「Group action」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The new cholesterol esterifying enzymes catalyze cholesterol producing reaction (transfer of an acyl group), without mediating action of coenzyme, by acting free fatty acids and cholesterol or its derivatives as substrates, not acting on fatty acid-CoA complex.例文帳に追加

補酵素の作用を介在させることなく、遊離脂肪酸とコレステロールまたはその誘導体とを基質として作用し、脂肪酸−ＣｏＡ複合体には作用せず、コレステロールエステル生成（アシル基転移）反応を触媒する、新規コレステロールエステル化酵素。 - 特許庁

The hydrosilylation method includes reacting an olefin compound having a carbon-carbon unsaturated bond with a compound having a hydrogensilyl group by a catalytic action of platinum and/or a complex compound thereof in the presence of an organic amine salt compound.例文帳に追加

有機アミン塩化合物の存在下、白金及び／又はその錯体化合物の触媒作用により、炭素−炭素不飽和結合を有するオレフィン化合物とハイドロジェンシリル基を有する化合物とを反応させるヒドロシリル化方法。 - 特許庁

The hydrosilylation method includes reacting an olefin compound having a carbon-carbon unsaturated bond with a compound having a hydrogensilyl group by a catalytic action of platinum and/or a complex compound thereof in the presence of a nitrile compound and an aromatic hydroxy compound.例文帳に追加

ニトリル化合物及び芳香族ヒドロキシ化合物の存在下、白金及び／又はその錯体化合物の触媒作用により、炭素−炭素不飽和結合を有するオレフィン化合物とハイドロジェンシリル基を有する化合物とを反応させるヒドロシリル化方法。 - 特許庁

An amide compound can be synthesized by efficiently hydrating the nitrile compound under a mild condition, by using the catalytic action caused by combining an iridium complex with an organic phosphine having an electron-attracting organic group such as a pyridylphosphine derivative.例文帳に追加

本発明の方法によれば、イリジウム錯体とピリジルホスフィン誘導体など電子吸引性の有機基をもつ有機ホスフィンの組み合わせによる触媒作用を用いて、穏和な条件下で効率良くニトリル化合物を水和してアミド化合物を合成することができる。 - 特許庁

The method includes steps of: bringing the compound into contact with polypeptide containing an amino acid sequence to be selected from a group consisting of sequence numbers 58 and 59; and measuring characteristics of compound-polypeptide relevant to the assimilation stimulant action of the chondrocytic cells.例文帳に追加

化合物を、配列番号５８及び５９からなる群から選択されるアミノ酸配列を含むポリペプチドと接触させることと、軟骨細胞の同化刺激作用に関係する化合物−ポリペプチドの特性を測定することを含む。 - 特許庁

Steroid compounds possessing a hydrogen donor in 3β position, either in the form of a hydroxy- or a sulfate group, function as efficient blockers of the 3α-hydroxy-pregnan-steroid action and thus have utility as therapeutic substances for steroid-related CNS disorders.例文帳に追加

ヒドロキシまたはサルフェート基のどちらかの形態で３ベータ位置に水素供与体をもつステロイド化合物は３アルファ-ヒドロキシ-プレグナン-ステロイド作用の有効な遮断薬として機能するので、またはステロイドに関連するCNS疾患の治療物質として有用である。 - 特許庁

The photosensitive resin composition contains: a polymer having, in its main chain, one or more bonds selected from a group comprising hemiacetal ester bonds, hemiacetal bonds, and carbamate bonds, which are cleaved by the action of a basic substance; and a photobase generator.例文帳に追加

塩基性物質の作用によって開裂する、ヘミアセタールエステル結合、ヘミアセタール結合、及びカルバメート結合よりなる群から選択される１種以上の結合を主鎖に有する高分子と、光塩基発生剤とを含有する、感光性樹脂組成物である。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin containing a specified repeating unit having a cyano group in a backbone and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

主鎖にシアノ基を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition contains a polynaphthylene (A) having a side chain into which a monovalent organic group which can be decomposed by the action of an acid to be converted to hydrogen atoms has been introduced through an ester linkage and a compound (B) which generates an acid under light.例文帳に追加

酸の作用で分解し水素原子に変換し得る一価の有機基を、エステル結合を介して導入した側鎖を有するポリナフチレン（Ａ）と、光により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

