「放射性窒素」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

窒素ガスの放出に続いて行う水微噴霧の放射による消火効率を向上し、また、窒素ガス放出により酸素濃度を充分に低下させても安全性を確保可能とする。例文帳に追加

To improve fire extinguishing efficiency by the radiation of water fine spraying executed following the discharge of a nitrogen gas, and to secure safety even when an oxygen concentration is fully lowered by the nitrogen gas discharge. - 特許庁

導電性カーボンの官能基または多重結合と窒素含有化合物とを反応させてなる窒素含有導電性カーボンと、金属錯体と、の混合物に、加熱処理、放射線照射処理および放電処理の何れかの変性処理を行うことにより得られる変性物。例文帳に追加

The denatured object is obtained by performing denaturation processing of any one of heating process, radiation irradiating process and discharging process on a mixture of a nitrogen containing conductive carbon and a metal complex, the nitrogen containing conductive carbon being obtained by reacting a functional group or a multiple bond of a conductive carbon and a nitrogen content compound. - 特許庁

（ａ）カチオン重合性化合物、（ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（ｃ）塩基性窒素原子を有し、該窒素原子に第３級アルキル基が少なくとも２個置換したヒンダードアミン化合物、を含有することを特徴とするインク組成物。例文帳に追加

The ink composition comprises (a) a cationically polymerizable compound, (b) a compound generating an acid by radiation irradiation and (c) a hindered amine compound having a basic nitrogen atom substituted with at least two tertiary alkyl groups. - 特許庁

単純な工程で、硝酸ナトリウムをより安定で溶解しにくいガラス形態に転換し、放射性物質の閉じ込め性能を高めるとともに、硝酸ナトリウムの分解により生じるガス状の酸化窒素を窒素に還元し無害化する放射性廃棄物の処理方法および処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for treating radioactive wastes which heighten the containment performance for radioactive substances by converting sodium nitrate into a more stable and less soluble vitreous form in a simple process and make gaseous nitrogen oxide produced through the decomposition of the sodium nitrate harmless by reducing the gaseous nitrogen oxide into nitrogen. - 特許庁

本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して遊離酸を発生する含窒素複素環カチオン構造を側鎖に備えた繰り返し単位（Ａ）を含んだ樹脂（Ｐ）を含有している。例文帳に追加

A positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a resin (P) including a repeating unit (A) having, in a side chain, nitrogen-containing heterocyclic cationic structure that is decomposed by irradiation of actinic ray or radiation for generating free acid. - 特許庁

少なくとも１個の水素原子が窒素原子に結合した構造を持つ化合物の上記窒素原子に結合した水素原子の１個以上を、特定の基で保護した化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

This radiation-sensitive resin composition contains a compound in which at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom of a compound having such a structure that at least one hydrogen atom is bonded to the nitrogen atom is protected with a specified group. - 特許庁

低コストで実施でき、しかも硝酸性または亜硝酸性窒素の環境中への放出を防ぐことができる放射性アスファルト固化体の処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of processing radioactive asphalt solidified body capable of being executed at a low cost and preventing discharge of nitrogen nitrate and nitrous acid nitrogen into the environment. - 特許庁

（ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１,２−キノンジアジド化合物、（ｃ）塩基性含窒素化合物、および（ｄ）メラミン類、を含有する感放射線性樹脂組成物並びにそれから形成された絶縁膜。例文帳に追加

The radiation sensitive resin composition contains (a) an alkali- soluble resin, (b) a 1,2-quinonediazido compound, (c) a basic nitrogen-containing compound and (d) melamines. - 特許庁

（ａ）カチオン重合性化合物、（ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（ｃ）塩基性窒素原子を有し、共役酸のｐＫａが１０より大きな値を示す化合物、を含有することを特徴とするインク組成物。例文帳に追加

The ink composition contains a compound containing (a) a cationically polymerizable compound, (b) a compound generating an acid by irradiation of radioactive rays and (c) a compound having a basic nitrogen atom and expressing ≥10 pKa of a conjugate acid. - 特許庁

（ａ）カチオン重合性化合物、（ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（ｃ）分子内に塩基性窒素原子とエーテル結合とを有する化合物、を含有することを特徴とするインク組成物。例文帳に追加

