「EXP AND」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

For various special cases, including the handling of infinity and NaN, as well as overflows and underflows, see exp (3). 例文帳に追加

無限大や NaN の扱いや、オーバーフローとアンダーフローなどのさまざまな特別な状況については、exp (3) を参照のこと。 - JM

If x is positive infinity (negative infinity), and exp is not negative infinity, positive infinity (negative infinity) is returned. 例文帳に追加

xが正の無限大 (負の無限大) でexpが負の無限大でない場合、正の無限大 (負の無限大) が返される。 - JM

In formula, d_aim represents the intensity of each wavelength of a target color's spectral curve, d_exp represents the intensity of each wavelength of a sample's spectral curve and n represents the number of data.例文帳に追加

ＲＭＳエラー＝√Σ_380-730（ｄ_aim−ｄ_exp）^2／（ｎ） 上式において、ｄ_aimは標的とする色の分光曲線の各波長の強度を、ｄ_expは試料の分光曲線の各波長の強度を、ｎはデータの数を表わす。 - 特許庁

Further, the value of particle beam intensity I per unit time is determined by D=I×t_exp×n_exp according to a multiple lithography frequency n_exp and a particle beam intensity D determined by a necessary accuracy, and I is adjusted so as to meet the value.例文帳に追加

さらに、必要な精度から決定された多重描画回数ｎ_ｅｘｐと粒子線強度ＤとからＤ＝Ｉ・ｔ_ｅｘｐ・ｎ_ｅｘｐにより単位時間あたりの粒子線強度Ｉの値を決定し、その値に合うようにＩを調整する。 - 特許庁

An average value, a dispersed value, and an effective number of the activated energy wherein an average mean square error of t_s^exp (t_i, T) and t_s^th (t_i, T) becomes the least are determined.例文帳に追加

ｔ_ｓ^exp（ｔ_ｉ，Ｔ）とｔ_ｓ^ th（ｔ_ｉ，Ｔ）の平均二乗誤差が最小となる活性化エネルギーの平均値、分散値、実効数を決定する。 - 特許庁

A complex linear operation circuit 108 stores the inverse matrix of a matrix consisting of q rows and p columns of exp(2πjk_pn_q/N) about a set {k_p} using the carrier numbers of M effective carriers as elements and a set {n_q} using sample numbers 0 to M-1 as elements.例文帳に追加

複素線形演算回路108には、M本の有効キャリアの番号を要素とする集合｛k_p｝、サンプル番号0乃至M-1を要素とする集合｛n_q｝について、ｑ行ｐ列がexp(2πjk_pn_q／N)である行列の逆行列が記憶されている。 - 特許庁

In the multiple lithography, a required lithographic time t_t_exp is determined according to a noise period f and t_t_exp =1/(2×k×f) (where, k=1, 2...).例文帳に追加

多重描画において、描画所要時間ｔ_ｔ＿ｅｘｐをノイズの周期ｆに合わせ、ｔ_ｔ＿ｅｘｐ＝１／（２・ｋ・ｆ）（ここで、ｋ＝１，２，…）に従って決定する。 - 特許庁

A threshold voltage generator 10 receives the expected value data EXP and generates threshold voltage Vth having a voltage level according to the expected value data EXP in synchronization with the signal S1 to be tested.例文帳に追加

しきい値電圧発生器１０は、期待値データＥＸＰを受け、当該期待値データＥＸＰに応じた電圧レベルを有するしきい値電圧Ｖｔｈを、被試験信号Ｓ１と同期して生成する。 - 特許庁

SINGLE DATAPATH FLOATING POINT IMPLEMENTATION OF RCP, SQRT, EXP AND LOG FUNCTIONS AND LOW LATENCY RCP BASED ON THE SAME TECHNOLOGY例文帳に追加