A collagen synthesis amount is extremely increased by strengthening collagen synthesis-enhancing action using at least one member selected from the group consisting of ascorbic acid, a derivative of ascorbic acid, and a salt thereof together with a low molecular betaine.例文帳に追加

アスコルビン酸、アスコルビン酸誘導体及びそれらの塩からなる群から選択される少なくとも１種と、低分子ベタインを併用することによって、コラーゲン合成促進作用が増強され、コラーゲン合成量が顕著に増加する。 - 特許庁

The resist composition contains a polymer, having at least one kind of repeating unit derived from an acrylic ester derivative or the like and having an acid dissociable group which increases the solubility with respect to alkali developer by the action of an acid, and a crosslinking agent or a crosslinking initiator.例文帳に追加

レジスト組成物は、少なくとも１つのアクリル酸エステル誘導体等に由来する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸解離性基を有する重合体と、架橋剤又は架橋開始剤を含有している。 - 特許庁

To provide a hydrazide-containing copolymer capable of improving long-term storage stability of a resin composition when the copolymer is formulated with a resin without impairing action of the hydrazide group-containing copolymer as crosslinking agent or curing agent for resins.例文帳に追加

ヒドラジド基含有共重合体の、樹脂の架橋又は硬化剤としての作用を損なうことなく、これを樹脂に配合した場合に樹脂組成物の長期間の保存安定性を向上することができるヒドラジド含有共重合体を提供する。 - 特許庁

The method for modifying functionality of milk protein comprises reacting the milk protein with a protein deamidation enzyme having action deamidizing the milk protein without accompanying cleavage of peptide bond and crosslink of the protein by directly acting on amide group in the protein having ≥5,000 molecular weight to carry out deamidation and modifying the functionality.例文帳に追加

乳蛋白質に、分子量5000以上の蛋白質中のアミド基に直接作用しペプチド結合の切断及び蛋白質の架橋を伴わず脱アミドする作用を有する蛋白質脱アミド酵素を作用させて脱アミド化を行い、その機能性を改質する。 - 特許庁

By using the nanoparticle which has an organic group on its surface, remaining of the nanoparticle on the surfaces of human keratin fibers, especially on those of hairs is increased, and as a result, when using such a cosmetic, its action is sustained even after shampoo treatment of several times.例文帳に追加

有機変性したナノ粒子、すなわちその表面に有機基を有するナノ粒子を使用することにより、ヒトのケラチン繊維、特に毛髪の表面において金属ナノ粒子の残留が増強され、その結果数回のシャンプー処置の後でもその化粧品の作用が持続される。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generated an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing repeating units each containing a group represented by a specified structure and increasing its rate of dissolution in an alkali developing solution under the action of the acid.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造で表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The negative type resist composition contains a compound having a disulfone group and generating an acid when irradiated with electron beams or X-rays, a resin insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution and a crosslinker causing crosslinking with the resin under the action of the acid.例文帳に追加

ジスルホン基を有する、電子線又はＸ線の照射により酸を発生する化合物、水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、及び酸の作用により該樹脂と架橋を生じる架橋剤を含有する電子線又はＸ線用ネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and repeating units each having a specified acid decomposable group and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiation with active light or radiation.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の酸分解性基を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The resin for resist includes: a structural unit (a0) shown by general formula (a-0); and a structural unit (a1) derived from an acrylate containing an acid dissociation dissolution-inhibiting group, and is characterized in that alkali-solubility increases by the action of an acid.例文帳に追加

一般式（ａ−０）で表される構成単位（ａ０）、及び、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大することを特徴とするレジスト用樹脂。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (a) a resin having an acid decomposable group with a specified structure and having solubility in an alkali developing solution increased by decomposition by the action of an acid and (b) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（ａ）特定構造の酸分解性基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) two resins each having an alicyclic hydrocarbon group in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂として２種類の樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) at least one of compound which generates a specific sulfonic acid by the irradiation of active light and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を少なくとも１種 （Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin containing a specified group having -NH- and a fluorine atom and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子及び−ＮＨ−を有する特定の基を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having a specified alicyclic hydrocarbon group in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a resin having a group which is decomposed by the action of an acid and increases solubility in an alkali developing solution and a compound which generates an aliphatic or aromatic carboxylic acid substituted by at least one fluorine atom when irradiated with active light or radiation ray.例文帳に追加

酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、及び活性光線または放射線の照射により、少なくとも１つのフッ素原子で置換された脂肪族あるいは芳香族のカルボン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The intermediate transfer belt unit 2 is integrally constituted with an intermediate transfer body 3, a waste toner reservoir 8, a detector for waste toner fullness 9 and a position detector 10, and exchanged, when the image-forming unit group exists at a non-action exchanging position 42.例文帳に追加

中間転写ベルトユニット２は中間転写体３、廃トナー溜め８、廃トナー満杯検出器９、位置検出器１０などと一体構成にされ、像形成ユニット群が非動作交換位置４２にある時に交換する構成である。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a compound which generates a specified sulfonimido compound when irradiated with active light or radiation and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線または放射線の照射により、特定のスルフォンイミド化合物を発生する化合物、及び、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The fiber-treating agent composition, which is applied to a fiber dyed with an oxidative dye comprising a main intermediate having an amino group after a dye-removal agent for removing a dye by a reducing action of the reducing agent (A) is applied, comprises a reducing sugar (B).例文帳に追加

アミノ基を有する主要中間体を含んでなる酸化染料により染色された繊維に対し、（Ａ）還元剤の還元作用により脱染するための脱染剤が適用された後に適用される繊維処理剤組成物において、（Ｂ）還元糖を含有する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin the solubility of which with an alkali developing solution is increased by an action of an acid; (B) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation; and (F) a surfactant having a basic group.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｆ）塩基性基を有する界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition (A) comprises a resin having a repeating unit in which a sulfonium salt structure capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation is linked to a principal chain by a linking group which degrades under the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生するスルホニウム塩構造が、酸の作用により分解する連結基によって主鎖に連結されている繰り返し単位を有する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition contains (A) a radiation sensitive acid generator represented by formula (1) and (B) a polymer which has a cyano group in at least one of the ends of a polymer molecular chain and becomes readily alkali-soluble by the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（１）で表される感放射線性酸発生剤、および（Ｂ）重合体分子鎖の末端の少なくとも一方にシアノ基を有し、酸の作用によりアルカリ易溶性となる重合体を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has a specific alicyclic hydrocarbon group and in which the dissolution rate to an alkali developer is increased by the action of an acid, and (B) a compound having a specific structure to generate an acid by the irratidation with active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The photocatalytic agent fluid contains a metallic component as metal oxide fine particles which exhibit a photocatalytic action by irradiation with ultraviolet rays and at least one coloring component selected from the group consisting of an organic phosphor and an organic dye which are decomposable by irradiation with ultraviolet rays.例文帳に追加

紫外線の照射により光触媒作用を呈する金属酸化物微粒子を成す金属成分と、紫外線照射で分解する有機蛍光体および有機染料の群れから選ばれた少なくとも１種の着色成分とを含有することを特徴とする光触媒剤液である。 - 特許庁

To provide a compound having excellent cysteine protease inhibitory action and a medicine for treating or preventing diseases selected from the group consisting of osteoporosis, osteoarthrosis deformans, rheumatoid arthritis, Paget's disease of bone, hypercalcemia, cancer bone metastasis and bone ache.例文帳に追加

優れたシステインプロテアーゼ阻害作用を有する化合物、及び骨粗鬆症、変形性骨関節症、慢性関節リウマチ、骨パジェット病、高カルシウム血症、癌の骨転移、及び骨痛からなる群から選ばれる疾患治療又は予防のための医薬を提供すること。 - 特許庁

The resist composition comprises a resin, which has a structural unit derived from a compound expressed by formula (a) and a structural unit derived from a compound having an acid-labile group and which is insoluble or hardly soluble with an alkali aqueous solution but can be dissolved in an alkali aqueous solution by an action of an acid.例文帳に追加

式（ａ）で表される化合物に由来する構造単位と、酸に不安定な基を有する化合物に由来する構造単位とを有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂を含むレジスト組成物。 - 特許庁

To provide an abnormality determining device for an internal combustion that optimizes timing for determining abnormality by delaying abnormality determination as much as possible within a range where the delay idle operation does not have a disadvantage for the idle operation in relation to the internal combustion in which corrective action of idle speed is performed to each cylinder group.例文帳に追加