The invention relates to the ink composition comprising (a) a compound capable of carrying out a cationic polymerization, (b) a compound producing an acid by irradiation with a radioactive ray and (c) a compound having an ether linkage and a basic nitrogen atom in the molecule. - 特許庁

（ａ）カチオン重合性化合物、（ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（ｃ）塩基性窒素原子を有し、共役酸のｐＫａが３〜１０の値を示す化合物、を含有することを特徴とするインク組成物。例文帳に追加

The ink composition contains a compound containing (a) a cationically polymerizable compound, (b) a compound generating an acid by irradiating the radioactive rays and (c) a compound having a basic nitrogen atom and expressing 3-10 pKa of a conjugate acid. - 特許庁

本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、樹脂と、感放射線性酸発生剤と、ｔ−ブトキシカルボニル基が窒素原子に結合している化合物からなる酸拡散制御剤と、溶剤と、を含有する。例文帳に追加

The radiation sensitive resin composition for liquid immersion exposure is used in liquid immersion exposure for exposing the resist film through the water, and contains acid diffusion control agent composed of the resin, radiation sensitive acid generation agent, the compound of tert-butoxy carbonyl group combined with nitrogen atom, and solvent. - 特許庁

本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、樹脂と、感放射線性酸発生剤と、ｔ−ブトキシカルボニル基が窒素原子に結合している化合物からなる酸拡散制御剤と、溶剤と、を含有する。例文帳に追加

The radiation-sensitive resin composition for immersion exposure is used for immersion exposure for exposing a resist coating through water, and the composition contains a resin, a radiation-sensitive acid generator, an acid diffusion inhibitor comprising a compound having a t-butoxycarbonyl group bonded to a nitrogen atom, and a solvent. - 特許庁

原子力関連施設から発生する窒素成分が含まれた廃棄物を固化する際に、放射性核種の溶出を未然に防ぐための処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a processing method to prevent a radioactive nuclide from eluting when solidifying waste containing nitrogen composition generated from a nuclear related facility. - 特許庁

原子炉圧力容器内で生成された放射性窒素のタービン系への移行を低減するタービン系の線量低減方法およびその方法を適用する原子力発電プラントを提供する。例文帳に追加

To provide a method for decreasing radiation doses in a turbine system to reduce the transfer of the radionitrogen generated in a reactor pressure vessel to the turbine system and a nuclear power plant to which the method is applied. - 特許庁

含窒素基を有する重合体と、下記一般式（１）で表される化合物と、感放射線性酸発生剤と、溶媒とを含有するバイオチップ製造用樹脂組成物。例文帳に追加

The resin composition for producing the biochip includes a polymer having a nitrogen-containing group, a compound represented by formula (1), a radiation-sensitive acid-generating agent and a solvent. - 特許庁

以前の処理ステップからトンネル障壁層に残される（disposed）、酸素あるいは窒素などの別の反応物質が紫外線放射によって活性化され、トンネル障壁層内の欠陥を修復する。例文帳に追加

Another reactive substance, such as oxygen, nitrogen, etc., disposed in the tunnel barrier layer after a previous treatment step is activated by the irradiated ultraviolet rays and restores defects in the barrier layer. - 特許庁

（Ａ）含窒素基を有する重合体と、（Ｂ）増感剤と、（Ｃ）感放射線性酸発生剤と、（Ｄ）下記一般式（１）で表される化合物と、（Ｅ）溶媒とを含有するバイオチップ製造用樹脂組成物。例文帳に追加

The resin composition for producing the biochip includes (A) a polymer containing a nitrogen-containing group, (B) a sensitizer, (C) a radiation-sensitive acid-generating agent, (D) a compound represented by formula (1), and (E) a solvent. - 特許庁

樹脂と、感放射線性酸発生剤と、含窒素化合物と、溶剤とを含有し、且つ、前記樹脂のガラス転移温度が、レジストパターンを形成する際のプレアプリケーションベーク温度以下である。例文帳に追加

The radiation-sensitive resin composition comprises a resin, a radiation-sensitive acid generator, a nitrogen-containing compound and a solvent, wherein the resin has a glass transition temperature not over a preapplication bake temperature in the formation of a resist pattern. - 特許庁

［Ａ］側鎖に３級炭素を有するエステル基が窒素原子に結合する構造を含む構造単位（１）を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。例文帳に追加

