1016万例文収録!

「窒化ケイ素化合物」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 窒化ケイ素化合物に関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

窒化ケイ素化合物の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 66



例文

素含有ケイ素化合膜の形成方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING SILICON COMPOUND FILM COMPRISING NITROGEN - 特許庁

好適な密着促進剤には、素、素含有化合、炭素含有化合、炭素及び素含有化合ケイ素含有化合ケイ素及び炭素含有化合ケイ素、炭素及び素含有化合、そしてそれらの混合が含まれる。例文帳に追加

The adhesion promoting agent preferably includes nitrogen, nitrogen containing compounds, carbon containing compounds, carbon and nitrogen containing compounds, silicon containing compounds, silicon and carbon containing compounds, silicon, carbon and nitrogen containing compounds, and their mixtures. - 特許庁

さらに可溶性ケイ素化合を含むものは、酸ケイ素の析出がなくなおかつ酸ケイ素に対するケイ素のエッチング選択比も高い。例文帳に追加

Further, by the etching composition comprising a soluble silicon compound, there will be no precipitation of the silicon oxide and etching selectivity for silicon nitride to silicon oxide is high as well. - 特許庁

ケイ素およびケイ素膜の誘電的特性を変更するための有機シラン化合例文帳に追加

ORGANOSILANE COMPOUNDS FOR MODIFYING DIELECTRIC PROPERTY OF SILICON OXIDE FILM AND SILICON NITRIDE FILM - 特許庁

例文

また、前記ケイ素化合中には、炭ケイ素およびまたはケイ素は実質的に含まれないことが好ましい。例文帳に追加

It is preferable that silicon carbide or silicon nitride is substantially not contained in the silicon compound. - 特許庁


例文

1個以上のメルカプト基を有する有機ケイ素化合とクロロシランとを含素複素環化合の存在下に反応させて、硫黄−ケイ素結合を形成することを特徴とする有機ケイ素化合の製造方法。例文帳に追加

In the method for producing the organosilicon compound, an organosilicon compound having one or more mercapto groups is reacted with chlorosilane in the presence of a nitrogen-containing heterocyclic compound, to thereby form a sulfur-silicon bond. - 特許庁

リン酸、可溶性ケイ素化合、硝酸及び/又は硝酸塩、水を含んでなり、しかもフッ酸を含有しないケイ素のエッチング用組成では、酸ケイ素に対するケイ素のエッチング選択比が高く、なおかつバッチ処理を繰り返した場合における酸ケイ素の再析出の問題がない。例文帳に追加

The composition for etching silicon nitride which contains phosphoric acid, a soluble silicon compound, nitric acid and/or nitrate, and water and contains no hydrofluoric acid has a high etching selection ratio of silicon nitride to silicon oxide and is free of a problem of redeposition of silicon oxide when a batch process is repeated. - 特許庁

硫酸、フッ及び水を含有するエッチング液でケイ素及び/又はケイ素をエッチングした後、このエッチング液を加熱及び/又は減圧して、エッチングにより生じたケイ素化合を除去する。例文帳に追加

Silicon nitride and/or silicon nitride oxide is etched by an etchant containing sulfuric acid, fluoride and water, and thereafter the etchant is heated and/or depressurized to remove a silicon compound produced by the etching. - 特許庁

シリコン含有化合素含有化合とを反応させることによりケイ素層204を形成する。例文帳に追加

A silicon-contained compound is reacted with a nitride-contained compound to form a silicon nitride layer 204. - 特許庁

例文

有機ケイ素化合を含有し、有機ケイ素化合が、分子内に、1個以上のケイ素−酸素結合と、1〜10個の硫黄原子と、を有し、かつ、ケイ素原子から原子数で3〜8個離れた位置に素原子を1個以上有するポリサルファイド系硬型組成である。例文帳に追加

The polysulfide-based curable composition contains an organic silicon compound which has ≥1 silicon-oxygen bonds, 1-10 sulfur atoms and ≥1 nitrogen atoms at positions apart from silicon atoms in 3-8 number of atoms in the molecule. - 特許庁

