「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an aligner and an exposure method capable of effecting exposure of a substrate with desired performance even if a liquid immersion method for exposing the substrate via liquid is applied.例文帳に追加

液体を介して基板を露光する液浸法を適用した場合にも、所望の性能で基板の露光を行うことができる露光装置、及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To change the direction of noise reflected in a duct, without exposing aerodynamic performance of the duct to a danger, without adding inconvenient weight, cost and complexity.例文帳に追加

不都合な重量や、経費や複雑さが追加されることなく、かつ、ダクトの空力性能を危険にさらすことなく、ダクト内で反射した騒音の方向を変える。 - 特許庁

Printing data are printed on a printing region 13 on the peeling treatment surface 8a using a printer and the inner side portion of the adhesive layer exposing notch 12 is peeled off and eliminated.例文帳に追加

剥離処理面８ａ上の印字領域１３に、プリンタを用いて印字データを印字するとともに、粘着層露出用切込み１２の内側部分を剥離除去する。 - 特許庁

To prevent an optical axis deviation caused between a fixed optical system and a moving optical system, to facilitate the optical axis adjustment of an exposure laser beam and to stably monitor the beam shape while exposing.例文帳に追加

固定光学系と移動光学系の間に生じる光軸ずれを防ぎ、露光レーザ光の光軸調整を容易でき、露光中のビーム形状を安定にモニタできる。 - 特許庁

When the tab 21 is formed, a bending part can not be completely, closely bent, a gap exposing to the rear end surface 25 of the tab 21 is formed on the inner circumferential side of the bending part.例文帳に追加

タブ２１を形成する際に折曲げ部を完全に密着曲げできず、折曲げ部の内周側にタブ２１の後端面２５に露出する隙間が形成される。 - 特許庁

The same measurement is repeated while slightly changing the less-than-VL exposing quantity until the measured potential distribution is converged to a predetermined rising/trailing potential distribution.例文帳に追加

測定される電位分布が所定の立ち上がり／立ち下がりの電位分布に収束するまで、ＶＬ未満露光量を少しずつ変化させて同様の測定を繰り返す。 - 特許庁

The method comprises a step of freezing the ceramic article, a step of freeze-drying for enough time, and a step of exposing the frozen article to the vacuum.例文帳に追加

本発明の方法は、セラミック物品を凍結させる工程と、該物品を凍結乾燥するのに十分な時間、凍結した該物品を真空に付す工程とを含んでいる。 - 特許庁

This formed food consists essentially of the shark meat obtained by binding fragments of the shark meat obtained by exposing the shark meat to water and dehydrating the resultant meat, to each other by adding a binder for food, and freezing the bound fragments.例文帳に追加

水晒しした後脱水してなるサメ肉の小片どうしを食用結着剤を加えて結着させ凍結させてあるサメ肉を主材とする成形食品。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of surely grounding an exposing means, even when an exposure means is positioned at a retreating position.例文帳に追加

本発明は、露光手段が退避位置に位置する場合にも露光手段の接地を確実に行うことができる画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a laser device capable of stabilizing a spectral band width to achieve high-quality exposure, an exposing device and a method using the same and a device manufacturing method.例文帳に追加

スペクトル幅を安定化させて高品位な露光を達成することが可能なレーザ装置、及びこれを使用する露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

A concavity 26 is formed by applying a first photosensitive resin 20 to a light emitting element 12 and exposing the first photosensitive resin 20 to light with the use of a gray scale mask 22.例文帳に追加

発光素子１２上に、第１の感光性樹脂２０を塗布し、グレイスケールマスク２２を用いて第１の感光性樹脂２０を露光することで凹部２６を形成する。 - 特許庁

A substrate holder PH is used in the aligner for exposing a substrate P, by irradiating the exposure light on the substrate P via a projection optical system PL and fluid LQ.例文帳に追加

基板ホルダＰＨは、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上に露光光を照射して基板Ｐを露光する露光装置で使用される。 - 特許庁

To provide a printer capable of printing an image with the exposing light graduated in a wide range using an LED with the emission light amount controllable and a liquid crystal.例文帳に追加

発光光量を制御可能なＬＥＤ及び液晶を用いて露光光を広い範囲で階調した画像を印画することが可能なプリンタを提供する。 - 特許庁

The tape guides each include a component exposure device 18 for exposing a component at a picking up position by removing the portion of the cover tape 22 covering the component.例文帳に追加