The radiation sensitive resin composition contains a [A] polymer having a structural unit (1) including a structure in which an ester group having a tertiary carbon in a side chain bonds to a nitrogen atom. - 特許庁

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性から酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、並びに（Ｃ）特定の窒素含有部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which is made alkali-soluble by the action of the acid and (C) a nitrogen-containing compound having at least one specified nitrogen-containing partial structure in one molecule. - 特許庁

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性又は難溶性から酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、並びに（Ｃ）特定の窒素含有部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive photoresist composition contains a compound (A) generating an acid by the irradiation with active ray or radial ray, a resin (B) made to be alkali soluble from insoluble or hardly soluble in alkali by the action of the acid and a nitrogen-containing compound (C) having at least one specific nitrogen-containing partial structure in the molecule. - 特許庁

（Ａ）特定構造を有する酸解離性基含有窒素化合物、（Ｂ）酸解離性基で保護されたアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸解離性基が解離した時にアルカリ可溶性となる樹脂、および（Ｃ）感放射線性酸発生剤を含むことを特徴とする、感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

The radiation-sensitive resin composition includes (A) an acid dissociable group-containing nitrogen compound having a specific structure, (B) a resin which is alkali-insoluble or scarcely soluble in alkali, and is protected by an acid dissociable group, and which becomes alkali-soluble upon dissociation of the acid dissociable group, and (C) a radiation-sensitive acid generator. - 特許庁

本発明に係るポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）を含み、前記繰り返し単位（Ａ）は、単環式又は多環式の含窒素複素環を含んだカチオン構造を備えている樹脂（Ｐ）を含有している。例文帳に追加

A positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises a repeating unit (A) which decomposes with radiation of an actinic ray or radiation so as to generate acid and the repeating unit (A) includes a resin (P) which has a cation structure including monocyclic or polycyclic nitrogen-containing heterocycle. - 特許庁

本発明の方法は、導入する窒素原子を含んだ反応性化合物と酸化チタンを混合後、電離性放射線を照射して、酸化チタンおよび反応性化合物を部分的に活性化し、続いて無酸素雰囲気下で加熱処理することを含む。例文帳に追加

The method comprises the steps of mixing a reactive compound containing nitrogen atom to be introduced with titanium oxide, then casting ionizing radiation to partially activate the titanium oxide and the reactive compound and subsequently heating them in an oxygen-free atmosphere. - 特許庁

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定の窒素含有部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive type resist composition contains (A) a resin having an alicyclic hydrocarbon group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (C) a nitrogen-containing compound having at least one specified nitrogen-containing partial structure in one molecule. - 特許庁

ネガ型感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）少なくとも１個の水素原子が窒素原子に結合したアミノ基を有する化合物の該水素原子がｔ−ブトキシカルボニル基で置換された低分子化合物、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、（Ｄ）ｐ−ヒドロキシスチレン／スチレン共重合体を含むアルカリ可溶性樹脂、並びに（Ｅ）架橋剤を含有する。例文帳に追加

The negative radiation-sensitive resin composition comprises (A) a low-molecular compound obtained by substituting at least one hydrogen atom of a compound, having an amino group in which the hydrogen atom bonds to a nitrogen atom by a t-butoxycarbonyl group; (B) a radiation-sensitive acid generator; (D) an alkali-soluble resin comprising a p-hydroxystyrene/styrene copolymer; and (E) a crosslinking agent. - 特許庁

光重合開始剤としてのオキシムエステル残基およびアシル残基をカルバゾールのフェニル基および窒素原子に有する、新規なカルバゾール化合物及びエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物を含有する感放射線性組成物。例文帳に追加

The radiation-sensitive composition contains a polymerizable compound having a new carbazole compound and an ethylenically unsaturated double bond, the new carbazole compound having an oxime ester residue as a photopolymerization initiator and an acyl residue at a phenyl group and a nitrogen atom of the carbazole. - 特許庁

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する、シリコン原子を含有する樹脂、(Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）溶剤、及び（Ｄ）分子内に含窒素塩基性基及び酸性基を有する化合物を含有することを特徴とする感放射線性レジスト組成物。例文帳に追加

The radiation sensitive resist composition contains (A) a resin containing Si atoms and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a photo-acid generating agent, (C) a solvent and (D) a compound having a nitrogen-containing basic group and an acidic group in one molecule. - 特許庁

