「ぞうげ質形成」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

コヒーレント・ラマン顕微鏡の結像性能を評価するのに用いる解像度評価用チャート１０であって、照明光に対して光学的に平滑で、かつ照明光励起に対して蛍光を発光しない基板１１と、基板１１上に二次元的に形成され、基板１１とは異なる振動スペクトルを有し、かつ照明光励起に対して蛍光を発光しないラマン活性物質を含むラマン活性層１２と、を有する。例文帳に追加

The chart 10 for resolution evaluation used for evaluating the imaging performance of the coherent Raman microscope includes: a substrate 11 optically smooth for illumination light and not emitting fluorescence for illumination light excitation; and a Raman active layer 12 containing a Raman active substance not emitting fluorescence for illumination light excitation by being two-dimensionally formed on the substrate 11 and having oscillation spectrum different from the substrate 11. - 特許庁

集電体１の両面１ａ，１ｂに、少なくとも電極活物質粒子および結着剤前駆体２ａ，２ｂとしての金属元素含有化合物を形成する工程と、前記金属元素含有化合物が金属酸化物となる温度以上で加熱する工程と、を有する非水電解液二次電池用電極板の製造方法であって、集電体の一方の面が凸となるように湾曲させる凸湾曲工程と、当該面が凹となるように湾曲させる凹湾曲工程と、を少なくとも１回ずつ行う。例文帳に追加

In the method, a convex warp step in which one surface of the collector is warped to be shaped convex and a concave warp step in which the one surface of the collector is warped to be shaped concave are carried out at least once, respectively. - 特許庁

成形材料の充填直後に生じる黒鉛粒子相互が激しく接して形成する歪みを抑制し、安定した流動を確保して品質を安定化できるとともに、金型の摩耗などの損傷を抑制でき、その結果成形時に発生していた注入口近傍でのクラック発生や脱型時の成形品の表面層剥離を抑制できるカーボン凝結体から成る成形炊飯釜の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a molded rice cooking pot which includes carbon aggregate which controls distortion formed by violent and mutual touching of both graphite particles produced immediately after filling of molding materials, can control damage such as wear of mold, while stabilizing quality by securing stable flow, and as a result can control crack generation near the inlet which are generated when molding or surface layer peeling of the molding during formwork removal. - 特許庁

オフリーク特性悪化の原因となるバックチャネル部に付着しているフッ素を除去するために、バックチャネル部に対して水素プラズマを用いた低プラズマ密度処理を行うと、バックチャネル部を覆う窒化膜が、下地膜との界面においてＳｉ−Ｈ結合が増加した膜質となり、特に、窒化膜の下にＩＴＯ膜が在って、ＩＴＯ膜上の窒化膜に開口部を形成する場合には、バッファード弗酸（ＢＨＦ）によるエッチングで窒化膜が逆テーパー状にエッチングされるエッチング異常（開口部の外観不良）が生じる。例文帳に追加

To provide the manufacturing method of a thin film transistor, capable of reducing etching defects generated at the time of opening a part of a passivation film by optimizing manufacture conditions, after removing fluorine stuck to the back channel part of the thin film transistor, until forming the passivation film covering the back channel part. - 特許庁

イソプロピルアルコールとパロキセチン塩酸塩との組成物をエタノール溶液とする溶液形成工程を行い、つぎに該エタノール溶液を減圧にすることによって、より高濃度のエタノール溶液を得る濃縮工程を行い、つぎに該より高濃度のエタノール溶液において噴霧乾燥の工程を行うことによって実質的にイソプロピルアルコールを含まないアモルファスパロキセチン塩酸塩を得ることを特徴とするアモルファスパロキセチン塩酸塩の製造方法。例文帳に追加

This method for producing the amorphous paroxetine hydrochloride substantially not containing the isopropyl alcohol is characterized by performing a solution-forming process for forming a ethanol solution of an isopropyl alcohol-paroxetine hydrochloride composition, performing a concentration process for subjecting the ethanol solution to a reduced pressure treatment to obtain the high concentration ethanol solution, and performing a process for spray-drying the high concentration ethanol solution to obtain the amorphous paroxetine hydrochloride substantially not containing the isopropyl alcohol. - 特許庁

インクがインク吐出用貫通孔から溢れ出て基板表面に染み出すことを防止し、インクメニスカスの精密制御を行って、その位置および形状を安定的に保ち、飛翔するインク滴のサイズを精密に制御するとともに、電界の吐出部間での干渉を抑制し、安定したインク液滴の吐出・飛翔を実現して、記録媒体上への高品質な画像形成を可能にするインクジェットヘッドを提供する。例文帳に追加

To provide an inkjet head capable of forming a high quality image on a recording medium by preventing ink from flowing over an ink ejection through hole to ooze out onto the substrate surface, performing precise control of ink meniscus, keeping its position and shape stably, controlling the size of a flying ink drop precisely, and suppressing interference of electric field between ejecting parts thereby realizing stabilized ejection or flight of an ink liquid drop. - 特許庁