同一の技術に基づくＲＣＰ，ＳＱＲＴ，ＥＸＰおよびＬＯＧ関数の単一データパス浮動小数点実行及び少ない待ち時間のＲＣＰ - 特許庁

Thereby, reliability of the substrate transport in the IF part 5 is high and the device 10 and the exposure machine EXP can stably operate.例文帳に追加

よって、ＩＦ部５における基板搬送の信頼性が高く、装置１０および露光機ＥＸＰを安定して稼働することができる。 - 特許庁

1200log_2h and exp[-(x-(F+1200log_2h))^2/2W^2] in expression (o) are precalculated and prestored into a memory of a computer.例文帳に追加

中の1200ｌｏｇ_２ｈとｅｘｐ［−（ｘ−（Ｆ＋1200ｌｏｇ_２ｈ））^２／２Ｗ^２］を事前に計算してコンピュータのメモリに格納する。 - 特許庁

(1): X=7.43×10^-6 exp(2.68×10^-2E)+8 The high modulus carbon fibers are excellent in adhesion with the resin, excellent in a peeling property and a shearing property and are available for a high modulus carbon fiber composite.例文帳に追加

Ｘ＝７．４３×１０^-6ｅｘｐ（２．６８×１０^-2Ｅ）＋８ （１） ただし、Ｅ：ストランド引張り弾性率（ＧＰａ） - 特許庁

This substrate treatment device 10 is provided with a treatment part 3 and an IF part 5, and the IF part 5 is adjacent to an exposure machine EXP separate from the device 10.例文帳に追加

基板処理装置１０は処理部３とＩＦ部５とを備え、ＩＦ部５は本装置１０とは別体の露光機ＥＸＰに隣接している。 - 特許庁

In this case, the bias current of an emitter common transistor output circuit becomes Iid=K×I1×exp(A/2) and no longer depends on temperature.例文帳に追加

このとき、エミッタ共通トランジスタ出力回路のバイアス電流はｌ_id ＝Ｋ×Ｉ_1×ｅｘｐ（Ａ／２）となり、温度に依存しなくなる。 - 特許庁

Wherein, formula 1 is η=α×exp(β/T), in which formula, η is viscosity (mPa s), T is an absolute temperature (K), α is a constant and β is a temperature coefficient.例文帳に追加

式１ η＝α・ｅｘｐ（β／Ｔ）（式中、ηは粘度（ｍＰａ秒）、Ｔは絶対温度（Ｋ）、αは定数、βは温度係数を表す。） - 特許庁

(%); (d) dry heat shrinkage factor = 0-3% and (e) thermal intermediate elongation ≤1.8×exp(5.5×K/10^5) (%).例文帳に追加

（ｃ）中間伸度≦１．５×ｅｘｐ（５．５×Ｋ／１０^5 ） （％） （ｄ）乾熱収縮率＝０〜３％ （ｅ）熱時中間伸度≦１．８×ｅｘｐ（５．５×Ｋ／１０^5 ） （％）。 - 特許庁

Based on these operating condition parameters and model constants A-H, a function model parameter X is calculated according to equation: X=A×P^B×Veff^C×Pc^D×EGR^E×Ne^F×q^G×exp(H/T).例文帳に追加

Ｘ＝Ａ×Ｐ^Ｂ×Ｖeff^Ｃ×Ｐc^Ｄ×ＥＧＲ^Ｅ×Ｎe^Ｆ×ｑ^Ｇ×ｅｘｐ（Ｈ/Ｔ） - 特許庁

(2) It is preferable that the steel in the above (1) contains one or more kinds selected from among 0.005 to 0.04% Ti, 0.005 to 0.04% Nb and 0.03 to 0.30% V.例文帳に追加

［Mo］≦exp(G−5)＋5・・・(a)、 G≦5.5・・・(b)(2)上記(1)の鋼材は、さらにTi：0.005〜0.04％、Nb：0.005〜0.04％およびV：0.03〜0.30％の１種または２種以上を含有させるのが望ましい。 - 特許庁