例文

本発明のケイ素研磨用組成は、コロイダルシリカと、リン酸系化合および硫酸化合からなる研磨助剤とを含む。例文帳に追加

The composition for polishing the silicon nitride contains colloidal silica, and a polishing aid comprising a phosphoric acid compound and a sulfuric acid compound. - 特許庁

ラジカル重合性化合と、ラジカル重合開始剤と、素−ケイ素結合を有する化合とを含有することを特徴とする接着剤組成例文帳に追加

This adhesive composition contains a radically polymerizable compound, a radical polymerization initiator and a compound having a nitrogen-silicon bond. - 特許庁

リン化合、ホウ素化合及び/又はそれらのフッを含んでなるケイ素のエッチング用組成では、長時間の使用においても酸ケイ素の析出がない。例文帳に追加

By the etching composition comprising a phosphorus compound, a boron compound, a silicon compound and/or their fluorides thereof, there will be no precipitation of silicon oxide even when the composition is used for a long period of time. - 特許庁

ケイ素焼結体は、ケイ素を75〜97質量%、チタン粒子を0.2〜5質量%、およびSi−R−Al−O−N化合(R:希土類元素)を主として含む粒界相を2〜20質量%の範囲で含有する。例文帳に追加

The silicon nitride sintered compact comprises silicon nitride within the range of 75-97 mass % titanium nitride particles within the range of 0.2-5 mass % and a grain boundary phase consisting essentially of an Si-R-Al- O-N compound (R is a rare earth element) within the range of 2-20 mass %. - 特許庁

複合層20は、ケイ素含有の化合、例えば、酸ケイ素ケイ素、あるいは、それらの混合である誘電材料16と、相変質、素をドープした相変質、あるいは、酸素をドープした相変質である低熱伝導材料18、との交錯層、あるいは、混合層である。例文帳に追加

The composite layer 20 is a complex layer or a mixed layer of the dielectric material 16 which is a silicon-containing compound, for example, silicon oxide, silicon nitride or a mixture of them, and the low heat-conducting material 18 which is a phase change material, a phase change material doped with nitrogen, or a phase change material doped with oxygen. - 特許庁

ケイ素粉末、非金属系焼結助剤、及び化合の混合を、素雰囲気下で焼結する工程を有することを特徴とする炭ケイ素焼結体の製造方法である。例文帳に追加

This method for producing the silicon carbide sintered body is characterized by a step for sintering a mixture of a silicon carbide powder, a nonmetallic sintering adjuvant and a nitrogen compound in a nitrogen atmosphere. - 特許庁

基板本体11を構成する母材としては、サファイア,炭ケイ素あるいは系III−V族化合が用いられる。例文帳に追加

As the mother material to constitute the main body 11, a saphire, a silicon carbide or a nitride III-V compound is used. - 特許庁

アスファルト、熱可塑性樹脂、及び有機ケイ素化合を含むホットメルト系目地材料であって、前記有機ケイ素化合が、分子内に1個以上のケイ素−酸素結合と、硫黄原子と、素原子を有することを特徴とするホットメルト系目地材料。例文帳に追加

This hot-melt joint material includes asphalt, a thermoplastic resin and an organosilicon compound, wherein the organosilicon compound has at least one silicon-oxygen bond, a sulfur atom and a nitrogen atom in the molecule. - 特許庁

ケイ素を含む原料を用い、素中においてケイ素せしめる反応焼結の後に、緻密するケイ素基セラミックスの製造方法において、出発原料として主原料であるケイ素に少なくともEuおよびCeを含む化合のいずれかもしくは両方を添加した混合粉末を用い、成形後、反応焼結及び焼結による緻密を行う。例文帳に追加

In the manufacturing method of the silicon nitride ceramic in which a raw material containing silicon is used, and after the reaction sintering to nitride the silicon in nitrogen, the densification is carried out, a mixed powder in which either or both of a compound containing Eu and a compound containing Ce are added to the silicon as a main raw material as a starting raw material, and after molding, the reaction sintering and the densification by sintering are carried out. - 特許庁

高密度されたケイ素体は、ランタナ系焼結助剤(ランタン、ネオジウム)、アルミニウム化合系焼結助剤を用いて形成することができる。例文帳に追加

The densified silicon nitride body can be formed using a lanthana-based sintering aid (lanthanum, neodymium) and an aluminum compound-based sintering aid. - 特許庁