各気筒群毎にアイドリング回転数の補正動作を行う内燃機関に対し、アイドリング運転に支障を来すことのない範囲で可能な限り異常判定を遅延させて異常判定タイミングの適正化を図ることが可能な内燃機関の異常判定装置を提供する。 - 特許庁

An information selecting part 4 acquires from the recording part 2 the taste center of gravity information, the accumulated actions center of gravity information, the action by each state center of gravity information, the individual taste information and data for information providing, and performs selection processing of information suitable to the group from the acquired data for information providing.例文帳に追加

情報選択部４は、記録部２から嗜好重心情報、累計行動重心情報、各状況別行動重心情報、個人の嗜好情報および情報提供用データを取得し、この取得した情報提供用データの中から集団に適した情報の選択処理を行なう。 - 特許庁

The synchrotron radiation R is generated by projecting the light beams L1, L2 to intersect each other in the mutual action region 50 in the synchrotron radiation generation section 20 and accelerating the group of charged particles C by an electromagnetic field formed by interference of the light beams.例文帳に追加

そして、放射光生成部２０において、相互作用領域５０内で交差するように２本の光ビームＬ１、Ｌ２を入射させ、それらの光ビームが干渉して形成される電磁場で荷電粒子群Ｃを加速することによって放射光Ｒを生成する。 - 特許庁

The chemical amplification-type positive-type resist composition comprises (A) at least one kind of an acid-generating agent containing the sulfonium salt described in the above and (B) a resin which has a polymerization unit with an acid-unstable group and which itself is insoluble or hardly soluble in alkali, but becomes soluble in alkali by the action of an acid.例文帳に追加

〔２〕（Ａ）前記〔１〕に記載のスルホニウム塩などを含む少なくとも１種の酸発生剤と、（Ｂ）酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type radiation sensitive composition contains (A) a specified acid generator of formula (I) which generates an acid when irradiated with active light and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of the acid and increases solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

(Ａ）活性光線の照射により酸を発生する（Ｉ）で示される特定の酸発生剤、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

The mesoporous inorganic material has a structure where one-dimensional pores are regularly arranged, and the port of each pore has a functional group capable of reversibly forming or cleaving a bond by the action of an oxidizer or a reducing agent.例文帳に追加

一次元細孔が規則的に配列した構造を有するメソポーラス無機材料であって、酸化剤もしくは還元剤の作用により可逆的に結合を形成もしくは開裂させ得る官能基を細孔口に有するメソポーラス無機材料。 - 特許庁

In a calendar service providing device 1 providing service enabling the user to register and refer to an individual's or group's schedule via a network 2, an action object extracting part 103 extracts the behavior of the user from the schedule inputted by the user.例文帳に追加

ネットワーク２を介して，ユーザが個人やグループのスケジュールを登録し，参照することが可能なサービスを提供するカレンダーサービス提供装置１において，アクション対象抽出部103 は，ユーザの入力したスケジュールからユーザの行動を抽出する。 - 特許庁

This positive type resist composition contains (A) resin, whose solubility to an alkaline liquid developer is increased by the action of acid, (B) a compound to which active light rays or radiation is applied to generate acid, and (C) a compound having a functional group which bridges between resins by heating.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）加熱により樹脂間を架橋する官能基を有する化合物、を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

In the image transmitter, a single-action transmission key, to which transmission destination information of image data and a data form of the image data are registered in group to a one operation transmission key, and the image data is transmitted to an instructed transmission destination in a prescribed data form.例文帳に追加

１つのワンタッチ送信キーに画像データの送信先情報と送信する画像データのデータ形式とを組として登録し、ワンタッチ送信キーを操作することにより、画像データを指示された送信先に対して所定のデータ形式において送信する画像送信装置。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains (A) a resin which has a repeating unit having a specific group and increases its solubility in an alkaline developer under the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active light or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a compound having a disulfone group, (B) a low molecular dissolution inhibiting compound which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and has a molecular weight of ≤3,000 and (C) an alkali-soluble resin.例文帳に追加

（Ａ）ジスルホン基を有する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する、分子量３０００以下の低分子溶解阻止化合物、及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする電子線又はＸ線用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