「層間絶縁」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

容量絶縁膜５Ａ上及び凹部１０近傍の層間絶縁膜４上に容量上部電極９が形成されている。例文帳に追加

A capacitance upper electrode 9 is formed on the capacitive insulating film 5A and on the inter-layer insulating film 4 nearby the recess 10. - 特許庁

同様にして金属層２９上に層間絶縁膜２４’を形成して平坦化してから絶縁性の反射防止膜２６’を形成する。例文帳に追加

In the same process, an interlayer insulating film 24' is formed on the metal layer 29 and flattened, and an insulating antireflection film 26' is formed. - 特許庁

絶縁体層とコイル用導体パターンを積層し、絶縁体層間のコイル用導体パターンを接続して積層体内にコイルが形成される。例文帳に追加

Insulator layers and coil conductor patterns are laminated, and the coil conductor patterns between the insulator layers are connected to form a coil inside the laminate. - 特許庁

ガラス基板１０１上にゲート電極１０２，ゲート絶縁層１０３を形成し、その上に層間絶縁層１０４を形成する。例文帳に追加

A gate electrode 102 and a gate insulating layer 103 are formed on a glass substrate 101, and an interlayer insulating layer 104 is formed thereon. - 特許庁

層間絶縁膜となるシリコン系絶縁膜が形成されたＳｉウェーハ上に、容量電極となるアモルファスシリコン膜を形成する。例文帳に追加

On an Si wafer on which a silicon-based insulating film which becomes an interlayer insulating film is formed, an amorphous silicon film which becomes a capacity electrode is formed. - 特許庁

液晶表示素子の層間絶縁膜は上記感放射線性組成物から形成され、液晶表示素子は上記創刊絶縁膜を具備する。例文帳に追加

The interlayer insulation film of the liquid crystal display element is formed from the radiation sensitive composition and the liquid crystal display element has the interlayer insulation film. - 特許庁

この酸素バリア層７１と同一面内で連続するように、絶縁性酸素バリア層３１を層間絶縁膜２上に形成する。例文帳に追加

An insulating oxygen barrier layer 31 is formed on an interlayer dielectric 2 continuously to the oxygen barrier layer 71 in the same plane. - 特許庁

低比誘電率、弾性率等に優れた層間絶縁膜を形成できる絶縁膜形成用組成物の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a composition for forming an insulation film capable of forming an interlayer insulation film excellent in low dielectric constant, elastic modulus, etc. - 特許庁

次に、スペーサ及び絶縁膜をマスクとして層間絶縁膜をエッチングしてコンタクトホールを形成する。例文帳に追加

Then, the spacer and insulation film are used as a mask to etch the interlayer insulation film, thereby forming a contact hole. - 特許庁

これにより、層間絶縁膜６の内部に含まれる水分が離脱され、ウエハ状態で長期間保存しても絶縁劣化のおそれがなくなる。例文帳に追加

Thereby, water contained inside the layer insulation film 6 can be removed and possibility of insulation deterioration is eliminated even in long-term storage in wafer state. - 特許庁

第１層目配線３と第２層目配線５との間には、層間絶縁膜４が設けられ、第２層目配線５は、保護絶縁膜６で被覆される。例文帳に追加

An interlayer insulation film 4 is provided between the first-layer wiring 3 and the second-layer wiring 5, and the second- layer wiring 5 is covered with a protection insulation film 6. - 特許庁

問題となる層間絶縁樹脂厚のバラツキが少なく、ガラスクロスのない絶縁層を有するプリント配線板を提供すること。例文帳に追加

To provide a printed wiring board having less dispersion of interlayer insulating resin thickness, which becomes a problem, and having an insulating layer without glass cloth. - 特許庁

ダミー配線５０の上方に、絶縁膜（層間絶縁膜３７、第１及び第２保護膜３９，４０）を介して信号配線６を形成する。例文帳に追加

Above the dummy wiring 50, signal wiring 6 is formed through an insulating film (interlayer insulating film 37, first and second protective films 39 and 40). - 特許庁

第２プラグ及びストッパ膜を備える第２絶縁膜上に、導電膜パターン、層間絶縁膜を形成する。例文帳に追加

The second insulation film provided with the second plug and the stopper film has a conductive film pattern and interlayer insulation film formed thereon. - 特許庁

第３の層間絶縁膜２１とヒューズ２５との間には、耐透水性を有する絶縁膜２２が介在している。例文帳に追加

An insulating film 22 having a water permeability resistance is interposed between the third interlayer insulating film 21 and the fuse 25. - 特許庁