素原子を含む複素環化合とリン酸からなる化合を、有機ケイ素化合からなる疎水性化合の1種又は2種以上で表面処理してなることを特徴とする難燃性添加例文帳に追加

The fire-resistant additive is produced by surface-treating the compound comprising the heterocyclic compound containing a nitrogen atom and phosphoric acid with one or more hydrophobic compounds each comprising an organic silicon compound. - 特許庁

本発明の実施形態による酸蛍光体の製造方法は、一般式(Sr,Eu)_2Si_5N_8で表される化合ケイ素またはケイ素粉、およびアルミニウムを混合し、加圧素雰囲気中で焼成する工程を含むことを特徴とするものである。例文帳に追加

The process for the production of the oxynitride fluorescent substance includes a step of mixing a compound represented by the general formula: (Sr, Eu)_2Si_5N_8, silicon nitride or silicon powder, and aluminum nitride, and then firing the mixture in a nitrogen atmosphere under high pressure. - 特許庁

アルミニウム又は酸ケイ素の一方又は双方と、ケイ素と、アルミニウムと、ユーロピウム化合とからなる原料を空気透過度0.1cm^3/cm^2sMPa以下のホウ素製の容器中、素雰囲気下で焼成することを特徴とする。例文帳に追加

A raw material comprising either or both of aluminum oxide and silicon oxide, silicon nitride, aluminum nitride and a europium compound is fired under a nitrogen atmosphere in a container made of boron nitride whose air permeability is ≤0.1 cm^3/cm^2 s MPa. - 特許庁

3a族化合、2a族及び4a族化合の少なくとも1種以上を所定量含有させたケイ素焼結体に、SiC等の炭を1〜5重量部含有させることにより、ケイ素結晶粒子の異常粒成長を抑制すると共に熱伝導率の向上を図る。例文帳に追加

The silicon nitride ceramic sintered compact contains a specified amount of at least one compound selected from compounds of group 3a, 2a, and 4a elements and 1 to 5 wt parts of carbonide such as SiC, etc., to suppress an abnormal growth of SiC crystalline particles and to improve thermal conductivity. - 特許庁

長軸径が0.1μm以下のチタン属元素の粒子を0.2〜5重量%、Si−R−Al−O−N化合(Rは希土類元素を表す。)を主として含む粒界相を2〜20重量%、及びケイ素を残量、並びにCNTを外掛けで0.3〜12重量%含有して成るケイ素焼結体、及びこのケイ素焼結体からなる耐摩耗性部材である。例文帳に追加

The wear resistant member comprises the silicon nitride sintered compact and is useful as a wear resistant member. - 特許庁

有機に対する反応基aを一つ以上有し、素原子を含む原子団によりケイ素原子同士がつながれた構造bを一つ以上有することを特徴とする有機ケイ素化合に関するものである。例文帳に追加

The organosilicon compound includes one or more reactive groups (a) to an organic substance and one or more structures (b) in which silicon atoms are bonded to each other by an atomic group containing a nitrogen atom. - 特許庁

総量100質量部に対し、有機ケイ素化合2〜20質量部と、有機溶剤を80〜98質量部と、を含有し、有機ケイ素化合が、分子内に、1個以上のケイ素−酸素結合と、1〜10個の硫黄原子と、を有し、かつ、ケイ素原子から原子数で3〜8個離れた位置に素原子を1個以上有するシーリング材用接着剤である。例文帳に追加

The adhesive for sealing materials comprises 2-20 pts.mass organic silicon compound and 80-98 pts.mass organic solvent based on 100 pts.mass sum total amount, wherein the organic silicon compound has, in a molecule, ≥1 silicon-oxygen bonds, 1-10 sulfur atoms and ≥1 nitrogen atoms at positions apart from the silicon atoms by 3-8 number of atoms. - 特許庁

シロキサン系又はシルセスキオキサン系等のケイ素含有高分子化合を主成分とする基材樹脂を用いたレジスト組成において、素系化合の代わりに、特定のスルホニウム化合をクエンチャーとして用いる。例文帳に追加