下記成分（Ａ）及び（Ｂ）：（Ａ）平均一次粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍである、リン含有酸化錫を主成分とする粒子（Ｂ）分子内に窒素原子と重合性不飽和基とを有する化合物を含有する放射線硬化性組成物。例文帳に追加

The radiation curable composition contains the following components (A) and (B): (A) a particle having an average primary particle diameter of 10-100 nm and composed mainly of a phosphorus-containing tin oxide and (B) a compound having a nitrogen atom and a polymerizable unsaturated group in the molecule. - 特許庁

（ａ）カチオン重合性化合物、及び（ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物、および（ｃ）塩基性窒素含有化合物、を含有し、全インク量に対する（ｃ）の質量比が、１．１％〜１０％であることを特徴とするインク組成物、により達成される。例文帳に追加

This ink composition is characterized by comprising (a) a cation polymerizable compound, (b) a compound which produces an acid by the irradiation of radiations, and (c) a basic nitrogen-containing compound, wherein (c) the basic nitrogen-containing compound is contained in an amount of 1.1 to 10 mass% based on the total mass of the ink composition. - 特許庁

光を放射する半導体発光素子１０と、半導体発光素子から放射された光の少なくとも一部を吸収したのち波長変換された光を出射する蛍光体と、光透過性を有し、珪素−窒素結合を少なくとも一部に有する無機材料からなり、蛍光体を保持し、半導体発光素子を封止する封止材５と、を有する。例文帳に追加

There are provided a semiconductor light-emitting element 10 for emitting light; a phosphor for absorbing at least a part of the light emitted from the semiconductor light-emitting element to convert the wavelengths thereof; and a sealing material 5 formed of an inorganic material for at least partially forming an Si-N bond to hold the phosphor and seal the semiconductor light-emitting element. - 特許庁

空気Ａを窒素分離膜６で濾過して酸素富化ガスＯ_R を生成し、該酸素富化ガスＯ_R に放射線を照射し、得られた活性化ガスＧと、燃料とを混合して燃焼装置Ｅで燃焼させる様にすることによって、酸化反応を促進する。例文帳に追加

Air A is filtered by a nitrogen separation film 6 to form oxygen enriched gas O_R, radiation is irradiated on the oxygen enriched gas O_R, and obtained activated gas G is mixed with fuel and is burned in the combustion device E to accelerate oxidation reaction. - 特許庁

本発明の沸騰水型原子力プラントは、上記課題を解決するために、原子力プラントの原子炉圧力容器内に設置される蒸気乾燥器４内の蒸気が通過する領域に、放射性窒素化合物（Ｎ−１６）を捕捉する材料を担持した多孔体を設置する。例文帳に追加

In the nuclear power plant with a boiling water reactor, madreporic bodies carrying a material that captures radioactive nitride (N-16) are set up in a region passed by the steam inside a steam drier 4 mounted inside a reactor pressure vessel in the nuclear power plant. - 特許庁

ＡｌＧａＮよりなるｎ型層、ＡｌＧａＩｎＮよりなる活性層、およびｐ型層を有し、発光ピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光を放射する、発光強度の大きい窒素化合物半導体発光素子およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a nitrogen compound semiconductor light-emitting element with large emission intensity, which comprises an n-type layer composed of AlGaN, an active layer composed of AlGaInN, and a p-type layer, and emits ultraviolet light with an emission peak wavelength of 400 nm or less, and to provide a method of manufacturing the same. - 特許庁

（１）（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ水溶液に不溶性又は難溶性であり、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となる性質を有するポリマー、及び、（Ｃ）酸の作用により分解して、分子内にカルボキシル基を発生する含窒素化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The positive type resist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a polymer which is insoluble or slightly soluble in an aqueous alkali solution and is made soluble in the aqueous alkali solution by the action of the acid and (C) a nitrogen-containing compound which is decomposed by the action of the acid and generates a carboxyl group in its molecule. - 特許庁

（ａ）側鎖にシリコン原子を有し、かつアルカリには不溶性又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液には可溶となるポリマー、（ｂ）活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物、（ｃ）特定の部分構造を分子内に少なくとも一つ有する含窒素化合物、を含有することを特徴とするポジ型シリコン含有感光性組成物。例文帳に追加