各テープ・ガイドは、コンポーネントを覆うカバー・テープ２２の一部を除去することにより、取り上げ位置にてコンポーネントを露出させるためのコンポーネント露出装置１８を備える。 - 特許庁

Thus, a special stage for exposing the target pattern 12 is eliminated and the target pattern 12 is used as the standard for the patterning of the external layer material 20.例文帳に追加

このようにして，ターゲットパターン１２を露出させるための特段の工程なくして，ターゲットパターン１２が外層材２０のパターン加工のための基準として用いられる。 - 特許庁

The powder is produced by a metal magnetic powder production process including a final finish processing for exposing metal magnetic powder having a stable oxide film to steam in a container filled with saturated steam, or a final finish processing for exposing metal magnetic powder to carbon dioxide in a container filled with carbon dioxide.例文帳に追加

この金属磁性粉末は、安定な酸化膜を有する金属磁性粉末に対し、飽和水蒸気の充満した容器内で水蒸気に曝す処理を最終仕上げとして施す金属磁性粉末の製法、あるいは炭酸ガスの充満した容器内で炭酸ガスに曝す処理を最終仕上げとして施す製法によって得られる。 - 特許庁

The gravure plate is manufactured in processes of: exposing a film resist to laser light in accordance with a figure pattern; uniformly exposing the entire film resist with the exposed pattern; transferring the film resist after uniform exposure onto a cylinder; and developing, drying and etching the transferred film resist.例文帳に追加

ａ）フィルムレジストにレーザー光を用いた露光を行い、絵柄を焼き付ける工程と、ｂ）前記絵柄を焼き付けたフィルムレジスト全面に均一な露光を行う工程と、ｃ）前記均一露光後のフィルムレジストをシリンダーに転写する工程と、ｄ）前記転写されたフィルムレジストを現像、乾燥、腐食する工程を含むグラビア版の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a synthetic quartz glass member for optics which can be suitably used as an optical material for an exposing machine when ArF excimer laser is emitted with an energy density used in the practical exposing machine, concretely ≤0.3 mJ/cm^2p energy density per one pulsing and has high laser resistance and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、ＡｒＦエキシマレーザーを実際の露光機で使用されているエネルギー密度、具体的には１パルスあたりのエネルギー密度が０．３ｍＪ／ｃｍ^２ｐ以下で照射したときに、露光機の光学材料として好適に使用できる対レーザー性の高い光学用合成石英ガラス部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

This aligner is provided with a lump exposure mechanism 4 forming a circuit by collectively exposing the entire surface by a mask M masking the part of the high density and high thin line pattern Wa, and a partial exposure mechanism 7 (17) forming a circuit by partially exposing the part of the high density and high thin line pattern by an optical system more excellent in resolution.例文帳に追加

高密度・高細線パターンＷａの部分をマスキングしたマスクＭにより全面一括露光し、回路を形成する一括露光機構４と、前記高密度・高細線パターンの部分を、より解像力の優れた光学系により部分露光し、回路を形成する部分露光機構７（１７）と、を兼備する露光装置として構成した。 - 特許庁

Between an exposing device 104 and an electrostatic latent image carrier 101, a pair of electrodes 117, 119 are arranged in mutually opposed positions with the emitting optical axis of an exposing device 104 between within the plane orthogonal to the emitting optical axis, an external high-voltage power source 118 is connected to the electrode 117, and an external high-voltage power source 120 is connected to the electrode 119.例文帳に追加

露光装置１０４と静電潜像担持体１０１間には、露光装置１０４の出射光軸を挟んで相対向した位置に、出射光軸と直交する平面内で一対の電極１１７，１１９が配置され、電極１１７には外部高圧電源１１８が接続され、電極１１９には外部高圧電源１２０が接続されている。 - 特許庁

The exposure apparatus comprises: an optical member irradiating exposing light; an immersion member located in the vicinity of the optical member and forming an immersion space so that a light path of the exposing light between the optical member and an object is filled with a liquid; a feed opening feeding the liquid onto the object; and a recover opening recovering the liquid on the object.例文帳に追加

露光装置は、露光光を射出する光学部材と、光学部材の近傍に配置され、光学部材と物体との間の、露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成可能な液浸部材と、物体上に液体を供給可能な供給口と、物体上の液体を回収可能な回収口とを備える。 - 特許庁

This camera is a camera capable of using a JIS 135 photographic film and is provided with exposing means for exposing an object to a photographic film and recording means (a microcomputer 107, an imprinting LED(light emitting diode) driving circuit 108, imprinting LEDs 109, a lens 110) which record at least photographic information by relating them to photographic data of photographs obtained by exposure.例文帳に追加