An IF section 5 transports the substrates W fed from each of the substrate treatment lines Lu and Ld to the exposing machine EXP provided separately from this apparatus 10.例文帳に追加

ＩＦ部５は、各基板処理列Ｌｕ、Ｌｄから払い出された基板Ｗを、本装置１０とは別体の露光機ＥＸＰに搬送する。 - 特許庁

Calculated values T_1^cal(λ) and T_2^cal(λ) of respective transmittances of the two samples obtained by a theoretical expression are compared with the measured spectral transmittances T_1^exp(λ) and T_2^exp(λ), and the refractive index n and the attenuation coefficient k of the optical medium are derived so that the differences therebetween are sufficiently small.例文帳に追加

理論式で得られた２つの試料のそれぞれの透過率の計算値Ｔ_１^ｃａｌ（λ）とＴ_２^ｃａｌ（λ）を、測定された分光透過率Ｔ_１^ｅｘｐ（λ）とＴ_２^ｅｘｐ（λ）と比較し、その差は充分小さくなるように、光学媒体の屈折率ｎと減衰係数ｋを導出する。 - 特許庁

In an embodiment, an X-ray scattering device is integrated with a correction device formed to calculate automatically an aberration correction output X-ray pattern, using a Fourier expression F_inst (H, 2θ) of the aberration depending on a scattered angle 2θ, and Fourier transformation of a measured X-ray scattered pattern F_exp (H), and formed to output the X-ray pattern.例文帳に追加

例では、X線散乱装置は、散乱角2θと、測定X線散乱パターンF_exp(H)のフーリエ変換とに依存する、収差のフーリエ表現F_inst(H,2θ)を用いて、収差補正出力X線パターンを自動的に算出し、出力するよう形成される補正装置を統合化する。 - 特許庁

Assuming that the drain current is Id, the absolute temperature is T(K), constant numbers determined by the field-effect transistor and a bias condition are a0, a1, and the Boltzmann constant is kB(1.38×10^-23J/K), an equality Id=a0×exp{-a1/(kB×T)} is fulfilled.例文帳に追加

このとき、ドレイン電流をＩｄ、絶対温度をＴ（Ｋ）、電界効果トランジスタ及びバイアス条件により決まる定数をａ０、ａ１、ボルツマン定数をｋＢ（１．３８×１０^−２３Ｊ／Ｋ）とすると、Ｉｄ＝ａ０・exp｛−ａ１／（ｋＢ・Ｔ）｝を満足する。 - 特許庁

Two (or more) samples having different thicknesses, formed of the optical medium to be measured, are prepared, and respective spectral transmittances T_1^exp(λ) and T_2^exp(λ) of the two samples are measured, using a general-purpose spectral transmittance measurement instrument.例文帳に追加

測定対象となる光学媒体で形成され、厚さの異なる試料を２つ（又は２つ以上）用意し、汎用的な分光透過率測定器を用い、２つの試料のそれぞれの分光透過率Ｔ_１^ｅｘｐ（λ）と、Ｔ_２^ｅｘｐ（λ）を測定する。 - 特許庁

For example, the infrared absorption quantity A1 on some wavelength λ1 is proportional to EXP (-E1/kT), and the infrared absorption quantity A2 on another wavelength λ2 is proportional to EXP (-E2/kT) [E1, E2 are theoretical radiant energies of the wavelengths λ1, λ2, respectively, k is the Boltzmann's constant, and T is the gas temperature].例文帳に追加

例えば、ある波長λ１での赤外線の吸収量Ａ１はＥＸＰ（−Ｅ１／ｋＴ）に比例し、別の波長λ２での赤外線の吸収量Ａ２はＥＸＰ（−Ｅ２／ｋＴ）に比例する［Ｅ１，Ｅ２はそれぞれ波長λ１、λ２の理論放射エネルギ、ｋはボルツマン定数、Ｔがガス温度］。 - 特許庁

