間リセットトランジスタをオンにする。 - 特許庁

The balancing circuit 31 balances the image signal of the same exposure time for each pixel.例文帳に追加

平均化回路３１は同じ露光時間の画像信号を画素毎に平均化する。 - 特許庁

When relation of L3≤R<L4 continues for the fixed time, the exposure correction value is set to +1Ev.例文帳に追加

Ｌ３≦Ｒ＜Ｌ４の関係が一定時間継続した場合には、露出補正値を＋１Ｅｖに設定する。 - 特許庁

When relation of L2≤R<L3 continues for the fixed time, the exposure correction value is set to 0.例文帳に追加

Ｌ２≦Ｒ＜Ｌ３の関係が一定時間継続した場合には、露出補正値を０に設定する。 - 特許庁

To match an integrated intensity with a reference value by performing operation for an amount of one-time exposure correction.例文帳に追加

１回の露出補正量の演算を行うことで、積算輝度を基準値に一致させる。 - 特許庁

To provide a technology for suppressing shortening of a total exposure time and suppressing increase of noise.例文帳に追加

トータルの露光時間の短縮を押さえ、ノイズの増加を抑制する為の技術を提供すること。 - 特許庁

CALCULATING METHOD OF EXPOSURE LIMIT TIME OF SMOKE LAYER, CALCULATING METHOD OF ALLOWABLE ESCAPE TIME USING EXPOSURE LIMIT TIME THEREOF, PROGRAM FOR EXECUTING CALCULATING METHODS THEREOF, AND RECORDING MEDIUM FOR RECORDING PROGRAM THEREOF例文帳に追加

煙層の曝露限界時間の算定方法、該曝露限界時間を用いた許容避難時間の算定方法、これらの算定方法を実行するプログラム、およびこのプログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

For example, the electric charges of pixels of an interested row Rw4 are read at a time point t4 which is delayed by time Td from exposure completion time t3 (Fig. (b)).例文帳に追加

例えば、着目行Ｒｗ４の画素の電荷は、露光終了時ｔ３から時間Ｔｄだけ遅れた時点ｔ４で読み出される（図(b) ）。 - 特許庁

In an electronic camera device for carrying out exposure time control by using at least two image signals of long time exposure and short time exposure, an acquisition means for collecting an image signal by the short time exposure and an operation means for operating a color signal component level from the image signal collected by the acquisition means are provided.例文帳に追加

また、本発明では、高輝度画像信号においてニー合成処理によりダイナミックレンジを大きく確保してもビット処理能力内での諧調スケーリング設定値によりニー合成出力信号を制御するため諧調歪の無い、画像処理を行うことができるビデオカメラ装置の提供を目的とする。 - 特許庁

Since it often becomes exposure shortage when the exposure time is short, the imaging apparatus is further provided with functions for collecting such a photographed image which becomes the exposure shortage by gain adjustment and aperture adjustment, etc.例文帳に追加

また露光時間が短い場合には露光不足になることが多いので、そのような露光不足となった撮像画像を、ゲイン調整や開口度調整などによって補正する機能をさらに備える。 - 特許庁

The exposure quantity calculation part 8 automatically measures the pattern rate, and optimizes the exposure time of a photoresist film according to the pattern rate to eliminate the need for test exposure.例文帳に追加

露光量算出部８で自動的にパターン率を測定し、このパターン率の大きさでフォトレジスト膜の露光時間を最適することで、試し露光を不要にできる。 - 特許庁

An optical scanning part 500 makes an adjustment for narrowing a time difference exposure area causing the occurrence of density irregularities due to a reciprocity failure by widening an interval between main scanning lines in the Nth exposure scanning and the (N+1)th exposure scanning.例文帳に追加

光走査部５００は、Ｎ回目とＮ＋１回目の露光走査における主走査ラインの間隔を広くすることで、相反則不軌よる濃度ムラの発生の原因となる時差露光領域を狭める調整を施す。 - 特許庁