ＪＩＳ１３５写真フィルムが使用可能なカメラであって、被写体像を写真フィルムへ露光する露光手段と、少なくとも撮影情報を露光により得られた写真撮影データに関連づけて記録する記録手段（マイコン１０７、写し込みＬＥＤ駆動回路１０８、写し込みＬＥＤ１０９、レンズ１１０）とを具備する。 - 特許庁

The power converter has a plurality of switching elements 11 distributed and disposed in the circumferential direction and exposing electrode terminals 17a, 17b, and a capacitor 12 for exposing a plurality of electrode terminals 19a, 19b annularly formed, disposed so as to correspond to the switching elements 11 and connected to the electrode terminals 17a, 17b of the switching elements 11.例文帳に追加

円周方向に沿って分散配置され、電極端子１７ａ，１７ｂを露出させた複数のスイッチング素子１１と、円環状に形成され、各スイッチング素子１１に対応して配置され各スイッチング素子１１の電極端子１７ａ，１７ｂに接続される複数の電極端子１９ａ，１９ｂを露出させたコンデンサ１２とを有する。 - 特許庁

At the front wall of the body 11, opening portions 14... exposing coupling strips 13a to 13b composing the coupling terminals 13 which connect the plural pair wires of a cable of LAN wired inside a building and opening portions 16... exposing modular jacks 15 which connect cables for LAN apparatus such as hubs and routers are formed.例文帳に追加

ボディ１１の正面壁には屋内配線されているＬＡＮ用ケーブルの複数のペア線を接続する速結端子部１３を構成する端子台１３ａ〜１３ｂを内部から露出させる開口部１４…と、ハブやルータ等のＬＡＮ用機器からのＬＡＮ用ケーブルを接続するモジュラジャック１５を露出させる開口部１６…とを形成してある。 - 特許庁

To provide a reticle capable of transferring an element pattern with little variation of aperture pattern size in an element light acceptance area by preventing the pattern except the light acceptance area of the reticle from being transferred by reflecting light of exposure light or the like, and provide an exposing method using the reticle and a semiconductor apparatus produced by using the exposing method.例文帳に追加

露光光の反射光等によってレティクル受光エリア以外のパターンが転写されることを防止し、素子受光エリアにおける開口パターンの大きさにばらつきが少ない素子パターンを転写することが可能なレティクル、該レティクルを用いた露光方法、及び該露光方法を用いて作製した半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the image recording method, focus of light from a light source is adjusted by exposing and outputting a focus adjusting image while varying the relative distance of an exposure plane and an optical system stepwise when image recording is performed by exposing/scanning the exposure plane of a sheet-like recording material on a cylindrical surface with light from the light source through the optical system.例文帳に追加

この画像記録方法は、円筒面上のシート状記録材料の露光面に対し光源からの光で光学系を介して露光走査して画像記録を行う際に、露光面と光学系との相対距離を段階的に変化させながらピント調整用画像を露光し出力することで、光源からの光のピント調整を行う。 - 特許庁

The metal magnetic powder is produced by a metal magnetic powder production method applying final finish processing, for exposing a metal magnetic powder having a stable oxide film to steam in a container filled with the saturated steam, or a metal magnetic powder production method applying final finish processing, for exposing the metal magnetic powder to carbon dioxide gas in the container filled with the carbon dioxide gas.例文帳に追加

この金属磁性粉末は、安定な酸化膜を有する金属磁性粉末に対し、飽和水蒸気の充満した容器内で水蒸気に曝す処理を最終仕上げとして施す金属磁性粉末の製法、あるいは炭酸ガスの充満した容器内で炭酸ガスに曝す処理を最終仕上げとして施す製法によって得られる。 - 特許庁

When exposing the second chip, exposure is started from the end point P16 of the fourth stripe 24 of the second reticle 20, entire strips of the second reticle 20 and the first reticle 10 are exposed by following a path opposite to the one when exposing the first chip, thus reaching the start point P1 of the first stripe 11 of the first reticle 10.例文帳に追加

２つ目のチップを露光する際は、２枚目のレチクル２０の４本目のストライプ２４の終了点Ｐ１６から露光を開始して、１つ目のチップの露光のときとは逆の経路を辿って２枚目のレチクル２０と１枚目のレチクル１０の全ストライプを露光し、１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１１のスタート点Ｐ１に至る。 - 特許庁