半導体基板上に層間絶縁膜１００、下層配線１０１、第１の絶縁膜１０２を堆積する。例文帳に追加

An interlayer insulating film 100, a lower layer wiring 101, and a first insulating film 102 are deposited on a semiconductor substrate. - 特許庁

そして、ヒューズ素子２ａ、２ｂの側面上には、層間絶縁膜１からなるヒューズ側部絶縁膜１ａが形成されている。例文帳に追加

A fuse side insulating film 1a of the interlayer insulating film 1 is formed on each of side surfaces of the fuse elements 2a, 2b. - 特許庁

Ｌ字サイドウォール１４は、層間絶縁膜２２と比べてエッチングレートが小さい絶縁材料により形成されている。例文帳に追加

The L-shaped sidewall 14 is formed of an insulating material having a smaller etching rate than the interlayer insulating film 22. - 特許庁

画素領域上には、複数の配線層３、４、６が形成され、配線層３、４、６間は層間絶縁膜によって絶縁されている。例文帳に追加

A plurality of wiring layers 3, 4, and 6 are formed on the pixel region, and an interlayer insulating film is provided at the wiring layers 3, 4, and 6 to thereby isolate therebetween. - 特許庁

配線上の絶縁膜の膜厚を厚く設定しながらも、層間絶縁膜の埋め込み性が良好な半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which has good embedding property of an interlayer dielectric film while setting the thicker dielectric film on a wiring. - 特許庁

層間絶縁膜２は、シリコン酸化膜２１と、絶縁塗布膜２２と、シリコン酸化膜２３Ａとからなる。例文帳に追加

An interlayer insulating film 2 is composed of a silicon oxide film 21, an insulating coated film 22, and a silicon oxide film 23A. - 特許庁

層間絶縁膜（特に、低誘電率絶縁膜）が剥離することを防止すると共に、封止樹脂がチップの裏面上に這い上がることを防止する。例文帳に追加

To prevent peeling of an interlayer insulating film (especially a low-dielectric-constant insulating film) and to prevent a sealing resin from creeping up on the rear surface of a chip. - 特許庁

詳しくは、半導体素子などにおける層間絶縁膜として、低比誘電率を示し、かつ酸素プラズマ耐性を有する絶縁膜を得る。例文帳に追加

To obtain an insulating film which has a low specific permeability and an oxygen plasma resistance as the interlayer insulating film used in semiconductor elements, etc. - 特許庁

導電体柱14Aの上方において容量素子用絶縁膜16および第1層間絶縁膜15を除去して配線用溝152を形成する。例文帳に追加

The capacitive element insulation film 16 and the groove wiring portion insulation film 15 are removed over the conductor post 14A to form a wiring groove 152. - 特許庁

パッド上でのプローブ針の先端の横滑りに起因する横方向の応力による層間絶縁膜や最終絶縁膜の損傷を防止する。例文帳に追加

To prevent damage to an interlayer dielectric and a final insulation film by lateral stress caused by a sideslip of the tip of a probing needle on a pad. - 特許庁

静電気によるＴＦＴ、層間絶縁膜の絶縁破壊を、面積を小さく抑え、かつ低コストで実現する。例文帳に追加

To achieve the dielectric breakdown of a TFT and an interlayer insulating film due to static electricity by suppressing an area to be small and at a low cost. - 特許庁

補助容量ライン２６を覆うように層間絶縁膜４８および平坦化絶縁膜５４が順に積層される。例文帳に追加

An inter-layer insulating film 48 and a flattening insulating film 54 are laminated in order covering the auxiliary capacitance line 26. - 特許庁

第二導電層１０が、底面が素子分離絶縁膜７の上部端面に接し、導電層間絶縁膜８ａ上に配置されている。例文帳に追加

A second conductive layer 10 is formed on the conductive interlayer insulating film 8a so that the bottom face of the second conductive layer 10 has contact with the upper end surface of the element isolation insulating film 7. - 特許庁

ストッパー膜４は、層間絶縁膜６よりもエッチング速度が小さい絶縁材料で形成されている。例文帳に追加

The stopper film 4 is formed with an insulating material having etching speed smaller that of the interlayer insulating film 6. - 特許庁

この構成全面を覆うように、層間絶縁膜としてリフロー性の高い第１の絶縁膜（例えばＢＰＳＧ膜）５を形成する。例文帳に追加

A first insulating film (for example, BPSG film) 5 of high reflow properties is so formed as to cover the entire surface of this structure as an interlayer insulating film. - 特許庁

導電層間絶縁膜８ａが第一導電層３の頂部上に配置され、素子分離絶縁膜７により分離されている。例文帳に追加

A conductive interlayer insulating film 8a is formed on the upper surface of each first conductive layer 3 and isolated by the element isolation insulating film 7. - 特許庁

また、トップゲート絶縁膜１８および層間絶縁膜１９には、コンタクトホール２５〜２８が形成されている。例文帳に追加

Further, the contact holes 25 to 28 are formed in the top gate insulating film 18 and interlayer insulating film 19. - 特許庁

前記の耐熱性塗膜または耐熱性絶縁パターンを表面保護層または層間絶縁層として有する電子部品。例文帳に追加

The electronic parts have the above heat-resistant coating film or a heat-resistant insulating pattern as a surface protective layer or an interlayer insulating layer. - 特許庁

Ｓｉ系絶縁膜との密着性向上が図られたＣＦ_ｘ膜を用いた半導体装置の層間絶縁膜構造を提供する。例文帳に追加

To provide an interlayer insulating film structure of a semiconductor device using a CF_x film whose adhesion to an Si-based insulating film is improved. - 特許庁

プレーン層を有し、層間樹脂絶縁層の絶縁劣化の生じない多層ビルドアップ配線板を提供する。例文帳に追加

To provide a multilayer build-up wiring board which is possessed of a plane layer and an interlayer insulating layer that is hardly deteriorated in insulating properties. - 特許庁

絶縁層間並びに絶縁層と配線回路との接続信頼性に優れた配線基板及びその製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To improve a reliability on a connection between insulating layers and the insulating layer and a wiring circuit. - 特許庁

金属間絶縁膜１１２上にはビアコンタクトホール１２０ｂを露出させるトレンチ１１８ｂを有する第２層間絶縁膜１１６を配させる。例文帳に追加

On the intermetal insulating film 112, there is disposed a secondary interlayer dielectric 116 having a trench 118b, which exposes the via contact hall 120b. - 特許庁

半導体装置の層間絶縁膜などに有用な比誘電率が低く、かつ銅拡散バリア性が高い絶縁膜を得る。例文帳に追加

To provide an insulating film which is useful as an interlayer dielectric, etc., of a semiconductor device and has a low relative dielectric constant and a high copper diffusion barrier property. - 特許庁

このようにすることにより、マスク絶縁膜２０ｂに段差が生じなくなり、層間絶縁膜２８表面の平坦化を図ることができる。例文帳に追加

Thereby a step-difference is no longer generated in the mask insulating film 20b, and the surface of the interlayer insulating film is flattened. - 特許庁

モールドパターン間のギャップを埋め込んで浮遊ゲート間を絶縁する層間絶縁層パターンを形成する。例文帳に追加

The gap between the mold patterns is embedded for forming an interlayer insulating layer pattern for insulating the floating gates. - 特許庁

絶縁シート，金属配線および層間絶縁膜それぞれの密着性を向上させて剥離を防止することを目的とする。例文帳に追加

To enhance an adhesive property of each of an insulating sheet, a metal wiring, and an interlayer insulating film to prevent a separation. - 特許庁

第１の層間絶縁膜２上に絶縁膜を形成し、スルーホール形成領域を覆うようにパターニングし、突出部３を形成する。例文帳に追加

An insulating film is formed on an first interlayer insulating film 2, the insulating film is patterned so as to cover a through-hole forming region, and a projection 3 is formed. - 特許庁

第１の層間絶縁膜４ａと凹部３の間に突起状のゲート絶縁膜凸部６ａが設けられる。例文帳に追加

A protruding gate insulating film protruding portion 6a is provided between the first inter-layer insulating film 4a and the recess 3. - 特許庁

前記のレリーフパターンを熱処理した耐熱性絶縁パターンを表面保護層または層間絶縁層として有する電子部品。例文帳に追加

The electronic parts have a heat-resistant insulating pattern obtained by heat treating the above relief pattern as a surface protective layer or an interlayer insulating layer. - 特許庁

薄膜トランジスタにおいて、下地膜、ゲート絶縁膜、層間絶縁膜を酸化珪素膜で形成する。例文帳に追加

In a thin film transistor, its foundational film, its gate insulation film, and its interlayer insulation film are formed out of silicon oxide films. - 特許庁