Exposure of the imaging device (1) 24a is started with a prescribed photographic sensitivity simultaneously with the start of light emission of the flash 14, and the exposure is terminated after a prescribed exposure time (for example, 1/60 seconds) to perform flash photographing.例文帳に追加

フラッシュ１４の発光開始と同時に所定の撮影感度で撮像素子（１）２４ａの露光を開始し、所定の露光時間（例えば、１／６０秒）が経過後に露光を終了してフラッシュ撮影を行う。 - 特許庁

Exposure of an imaging device (2) 24b is started with a prescribed photographic sensitivity simultaneously with the start of light emission of the flash 14, and the exposure is terminated after a prescribed exposure time (for example, 1/10 seconds) to perform slow synchro-flash photographing.例文帳に追加

また、フラッシュ１４の発光開始と同時に所定の撮影感度で撮像素子（２）２４ｂの露光を開始し、所定の露光時間（例えば、１／１０秒）が経過後に露光を終了してスローシンクロフラッシュ撮影を行う。 - 特許庁

To shorten the time required for an exposure stage by controlling exposure position correction and timing of irradiation with exposure light without forming a two-dimensional image based upon a linear image.例文帳に追加

一次元画像に基づいて二次元画像を作成することなく露光位置補正の制御及び露光光の照射のタイミングの制御をすることによって、露光工程の時間短縮を可能とする。 - 特許庁

To provide a color photographic silver halide material suitable for digital exposure and analog exposure and characterized by sharp gradation and stable latent image quality independent of exposure time.例文帳に追加

デジタル露光およびアナログ露光に適しそして露光時間に無関係な鮮鋭な階調および安定な潜像品質により特徴づけられる材料を提供すること。 - 特許庁

To improve a situation that the amount of light for exposure becomes insufficient at the off-center part of the phosphor screen of a wide deflection angle color picture tube because the reflection of an exposure light beam on the incidence surface of an exposure lens becomes large at the time of exposing the phosphor screen.例文帳に追加

広偏向角カラー受像管の蛍光体スクリーン露光時に、露光レンズ入射面での露光光線の反射が大きくなるために蛍光体スクリーン周辺部で露光光量が不足するのを改善する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is excellent in line edge roughness in normal exposure and liquid immersion exposure and with which the variation of the line width caused by time delay between exposure-PEB is reduced; and a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

通常露光時及び液浸露光時に於ける、ラインエッジラフネスに優れ、且つ、露光−ＰＥＢ間の引き置きによる線幅の変動が低減されたポジ型レジスト及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To increase the life time of an exposure light source and to prolong the period in the exchange cycle to reduce the cost in an exposure method for exposing, by an exposing unit having a plurality of exposure head lines arranged in the sub scanning direction.例文帳に追加

複数の露光ヘッド列が副走査方向に配列された露光部により露光を行う露光方法において、露光光源の寿命を長くして交換サイクルを延ばすことによりコストの削減を図る。 - 特許庁

When preliminary exposure is performed for a photosensitive material 2 before regular exposure, the exposure level is increased with time to prevent the VFP head 25 from wearing.例文帳に追加

ＶＦＰヘッド２５と、感光材２に対して本露光の前に予備露光を行うに際し、露光レベルを時間とともに増大させ、ＶＦＰヘッド２５の消耗を防ぐ。 - 特許庁

Subsequently, integration data of each detection frame is multiplied by the coefficient for exposure determination to determine an image state, and an exposure time is determined by the determination result to perform an automatic exposure operation.例文帳に追加

この後、各検波枠の積分データに露光判定用係数を乗算して画像状態の判定処理を行い、その判定結果によって露光時間を決定し、自動露光動作を行う。 - 特許庁

To provide an illumination device for exposure devices capable of suppressing a decrease in illuminance with lapse of illumination time of a light source section; and to provide a control method of the illumination device and an exposure method of the exposure device.例文帳に追加

光源部の照射時間の経過に伴う照度低下を抑制することができる露光装置用光照射装置、光照射装置の制御方法、露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