The generation of the idling of the wheel body 5 is detected based on an estimation value θbdot_xy_s of an inclination angular velocity of a base body 9 and a measurement value θbdot_xy_exp of the inclination angular velocity of the base body 9 obtained by making the control unit 50 control the moving operation of the wheel body 5.例文帳に追加

そして、制御ユニット５０により車輪体５の移動動作が制御されることによる基体９の傾斜角速度の予測値θbdot_xy_sと、基体９の傾斜角速度の計測値θbdot_xy_expとに少なくとも基づいて、車輪体５の空転発生を検知する。 - 特許庁

The clustering method for collecting similar ones from X pieces of data and classifying them to Y pieces of clusters comprises calculating the number Y of clusters by use of a function derived based on the number X of data (for example, function (4): Y=round{logX×(b_3/(1+c_3×exp(-a_3X)))}).例文帳に追加

本発明は、Ｘ個のデータの中から互いに類似したものを集めてＹ個のクラスタに分類するクラスタリング方法において、データの数Ｘに基づいて導出した関数（例えば、Ｙ＝round｛logＸ×（ｂ_３／（１＋ｃ_３×exp（−ａ_３Ｘ）））｝…関数（４））を用いて、前記クラスタの数Ｙを算出するものである。 - 特許庁

The IF part 5 includes a second main transport mechanism T_IFM transporting a substrate W to the exposure machine EXP, and a second spare transport mechanism T_IFS transporting a substrate W to the exposure machine EXP in lieu of the second main transport mechanism T_IFM.例文帳に追加

ＩＦ部５は、露光機ＥＸＰに対して基板Ｗを搬送する第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭと、第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭに替わって露光機ＥＸＰに対して基板Ｗを搬送する第２予備搬送機構Ｔ_ＩＦＳとを有する。 - 特許庁

The optical system OS1 for optical pickup apparatus is equipped with an expander lens EXP such that a coma aberration W2_CM (λms) as an off-axis characteristic when an objective OBJ and the expander lens EXP are combined is smaller than a coma aberration W1_CM (λms) as an off-axis characteristic of the objective lens OBJ alone.例文帳に追加

光ピックアップ装置用光学系ＯＳ１においては、対物レンズＯＢＪ単体の軸外特性のコマ収差Ｗ１_ＣＭ（λｒｍｓ）に対して、この対物レンズＯＢＪとエキスパンダーレンズＥＸＰとを組み合わせた場合の軸外特性のコマ収差Ｗ２_ＣＭ（λｒｍｓ）が小さくなるようなエキスパンダーレンズＥＸＰを備えている。 - 特許庁

In the expressions, B_1 is a film width in contact with the roller, α is contact angle, r is radius of the roller, R is radius of curvature, θ is a running time in liquid until the film separates from the roller and θ_1 is a running time in liquid until the film is brought into contact with the roller.例文帳に追加

β＝Ｂ_１×α×ｒ／Ｒ ・・・・・・・・・（１） γ＝0.2055×Ｂ_１×{exp(−0.0273×θ_１)−exp(−0.0273×θ)}・・・（２）（式中、Ｂ_１はロールに接触するフィルム幅、αは接触角、ｒはロールの半径、Ｒはロールの曲率半径、θはフィルムがロールを離れるまでの液中の走行時間、θ_１はフィルムがロールに接触するまでの液中の走行時間を表す。） - 特許庁

Then, the cold-iron source is worked so that a typical length L satisfies the formula L=exp(A×√T) and A=0.10C+0.30 according to the molten iron receiving time T and carbon content C (mass%) contained in the cold-iron source.例文帳に追加

ここで，冷鉄源は，代表長さＬが，受銑時間Ｔおよび冷鉄源中に含まれる炭素濃度Ｃ（質量％）に応じて式Ｌ＝ｅｘｐ（Ａ×√Ｔ）およびＡ＝０．１０Ｃ＋０．３０を満たすように加工される。 - 特許庁