The automatically resettable seesaw type electronic component 1 includes the keytop 150 rockingly journaled, a resilient means 250 consisting of a resilient spring 210 for resiliently pushing the keytop 150 toward a neutral position, and an exterior case 230 having a keytop exposing hole 231 for exposing the keytop 150, wherein the electric output (a resistance value) is changed with the rocking of the keytop 150.例文帳に追加

揺動自在に軸支されるキートップ１５０と、キートップ１５０を中立位置に弾発する弾発バネ２１０等からなる弾発手段２５０と、キートップ１５０を露出するキートップ露出穴２３１を有する外装ケース２３０と、を具備し、キートップ１５０の揺動によって電気的出力（抵抗値等）が変化する自動復帰型シーソー型電子部品１である。 - 特許庁

This method for discriminating the direction of defocusing of an exposure device for exposing a resist, includes an imaging step of imaging a resist pattern, formed by exposing by the exposure device to obtain image data, an extraction step of extracting feature data of the image data, and a discrimination step of discriminating the defocus direction, based on the feature data.例文帳に追加

レジストを露光する露光装置のデフォーカスの方向を判別する判別方法であって、前記露光装置による露光を介して形成されたレジストパターンを撮像して画像データを得る撮像ステップと、前記画像データの特徴データを抽出する抽出ステップと、前記特徴データに基づいて、前記デフォーカス方向を判別する判別ステップとを有する。 - 特許庁

The exposing treatment is carried out for the surrounding of the wafer W kept by the spin chuck 41, controlling the positioning means so as to make a relation of position between the outside edge of the wafer W and exposing means 6 constant based on the position data of outside edge of the wafer W detected by the position detecting means 7.例文帳に追加

前記位置検出手段７によって検出したウエハＷの外縁の位置データに基づいて、当該ウエハＷの外縁と露光部６との位置関係が一定になるように前記位置合わせ手段を制御しながら、前記露光部６によりスピンチャック４１に保持されたウエハＷの周縁部に対して露光処理を行う。 - 特許庁

Since the reflection preventing film 4 containing the two organic materials having different properties is formed, the rectangular resist pattern 5a is formed with high reproducibility by suppressing the occurrence of the outgas from the reflection preventing film 4 at exposing time, and by preventing the diffusion of an acid generated at exposing time into the reflection preventing film 4 from a photoresist film.例文帳に追加

性質の異なる二つの有機材料を含む反射防止膜４を形成することにより、露光時に反射防止膜４からアウトガスが発生するのを抑制し、且つ露光時に発生した酸がフォトレジスト膜から反射防止膜４に拡散することを防ぎ、矩形状のレジストパターンを再現性良く形成することができる。 - 特許庁

The electrophotographic image forming method has an electrifying step for directly electrifying an electrophotographic photoreceptor containing oxy-titanium phthalocyanine in a photosensitive layer, an imagewise exposing step in which an electrostatic latent image is formed by imagewise exposing the electrified electrophotographic photoreceptor, and a developing step for developing the electrophotographic photoreceptor with the formed electrostatic latent image.例文帳に追加

感光層にオキシチタニウムフタロシアニンを含有する電子写真感光体に対し、直接帯電で帯電を行なう帯電工程と、帯電した前記電子写真感光体に対し像露光を行ない静電潜像を形成する像露光工程と、静電潜像の形成された前記電子写真感光体を現像する現像工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method for measuring position of stage capable of preventing the occurrence of measurement error in response to the error fluctuation of straightness of a reflective mirror, accurately measuring positional information of a stage and reducing the time of measurement, and to provide an exposing method, an exposing apparatus and a method of manufacturing a device whereby throughput and treating capacity are improved.例文帳に追加

反射鏡の真直度誤差の変動に対応して、計測不良の発生を抑制し、精度よくステージの位置情報を計測するとともに、計測時間の短縮化を図ることができるステージ位置計測方法、及びスループットの向上や処理能力の向上を図ることができる露光方法、露光装置、並びにデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE OF GENERATING INFORMATION CLOCK, METHOD AND DEVICE OF EXPOSING ORIGINAL DISK OF OPTICAL DISK, CLV MULTI-VALUE RECORDING METHOD FOR DEVICE OF EXPOSING ORIGINAL DISK OF OPTICAL DISK, CLV MULTI-VALUE RECORDING METHOD FOR OPTICAL DISK DRIVE, OPTICAL DISK DRIVE, FORMAT OF OPTICAL DISK MEDIA, AND REPRODUCING METHOD OF MULTI-VALUE INFORMATION OF OPTICAL DISK MEDIA AND CLV FORMAT例文帳に追加