Pattern exposure is made onto a wafer with a ground pattern on the surface and a wafer without any ground pattern on the surface while increasing the exposure energy by a certain amount each time for each shot, thus manufacturing a wafer for inspection that is an exposure running wafer (S13).例文帳に追加

表面に下地パタンを有するウェハ上および表面に下地パタンを有しないウェハ上のそれぞれに、１ショット毎に露光量を一定量ずつ増加させながらパタンの露光を行うことによって、exposure runningウェハである検査用ウェハを作製する（Ｓ１３）。 - 特許庁

An exposure device 3 is controlled so as to form an observation electrostatic latent image by lowering the turning speed of a photoreceptor drum 1 and also exposing the surface of the photoreceptor drum 1 by using one exposure light beam at the time of exposure adjustment control, and control to adjust the exposure of the exposure light beam is performed for each exposure light beam by observing the observation electrostatic latent image formed by exposing.例文帳に追加

露光量調整制御時には感光体ドラム１の回動速度を低下させると共に１つの露光光線を使用して感光体ドラム１表面を露光して観測用の静電潜像を形成するように露光装置３を制御し、この露光によって形成した観測用の静電潜像を観測して該露光光線の露光量を調整する制御を各露光光線について行なう。 - 特許庁

If the absolute value of an exposure correction value determined by the feedback type exposure determining means 201 at the time of shutter release is lower than a predetermined threshold value, the photographing exposure determining means 202 determines a final exposure for photographing based on an exposure value determined by the feedback type exposure determining means 201.例文帳に追加

シャッターレリーズ時のフィードバック型露出決定手段２０１により求められる露出補正値の絶対値が、予め決定されている閾値よりも小さい場合は、フィードバック型露出決定手段２０１で求められた露出値を基に撮影露出決定手段２０２により撮影のための最終露出を決定する。 - 特許庁

In a simple manner, a standard exposure time of the rear face for a semiconductor wafer having targeted standard rear face roughness is measured, the actual exposure time is measured for the rear face of the semiconductor wafer to be actually evaluated, and the actual exposure time is compared with the standard exposure time to evaluate the rear face roughness of the semiconductor wafer.例文帳に追加

簡便には、目標とする標準の裏面粗さを有する半導体ウェハについてその裏面の標準露出時間を測定しておき、実際に評価をすべき半導体ウェハの裏面についての実際の露出時間を測定し、この実際の露出時間を上記標準露出時間と比較して、当該半導体ウェハの裏面粗さを評価する。 - 特許庁

The gain of an AGC part 3 for long time exposure signal and the short time exposure signal and the knee point of a knee processing part 4 can independently be set by the AGC part gain selector 13 switching a gain setting value and a knee point selector 14 switching a knee point setting value by using a signal for identifying a long time exposure signal period and a short time exposure signal period.例文帳に追加

長時間露光信号期間と短時間露光信号期間を識別する信号を用いて、ゲイン設定値を切り替えるＡＧＣ部ゲインセレクタ１３及びニーポイント設定値を切り替えるニーポイントセレクタ１４により、長時間露光信号用と短時間露光信号用のＡＧＣ部３のゲイン及びニー処理部４のニーポイントを独立に設定できるようにする。 - 特許庁

The system (1) also includes image acquisition means (3) for capturing an image of the object during an exposure time (T_E ), in which the distinct time intervals (T_R, T_G, T_B ) are within the duration of the exposure time (T_E ).例文帳に追加

このシステム(1)は、露光時間(T_E)中に物体の画像を取り込む画像取得手段(3)も含み、別個の時間間隔(T_R、T_G、T_B)は、露光時間(T_E)の期間内にある。 - 特許庁

To provide a focal plane shutter for camera in which a rear blade group actuated by different driving sources at an exposure actuation time and a setting actuation time is prevented from being broken by abutting on a stopper at the time of the completion of exposure actuation.例文帳に追加

露光作動時とセット作動時とで、異なる駆動源によって作動させられる後羽根群が、露光作動終了時におけるストッパへの当接で破壊されないようにしたカメラ用フォーカルプレンシャッタを提供すること。 - 特許庁