In a resist composition using a base resin based on a siloxane-based or silsesquioxane-based polymer compound containing silicon, a specific sulfonium compound is used as a quencher in place of a nitrogen base compound. - 特許庁

そして、このクラッド層24に高温の炭素やケイ素あるいは息の化合ガスの雰囲気に置くことにより炭素やケイ素素を金属格子に侵入させる侵炭処理や侵ケイ処理,処理を行なってその表層部あるいは全層をセラミックする。例文帳に追加

Carburizing treatment, silicifying treatment, nitriding treatment for intruding carbon, silicon and nitrogen into a metal grid while placing the clad layer 24 in the atmosphere of the high temperature compound gas of carbon, silicon or nitrogen so as to form a surface layer or the whole layer into ceramic. - 特許庁

分子内に、一つ以上の硫黄原子(S)と、一つ以上のケイ素原子(Si)と、一つ以上の素原子(N)とを有し、且つ前記ケイ素原子(Si)が一つのSi−O結合と三つのSi−C結合を有することを特徴とする有機ケイ素化合である。例文帳に追加

An organosilicon compound comprises, in a molecule: one or more sulfur atom (S); one or more silicon atom (Si); and one or more nitrogen atom (N), wherein the silicon atom (Si) has one Si-O bond and three Si-C bonds. - 特許庁

耐摩耗性部材は、ケイ素粉末に、希土類化合を酸に換算して0.5〜10質量%、チタン化合チタンに換算して0.1〜5質量%、酸アルミニウムを0.1〜5質量%、およびアルミニウムを5質量%以下の範囲で添加した混合原料粉末を成形、焼結してなるケイ素焼結体を具備する。例文帳に追加

The wear-resistant member includes the silicon nitride sintered body which is composed by forming and sintering a mixed raw material powder prepared by adding, to silicon nitride powders: 0.5 to 10 mass% of rare earth element in terms of an oxide; 0.1 to 5 mass% of titanium compound in terms of a titanium nitride; 0.1 to 5 mass% of aluminum oxide; and 5 mass% or less of aluminum nitride. - 特許庁

ケイ素粉末及び非金属系焼結助剤を含む混合粉体を高温高圧下で焼結する炭ケイ素焼結体の製造方法において、炭ケイ素粉末100質量部に対して非金属系焼結助剤を6〜16質量部及び素源含有化合を0.1〜1.0質量部加えることを特徴とする炭ケイ素焼結体の製造方法。例文帳に追加

The method for producing a silicon carbide sintered compact includes sintering mixed powder containing silicon carbide powder and a nonmetallic sintering aid at high temperature and high pressure, wherein 6-16 pts.mass of the nonmetallic sintering aid and 0.1-1.0 pt.mass of a nitrogen source-containing compound are added to 100 pts.mass of the silicon carbide powder. - 特許庁

(A)分子鎖末端がシラノール基で封鎖されたオルガノポリシロキサン、(B)ケイ素原子に結合したアミノキシ基を1分子中に平均して2個以上含有する含素有機ケイ素化合、(C)特定の有機ケイ素化合、および、(D)炭酸カルシウム粉末からなる室温硬性オルガノポリシロキサン組成およびその硬例文帳に追加

The room temperature-curable organopolysiloxane composition comprises (A) an organopolysiloxane whose molecular terminals have been blocked with silanol groups, (B) a nitrogen-containing organosilicon compound having an average of two or more aminoxy groups bonded to the silicon atom per molecule, (C) a specific organosilicon compound, and (D) a calcium carbonate powder, and by curing the composition the cured product is obtained. - 特許庁

前記フッ素化合をフッケイ素、フッ炭素、フッ素の中から選ばれるものとし、該フッ素化合と反応してフッ素ガスを遊離する質が酸素とする。例文帳に追加

The fluorine compound is selected from silicon fluoride, carbon fluoride, and nitrogen fluoride and the substance which reacts with the fluorine compound and liberates fluorine gas is oxygen. - 特許庁