The positive-type silicone-containing photosensitive composition contains (a) an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble polymer, having silicon atoms in a side chain and convertible into a polymer soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid, (b) a compound which generates acid, when irradiated with active light or radiation and (c) a nitrogen-containing compound having at least one specified partial structure in the molecule. - 特許庁

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）分子内に含窒素塩基性基及び酸性基を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive composition is characterized in containing (A) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or a radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which decomposes by the effect of an acid to increase the solubility in an alkali developer liquid, and (C) a compound having a nitrogen-containing basic group and an acidic group in the molecule. - 特許庁

（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、（Ｄ）含窒素複素環化合物のＮ−ビニル誘導体、Ｎ−アクリロイルモルフォリンおよびＮ−メタクリロイルモルフォリンの群から選ばれる少なくとも１種の単官能性単量体、並びに（Ｅ）光重合開始剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用感放射線性組成物。例文帳に追加

The radiation sensitive composition contains (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer, (D) at least one monofunctional monomer selected from the group consisting of N-vinyl derivatives, N-acryloylmorpholine and N-methacryloylmorpholine as N-containing heterocyclic compounds and (E) a photopolymerization initiator. - 特許庁

紫外線エンハンサUVEは、紫外線透過性外囲器21と、紫外線透過性外囲器の内部に封入された少なくとも窒素を含むイオン化媒体と、紫外線透過性外囲器の内部に封入されたイオン化媒体の放電を生起するように配設された内部電極22および外部電極23とを具備しており、イオン化媒体の放電によって紫外線を放射する。例文帳に追加

The ultraviolet ray enhancer UVE includes: an ultraviolet ray translucent envelope 21; an ionized medium to contain at least nitrogen sealed into the inside of the ultraviolet ray translucent envelope; and an inner-electrode 22 and an outer-electrode 23 arranged and installed so as to form discharge of the ionized medium sealed into the interior of the ultraviolet ray envelope, wherein the ultraviolet rays are radiated by the discharge of the ionized medium. - 特許庁

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）少なくとも一つのフッ素原子を含有する含窒素化合物を含有するポジ型感光性組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and (C) a nitrogen-containing compound containing at least one fluorine atom. - 特許庁

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｃ）特定の部分構造を分子内に有する含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The positive type photosensitive resin composition is characterized by containing (A) a compound generating acid by irradiation of an active light ray or a radial ray, (B) a resin increasing its rate of solution for an alikali developer by the action of an acid having specified cycle units, and (C) a nitrogenous compound having a specific partial molecular structure. - 特許庁

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により炭素数２又は３のアルキルスルホン酸を発生する化合物、及び（Ｃ）窒素原子が分解性基で保護されたアミノ基を含む低分子化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。例文帳に追加

The positive resist composition contains (A) a resin whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid, (B) a compound capable of generating a 2 or 3C alkylsulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, and (C) a low molecular compound containing an amino group with a nitrogen atom protected by a degradable group. - 特許庁

本組成物は、樹脂と、感放射線性酸発生剤と、含窒素化合物と、溶剤とを含有し、前記樹脂が、酸の作用によりアルカリ可溶性を発現する構造を有する繰り返し単位を含み、この繰り返し単位の含有量が、前記樹脂を構成する繰り返し単位の全量に対して、６０モル％以上である。例文帳に追加

The radiation-sensitive resin composition comprises a resin, a radiation-sensitive acid generator, a nitrogen-containing compound and a solvent, wherein the resin contains a repeating unit having a structure which exhibits alkali solubility under the action of an acid and the content of this repeating unit is ≥60 mol% based on the total amount of repeating units constituting the resin. - 特許庁

放射線照射により酸を生じる化合物およびカルボキシル基および／またはフェノール性水酸基を有するバインダ樹脂、１分子中に少なくとも２個以上のビニルエーテル基を有する化合物、および窒素含有樹脂結合剤を酸触媒付加反応させて得られる組成物を少なくとも含むパタン形成材料を用いる。例文帳に追加

The pattern forming material contains at least a compound which generates an acid when irradiated with radiation and a composition obtained by bringing a binder resin having carboxyl groups and/or phenolic hydroxyl groups, a compound having two or more vinyl ether groups in one molecule and a nitrogen-containing resin binder into an acid catalyzed addition reaction. - 特許庁