２５〜５５質量％の水；クロロシリコン生産副産物、直接法残留ゲル、セメントキルンダストおよびそれらの混合物からなる群から選ばれるアルカリ性材料；ならびにスクロース、ラフィノース、リグニン、メチルグルコピラノシド、ラクトース、フルクトース、ポリリン酸ナトリウム、トレハロースおよびそれらの混合物からなる群から選ばれる加工助剤を混合して流動性スラリーを形成することを含む流動性スラリーの製造方法。例文帳に追加

A process for preparing the flowable slurry comprises mixing 25-55 wt.% water; an alkaline material selected from the group consisting of chlorosilicon manufacturing byproducts, direct process residue gels, cement kiln dust and mixtures thereof; and a process aid selected from the group consisting of sucrose, raffinose, lignin, methylglucopyranoside, lactose, fructose, sodium polyphosphate, trechalose and mixtures thereof to form the flowable slurry. - 特許庁

色度をＸＹＺ表色系における色度座標（ｘ、ｙ）で表したときに、０．１８＜ｘ＜０．３３かつ０．６３＜ｙ＜０．８０を満足し、実用的な膜厚で、高い色濃度のカラーフィルタを形成するのに用いられる着色感光性樹脂組成物において、低顔料濃度かつ、良好な感度、現像性を示す着色感光性樹脂組成物、および前記の着色感光性樹脂組成物を用いる高品質のカラーフィルタを提供する。例文帳に追加

To provide a colored photosensitive resin composition which contains low concentration pigment, has excellent sensitivity and developability and can be used for forming a color filter having high color density in the practical film thickness, and to provide a high quality color filter using the colored photosensitive resin composition. - 特許庁

ウェーハとサセプタ表面上に形成されたポリシリコン膜とが融着することによって、ウェーハ裏面に深いキズが生じてしまうことを抑制でき、さらに気相エッチングによるクリーニングに用いられる塩化水素ガスに取り込まれた汚染物質の影響を低減することができるエピタキシャル成長装置の反応容器のクリーニング方法及びエピタキシャルウェーハの製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method of cleaning the reaction vessel of an epitaxial growth device and a method of manufacturing an epitaxial wafer, which can suppress generation of a deep crack on the back of a wafer by fusion of the wafer and a polysilicon film formed on a susceptor surface and can reduce the effects of contaminants that have got into a hydrogen chloride gas used for cleaning by vapor-phase etching. - 特許庁

基板１上に、露光光を反射する領域となる多層膜２を有し、前記多層膜２上に吸収用となるパターニングされた薄膜３、さらに前記多層膜２と吸収性薄膜の間に緩衝用となる薄膜４を有する極限紫外線露光用マスクにおいて、剥離しなくとも多層膜２部の実質的な反射性能への影響がなく、さらに本来の機能としての多層膜２の保護機能も有するように緩衝膜４の構造、材料が規定されたＥＵＶ露光用マスク、およびそれを作製するためのブランク並びにそのマスクを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide an EUV light exposure mask having no effect on the substantial reflection performance of a multilayer film 2 portion even if it is not stripped and in which the structure and material of a buffer film 4 are specified to have the essential function, i.e., the protective function of the multilayer film 2, and to provide a blank for producing the mask and a patterning method employing that mask. - 特許庁

基板１上に、露光光を反射する領域となる多層膜２を有し、前記多層膜２上に吸収用となるパターニングされた薄膜３、さらに前記多層膜２と吸収性薄膜の間に緩衝用となる薄膜４を有する極限紫外線露光用マスクにおいて、剥離しなくとも多層膜２部の実質的な反射性能への影響がなく、さらに本来の機能としての多層膜２の保護機能も有するように緩衝膜４の構造、材料が規定されたＥＵＶ露光用マスク、およびそれを作製するためのブランク並びにそのマスクを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide an EUV light exposure mask having no effect on the substantial reflection performance of a multilayer film 2 part even if it is not stripped in which the structure and material of a buffer film 4 are specified to have the essential function, i.e. the protective function of the multilayer film 2, and to provide a blank for producing the mask and a patterning method employing that mask. - 特許庁

張力下で（又は圧縮して）弾性的に歪みのある第１の結晶層１と、圧縮して（又は張力下で）弾性的に歪みのある第２の結晶層２とを備え、前記第２の層が前記第１の層に隣接している構造体３０を用いて、それらの２つの層間での拡散ステップを備え、それにより２つの層のそれぞれの組成物間の差がほぼ同じになるまで次第に低減され、その後、それらの２つの層が、全体として均質な組成物を有する、結晶材料製のただ単一の最終層を形成する。例文帳に追加

The method is carried out using a structure 30 that includes a first crystalline layer 1 which is elastically strained under tension (or respectively in compression) and a second crystalline layer 2 which is elastically strained in compression (or respectively under tension), with the second layer being adjacent to the first layer. - 特許庁

基板上に形成したレジストパターンをスリミング処理するレジストパターンのスリミング処理方法において、レジストパターン上にレジストパターンを可溶化する反応物質を塗布し、次に予め決定された熱処理条件で熱処理し、次に現像処理することによって、レジストパターンにスリミング処理を行うスリミング処理工程と、スリミング処理工程前にレジストパターンの線幅を測定する第１の線幅測定工程とを含む。例文帳に追加

The slimming processing method for a resist pattern for performing slimming processing for a resist pattern formed on a substrate comprises a slimming processing process by applying a reacting substance for solubilizing a resist pattern onto the resist pattern, carrying out heat treatment under predetermined heat treatment conditions and executing development processing for resist pattern slimming processing; and a first line width measuring process for measuring the line width of the resist pattern before the slimming processing process. - 特許庁

その際、国においては、商工業、農業、観光業などの異業種・異分野の連携の場を形成し、新たな付加価値を創造する仕組みづくりを行うとともに、高品質の「和」の資源を支えているのは、中小企業、個人が中心であり、自ら海外市場への販路開拓、海外市場で評価される商品開発、海外からの集客・インバウンド需要の獲得は困難であることから、内外における商談会・情報発信の場を確保することが必要である。例文帳に追加

In doing so, the government shall host forums to promote the collaboration across different industries/fields (including commerce and industry, agriculture and tourism) so as to establish a structure to create new added value. Meanwhile, it is SMEs and individuals that play a major role in producing high-quality Japanese cultural resources. However, it is difficult for them to develop sales channels in overseas markets by themselves, develop products highly evaluated overseas, attract foreign visitors and capture their demand. Therefore, it is necessary to provide forums for convention and information dissemination both at home and abroad. - 経済産業省

ここに、「核」は原子又は基を表し；ｎは少なくとも１の整数を表し；「デンドライト」（ｎが１よりも大きな整数である場合、互いに同じであっても、又は異なっていても良い）は、アルケニル基の炭素原子を介してアリール基又はヘテロアリール基の環炭素原子と相互に結合したアリール基及び／又はへテロアリール基及びアルケニル基を含む本質的に少なくとも部分的に共役したデンドライト分子構造を表し；「核」は、（ヘテロ）アリール基の環炭素原子に結合した第一の一重結合で終結し；当該（ヘテロ）アリール基には２つ以上の、少なくとも部分的に共役したデンドライト鎖が結合し；当該環炭素原子が「デンドライト」の一部を形成し；「核」及び／又は「デンドライト」が冷光放射性を有している。例文帳に追加

CORE terminates in the first single bond which is connected to a ring carbon atom of an (hetero)aryl group to which more than one at least partly conjugated dentritic chain is bonded, the ring carbon atom forms a part of DENDRITE, and CORE and/or DENDRITE are luminescent, that is, have cold light radioactivity. - 特許庁

特許は次に掲げるものには付与されない。その商業的利用が公序良俗又は道徳原則に反する発明，すなわち，人クローンの創造のための過程，人の生殖系列遺伝子的同一性を変更するための過程，工業的若しくは商業的目的のために人の胚を使用する過程又は動物の遺伝子的同一性を変更するための過程で，人若しくは動物一般にも，また当該過程から発生する動物にも顕著な医学的利益をもたらすことなくそれらに苦しみを与える可能性の高いもの。ただし，公序良俗又は道徳原則との矛盾は，単に当該発明の実施が法規によって禁止されるとの事実のみから帰結されるべきものではない。形成又は成長の様々な段階における人体及び，遺伝子の配列の全体又は一部を含め，かかる人体の何らかの要素の単なる発見。ただし，遺伝子の配列の全部又は一部を含め人体から分離されるか又はその他技術的過程によって創造される要素は，その構造が自然に存在する要素と同一の場合であっても特許の対象となる。及び植物の品種，動物の種，若しくは植物又は動物の生産に係る本質的に生物学的な過程。例文帳に追加

Patents shall not be granted to inventions, whose commercial exploitation would be contrary to public policy or to principles of morality, namely to processes for cloning human beings, processes for modifying the germ line genetic identity of human beings, processes of using human embryos for industrial or commercial purposes or processes for modifying the genetic identity of animals, which are likely to cause them suffering without any substantial medical benefit to man or animal, and also to animals resulting from such processes; however, the contradiction to public policy or to principles of morality shall not be deduced merely from the fact that the exploitation of the invention is prohibited by legal regulation, human body at various stages of its formation and development, and the simple discovery of one of its elements, including the sequence or partial sequence of a gene; it does not apply to an element isolated from the human body or otherwise produced by means of a technical process, including the sequence or partial sequence of a gene, even if the structure of that element is identical to that of a natural element, and plant and animal varieties or essential biological processes for the production of plants or animals.  - 特許庁