ケイ素粉末を、フラックス中で熱処理した後、アルカリ溶液処理と酸溶液処理を繰り返し行うことによりフラックス成分を溶解し、棒状ケイ素フィラーを単離することを特徴とする製造方法、及びフラックス成分が、アルカリ土類金属、アルカリ金属、ケイ素の酸及び、乃至は加熱中の分解により上記のものを生じる前駆体の単独或いは数種の化合の組み合わせよりなることを特徴とする上記の棒状ケイ素フィラーの製造方法。例文帳に追加

In this method by which the bar-shaped silicon nitride filler is isolated by heat-treating silicon nitride powder in flux and repeating an alkali solution treatment and an acid solution treatment thereby dissolving the flux component, the flux component consists of a single compound or a combination of several compounds of an oxide and a nitride of an alkaline earth metal, an alkali metal or a precursor producing the above compound by thermal decomposition . - 特許庁

研磨粒子並びにカルボン酸官能基及びアミン類とハロゲンから選ばれる第二の官能基の両方を有する有機化合を含んでなる、学機械研摩法を用いて製品の表面からケイ素に優先して二酸ケイ素を選択的に除去するのに用いる水性スラリー。例文帳に追加

This aqueous slurry contains polishing particles and an organic compound having a carboxylic-acid-functional group and a second functional group selected from among amine groups and halide groups and is used for removing silicon dioxide in preference to silicon nitride from the surface of a product by a chemomechanical polishing method. - 特許庁

硫酸を含むケイ素及び/又はケイ素のエッチング液を対象とし、前記エッチング液中において生成するケイ素化合の除去が極めて容易で、工業的プロセスに適し、エッチング液の再生処理経費を低減して、廃液を低減することが可能なエッチング液の再生方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of regenerating an etchant targeting an etchant of silicon nitride and/or silicon nitride oxide containing sulfuric acid, extremely easily removing a silicon compound produced in the etchant, suitable for an industrial process, reducing regeneration process expense of the etchant, and capable of reducing waste liquid. - 特許庁

その上に、ケイ素などの絶縁性無機化合又はポリビニルアルコールなどの親水性有機高分子化合からなる保護層3を、CVD法や水溶液の塗布によって形成する。例文帳に追加

A protective layer 3 composed of an insulating inorganic compound such as silicon nitride or a hydrophilic organic polymer compound such as polyvinyl alcohol is formed thereon by CVD or coating of a solution. - 特許庁

その上に、ケイ素などの絶縁性無機化合又はポリビニルアルコールなどの親水性有機高分子化合からなる保護層3を、CVD法や水溶液の塗布によって形成する。例文帳に追加

On the organic semiconductor layer 2, a protective layer 3 which is made of an insulating inorganic compound such as silicon nitride, or a hydrophilic organic high molecular compound such as polyvinyl alcohol is formed by using a CVD method and applying an aqueous solution. - 特許庁

集積回路及び半導体の製造の間に単一工程において、ケイ素フィルム層より優先的に酸ケイ素のオーバーフィルを選択的に研磨するための、3以上のpHを有する可溶性セリウム化合を含んでなる学機械的研磨組成、及び方法とする。例文帳に追加

A chemical mechanical polishing composition comprising a soluble cerium compound at a pH above 3 and a method therefor are provided to selectively polish a silicon oxide overfill in preference to a silicon nitride film layer in a single step during the manufacture of integrated circuits and semiconductors. - 特許庁

金属水酸ケイ素の酸とを含む無機組成素含有化合で処理した難燃剤組成、及び樹脂と前記難燃剤組成とを含む難燃性樹脂組成例文帳に追加

The flame retardant composition is prepared by treating an inorganic composition containing a metal hydroxide and an oxide of silicon with a nitrogen-containing compound, and the flame retardant resin composition comprises a resin and the above flame retardant composition. - 特許庁

素複素環化合の複素環を構成する素原子に、ケイ素原子含有基を導入するに際し、簡便な工程で行うことができ、副生成の量を抑制できる実用的な方法の提供。例文帳に追加

To provide a practical method capable of being performed in a simple step and suppessing amount of by-product, when introducing a silicon atom-containing group to a nitrogen atom composing a heterocycle of a nitrogen-containing heterocyclic compound. - 特許庁