When the behavior is the stored behavior, a corresponding experience proper value EXPN is read out, and is added to a value of a present experience value EXP, and this value is updated (Step S104).例文帳に追加

記憶されている行動であった場合には、対応する経験固有値ＥＸＰＮを読み出して、現在の経験値ＥＸＰの値に加算してこれを更新する（ステップＳ１０４）。 - 特許庁

Thus, an emission discharged from the exhaust port Exp, flows within the treatment device 1 in the order of an inlet port 33a, the masking part 33, the exhaust pipe 37, and the treatment part 4, and is treated in the treatment part 4.例文帳に追加

これにより、排気ポートＥｘｐから排出された排気は、導入ポート３３ａ−マスキング部３３−排気管３７−排気処理部４の順に排気処理装置１内を流通して、排気処理部４において処理される。 - 特許庁

The relationship is as follows: cell count = exp(a×occupying area ratio+b)( wherein, (a) is a coefficient dependent on the kind of cultured cell and a culture vessel 3, and b is a coefficient dependent on culturing conditions ).例文帳に追加

細胞数＝ｅｘｐ（ａ×占有面積率＋ｂ） ここで、ａは培養細胞の種類および培養容器３による係数、ｂは培養条件による係数である。 - 特許庁

Thus, the experience proper value EXPN is determined every time when the player character operated by the player acts in a behavior unit stored in the table, and the experience value EXP is added.例文帳に追加

したがって、プレイヤにより操作されるプレイヤキャラクタが、テーブルに記憶されている行動単位で行動する毎に経験固有値ＥＸＰＮが決定されて、経験値ＥＸＰが加算されていく。 - 特許庁

The electronic still camera 100 uses a drive dial 150 and a WB/EXP bracketing selection slide lever 160 to select a white balance bracketing mode.例文帳に追加

電子スチルカメラ１００はドライブダイヤル１５０およびＷＢ／ＥＸＰブラケッティング選択スライドレバー１６０によってホワイトバランスブラケッティングモードを選択する。 - 特許庁

The oxygen concentration in the silicon single crystal is regulated by correlating the temperature (T) and the ratio (β) with a function: 1/β×Exp(-E/T) using dissolution energy (E) of quartz to the silicon melt.例文帳に追加

温度（Ｔ）と比（β）とを、石英のシリコン融液に対する溶解エネルギ（Ｅ）を用いた関数１／β×Ｅｘｐ（−E／T）として関連させることによって、シリコン単結晶中の酸素濃度を調整する。 - 特許庁

A means 11c is provided to convert car speed information VS into standard data VD=2/[1+ exp{-(VS-αVD}/TT1]-1 by using constant αVD and TT1 as input data to the neural network.例文帳に追加

ニューラル・ネットワークへの入力データとして、定数αＶＤ，ＴＴ１を用いて、車速情報ＶＳを規格データＶＤ＝２／［１＋ｅｘｐ｛−（ＶＳ−αＶＤ）｝／ＴＴ１］−１に変換する手段１１ｃを設ける。 - 特許庁

A searching part 40 fits a variable k to determine a variable k_opt (optimum value) where the inclination g(k) and the inclination g_exp roughly coincide with each other.例文帳に追加

探索部４０は、変数ｋをフィッティングして、傾きｇ（ｋ）と傾きｇ_ｅｘｐとが互いに略一致する変数ｋ_ｏｐｔ（最適解）を決定する。 - 特許庁

As there is a certain relationship between the specific heat ratio of combustion gas and the EGR rate, when the relationship is mapped beforehand, the EGR rate can be calculated from the specific heat ratio κ_exp of combustion gas.例文帳に追加

燃焼ガスの比熱比とＥＧＲ率との間には一定の関係があることから、その関係を予めマップ化しておけば、燃焼ガスの比熱比κ_ｅｘｐからＥＧＲ率を算出することができる。 - 特許庁

The magnification ratio f(d) is generally set as f(d)=exp((Ad^A)/(A+B(d^A-1)-C)), and can be set as f(d)=d^a in the case of the image of depth wherein d is 10 m or below.例文帳に追加

拡大率ｆ（ｄ）は一般的には、ｆ（ｄ）＝ｅｘｐ（（Ａｄ^Ａ）／（Ａ＋Ｂ（ｄ^Ａ−１）−Ｃ）とし、ｄが１０ｍ以下となる奥行きの画像の場合ｆ（ｄ）＝ｄ^ａとしてもよい。 - 特許庁

A MPLS(multi-protocol label switching) capsuled header 100 contains, for example, a label region (Label: Label Value) 1-1, an experimental region (Exp: Experimental Use) 1-2, a stack region (S: Bottom of Stack) 1-3, and lifetime information (TTL: Time to Live) 1-4.例文帳に追加

ＭＰＬＳカプセル化ヘッダ１００は、例えば、ラベル領域（Label：Label Value）１−１、実験用領域（Ｅｘｐ：Experimental Use）１−２、スタック領域（Ｓ：Bottom of Stack）１−３及び生存時間情報（ＴＴＬ：Time toLive）１−４を含む。 - 特許庁

If "No Control" is selected in a DOM (domestic) machine, "Overseas Type A" is set on the engine, and if "No Control" is selected in an EXP (overseas) machine, "Domestic Type" is set on the engine.例文帳に追加

ＤＯＭ（国内向け）機で「管理しない」を選択された場合には、エンジンに対し「海外タイプＡ」を設定し、ＥＸＰ（国外向け）機で「管理しない」を選択された場合には、エンジンに対し「国内タイプ」を設定するようにする。 - 特許庁

This circuit is provided with a memory 10 provided with an additional memory cell for storing defective data bit information on a memory cell, a comparing circuit 20 comparing output data DATO of the memory 10 with its expected value EXP for each data bit, and a BIST circuit 30 generating a required and sufficient test input pattern for detecting the defect of memory cells constituting the memory 10 and the expected value EXP and controlling test sequence.例文帳に追加

メモリセルの不良データビット情報を格納するための付加メモリセルを備えたメモリ１０と、そのメモリ１０の出力データＤＡＴＯとその期待値ＥＸＰをデータビットごとに比較する比較回路２０と、そのメモリ１０を構成するメモリセルの不良を検出するために必要十分なテスト入力パターンおよび上記期待値ＥＸＰを発生しテストシーケンスをコントロールするＢＩＳＴ回路３０とを備えた。 - 特許庁

A target valve overlap quantity OVP is acquired on the basis of an engine rotational speed NE and a load factor L of the internal combustion engine, and a target displacement angle EXP of an exhaust side cam shaft is calculated on the basis of the target valve overlap quantity OVP and an actual displacement angle INR of an intake side cam shaft.例文帳に追加

内燃機関の機関回転速度ＮＥと負荷率Ｌに基づいて目標バルブオーバラップ量ＯＶＰを求め、この目標バルブオーバラップ量ＯＶＰ及び吸気側カムシャフトの実変位角ＩＮＲに基づいて排気側カムシャフトの目標変位角ＥＸＰを算出する。 - 特許庁

Further, exhaust air properties and spatial velocity SV are obtained from the various operating statuses, and the amount m of accumulated PM after elapse of the minimal time period Δt is estimated from an equation for estimating the amount of accumulated PM: m=m×exp(-B×Δt) derived in consideration of determined exhaust air property and spatial velocity SV (S4).例文帳に追加

また、各種運転状態より排気性状及び空間速度ＳＶを求め、これを考慮して導き出したＰＭ堆積量推定式「ｍ＝ｍ・ｅｘｐ（−Ｂ・Δｔ）」から微小時間Δｔ経過後のＰＭ堆積量ｍを推定する（Ｓ４）。 - 特許庁