情報クロックの生成方法，情報クロックの生成装置，光ディスク原盤露光方法，光ディスク原盤露光装置のＣＬＶ多値記録方法，光ディスク原盤露光装置，光ディスクドライブ装置のＣＬＶ多値記録方法，光ディスクドライブ装置，光ディスクメディアにおけるフォーマット，光ディスクメディアおよびＣＬＶフォーマットの多値情報の再生方法 - 特許庁

Burrs 126 (reflector exposing part)produced around the reflector locking means mounting hole 121 by punching is brought into contact with a protrusion tip face 252 formed at the tip of the rack protrusion 115.例文帳に追加

打ち抜き加工により反射板係止具取付穴１２１周辺に生じたバリ１２６（反射板露出部）と、架台突起部１１５の先端にある突起先端面２５２とが接触する。 - 特許庁

To provide an apparatus for supplying a fixed amount of sediment capable of supplying a fixed amount of sediment without exposing to the atmosphere, which does not waste energy nor generate noise when releasing to the atmosphere.例文帳に追加

大気に開放することなく定量供給することができ、エネルギーの無駄がなく、大気開放に伴う騒音も発生しない土砂の定量供給装置を提供する。 - 特許庁

Relating to this toner cartridge housing body image forming units 1Bk, 1C, 1M and 1Y are arranged adjacently to each other in the approximately peripheral direction at intervals securing a pace for introducing laser light for exposing.例文帳に追加

像形成ユニット１Ｂｋ、１Ｃ、１Ｍ、１Ｙを略円周方向に、且つ、露光用のレーザ光を内部に導入する空間を確保する間隔で相互に隣接させて配置する。 - 特許庁

Alternatively, the process managing extent to the output value of an evaluation device 12 is decided by utilizing optical signals or the step management standard of the preceding step of an exposing step is corrected.例文帳に追加

あるいは光信号を利用した評価装置１２から出力値に対する工程管理範囲を決定する、あるいは露光工程の前工程の工程管理規格を補正する。 - 特許庁

The periphery of an exposure range A of the transparent substrate 24 to be exposed by an exposing machine 10, is supported by a support stand 32 to secure flatness of the exposure range A of the transparent substrate 24.例文帳に追加

そして、露光機１０で露光される透明基板２４の露光範囲Ａの周辺が支持台３２で支持され、透明基板２４の露光範囲Ａの平面性が確保される。 - 特許庁

To provide an exposure device which can perform accurate exposing by well conducting a stage position measurement corresponding to enlargement of the stage and lengthening of its moving stroke without enlarging a column.例文帳に追加

コラムを大型化せずに、ステージの大型化及びその移動ストロークの長大化に対応しつつ、ステージ位置計測を良好に行って精度良い露光処理ができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive sheet which ensures pattern processability with a high aspect ratio without requiring a complicated step nor requiring a special exposing device.例文帳に追加

本発明は感光性シートに関して、複雑な工程を必要とせず、また特殊な露光装置も必要なく高アスペクト比のパターン加工性が得られる感光性シート提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a testing device capable of exposing the whole of a workpiece fed into a testing vessel to a gas of constant temperature/constant humidity, and capable of uniformizing a temperature distribution and a humidity distribution in the testing vessel.例文帳に追加

試験槽に投入されたワークの全体を恒温・恒湿の気体に晒すことができ、試験槽内の温度分布や湿度分布が均一な試験装置を提供すること。 - 特許庁

The frame 52 supports the constituting parts of basic structure which are common to a copying function, a printer function and a facsimile function and are mainly concerning image forming such as a process unit 56, an exposing device 17.例文帳に追加

モールドフレーム５２は、プロセスユニット５６、露光装置１７など、コピー機能とプリンタ機能とファクシミリ機能とで共通の、主に画像形成にかかわる基本構造の構成部品を支持する。 - 特許庁

To accelerate shifting and discarding of charge by twice exposing a line array for each scan line when an apparatus includes a sensor array of a low optical sampling rate and a sensor array of a high optical sampling rate.例文帳に追加

低い光学サンプリングレートのセンサアレイと高い光学サンプリングレートのセンサアレイとを有する場合、走査線毎にラインアレイを２回露光して、電荷のシフト並びに廃棄を高速で行う。 - 特許庁