少なくとも(A)着色剤、(B)(D)シラン化合とは構造の異なるエチレン性重合性化合、(C)重合開始剤、及び、(D)分子内にケイ素原子と素原子と重合性基とを含むシラン化合、を含有する着色硬性組成である。例文帳に追加

The colored curable composition includes at least (A) a colorant, (B) an ethylenic polymerizable compound of which the structure is different from that of (D) a silane compound, (C) a polymerization initiator, and (D) the silane compound containing a silicon atom, a nitrogen atom and a polymerizable group in a molecule. - 特許庁

本発明のタイヤは、分子内に、1個以上のケイ素−酸素結合と1個以上の硫黄原子とを有し、且つケイ素原子から原子数で3〜8個離れた位置に素原子を1個以上有する有機ケイ素化合(A)と、無水マレイン酸と(ポリ)オキシプロピレン誘導体との部分エステル(B)と、シリカ(C)とを含むゴム組成を用いたことを特徴とする。例文帳に追加

The tire comprises: an organic silicon compound (A) having one or more silicon-oxygen bonds and one or more sulfur atoms in one molecule and further having one or more nitrogen atoms at a position three to eight carbons away from the silicon atom; a partial ester (B) of a maleic anhydride and a polyoxypropylene derivative; and a silica (C). - 特許庁

特定の学構造式を有する4級アルキルアンモニウム塩、塩基性化合、並びに無機酸および/または有機酸を必須成分とすることを特徴とするケイ素用エッチング液を使用する。例文帳に追加

The etchant for silicon nitride is used which contains, as essential components, a quaternary alkyl ammonium salt having a specific chemical structural formula, a basic compound, and an inorganic acid and/or an organic acid. - 特許庁

PECVD装置に適した化合を原料として炭ケイ素含有膜を形成する方法を提供し、また得られた膜を用いたガスバリア膜及び半導体デバイスを提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a silicon carbonitride-containing film from a compound as a source material suitable for a PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) device, and to provide a gas barrier film and a semiconductor device using the obtained film. - 特許庁

この保持材3は、周期律のIVa,Va,VIa族遷移金属、それらの酸、炭、ホウ、及びこれらの複合化合の1種又は2種以上とケイ素を主成分とし、これにフラックス剤として、上記保持材重量に対して1〜6%の二酸ケイ素を添加してなる混合粉成形体を焼結して構成される。例文帳に追加

The holding material 3 is composed of a sintered mixed powder compact comprising: one or two elements selected from transition metals belonging to groups IVa, Va, and VIa of the Periodic Table, oxide, carbide, nitride, boride, and a complex composite thereof, and silicon, as predominant components; and silicon dioxide of 1-6% of the weight of the holding material, added as a flux agent. - 特許庁

このシリコン化合の修飾基は、素を介してアニオンと結合可能であり、酸素を介してケイ素原子と結合しているものであることが好ましい。例文帳に追加

Preferably, the modification group of this silicon compound is connectable to the anion via a nitrogen atom and bonds to the silicon atom via an oxygen atom. - 特許庁

前記セラミックナノチューブが、炭素、素及びケイ素からなる群から選ばれた少なくとも1つの元素を含有する非金属無機化合の焼結体であることが好ましい。例文帳に追加

The ceramic nanotube is preferably the sintered body of a non-metallic inorganic compound which contains at least one element selected from the group consisting of carbon, nitrogen and silicon. - 特許庁

例文

(A)ケイ素原子に結合した水酸基または加水分解性基を有し、シロキサン結合を形成することにより架橋し得るケイ素含有基を少なくとも1個有する飽和炭水素系重合体、(B)シラノール縮合触媒、(C)1分子中の素原子数に対する炭素原子数の比の値が15以上であるアミン化合、を含有することを特徴とする硬性組成例文帳に追加

A curable composition contains: (A) a saturated hydrocarbon polymer having a hydroxyl group or a hydrolysable group bonded to a silicon atom and at least one silicon-containing group which may cross-link by forming a siloxane bond; (B) a silanol condensation catalyst; and (C) an amine compound wherein a ratio of carbon atoms to nitrogen atoms in a molecule is not less than 15. - 特許庁

索引トップ用語の索引



  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS