「Line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To expose a pattern, having a fine line width on a resist with high precision by an electron beam exposure method which uses a stencil mask.例文帳に追加

ステンシルマスクを使用する電子ビーム露光方法に関し、微小線幅のパターンを高精度にレジストに露光すること。 - 特許庁

In a display example of Fig.(b), the line width of the maximal marker 74 is changed in accordance with a distance from the sample volume 72.例文帳に追加

（ｂ）の表示例では、サンプルボリューム７２からの距離に応じて、極大マーカ７４の線幅が変更されている。 - 特許庁

To provide a method for controlling dropping of adhesive by which the width of a seal line is automatically controlled before actual seal is formed.例文帳に追加

実際のシール形成前にシール線幅を自動調節することのできる接着剤の滴下制御方法の提供。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that can reduce alignment errors or focus errors, thus achieving a pattern form and a line width as targets.例文帳に追加

アライメント誤差又はフォーカス誤差を低減し、目標とするパターン形状、線幅を達成する露光装置を提供する。 - 特許庁

Straight line parts are formed on outer end sides of the edge parts 120 and 130 so as to extend parallel to the width direction of the comb 100.例文帳に追加

これらの縁部１２０，１３０の外端側には、櫛１００の幅方向に平行な直線部が形成されている。 - 特許庁

To print an oblique line with an angle of about 45° always with a constant width, and to provide a print image of high quality.例文帳に追加

角度が４５度近辺の斜線を常に一定幅で印刷でき、画質の高い印刷画像が得られるようにする。 - 特許庁

To provide a substrate transfer handling device capable of controlling the remaining amount of solvent which affects line width fluctuation.例文帳に追加

線幅変動に影響を与える残留溶剤量を制御可能な基板搬送処理装置を提供すること。 - 特許庁

An ink jet head 10 is a line type head having channels 10a corresponding, in number, to the pixels within the width of a sheet 50.例文帳に追加

インクジェット・ヘッド１０は、ラインタイプのヘッドであり、用紙５０の幅の画素分だけの数のチャンネル１０ａを有している。 - 特許庁

Since a via hole land having a diameter larger than the line width of the bonding pad is not used, wiring density can be increased.例文帳に追加

ボンディングパッドの線幅よりも直径の大きなバイアホールランドを用いないため、配線密度を高めることができる。 - 特許庁

Accordingly, a step 56 with a required width is formed along a boundary line between the portions 52 and 54.例文帳に追加

これにより、第１支持部分５２と第２支持部分５４との境界ラインに沿って所要幅の段部５６が形成される。 - 特許庁

Thus, the wiring region for the common routing line on both sides of the segment substrate 1 can be reduced in width.例文帳に追加

これにより、セグメント基板１の両側におけるコモン用引き回し線の配設領域の幅を小さくすることができる。 - 特許庁

METHOD OF PREDICTING LINE WIDTH ROUGHNESS AND RESIST PATTERN FAILURE, PROGRAM, APPARATUS, AND USING THE SAME IN LITHOGRAPHY SIMULATION PROCESS例文帳に追加

ライン幅粗さおよびレジストパターン不良を予測する方法、プログラム、および装置、ならびにそのリソグラフィシミュレーションプロセスでの使用 - 特許庁

To make the width of a peripheral circuit board having a microstrip line structure sufficiently securable even in a narrow space.例文帳に追加

狭い空間においてもマイクロストリップライン構造を有する周辺回路基板の基板幅を充分確保できるようにする。 - 特許庁

The first alignment mark 1 includes a line pattern 1L containing lines 1L_1, 1L_2, ..., 1L_9, the width of which increase in one direction.例文帳に追加

第１アライメントマーク１は、幅が一方向に増大する線１Ｌ_１，１Ｌ_２，…，１Ｌ_９を含むラインパターン１Ｌを有している。 - 特許庁

As a legacy of that time, the rail track gauge and the overhead wire poles correspond to the width of a double-track line, and some of the bridge abatements and beams are still in place. 例文帳に追加

その名残で、軌道敷や架線柱は複線分の幅があり、橋台や橋桁が残っている部分もある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A resist material exhibiting such properties as the line width of a resist pattern shrinks through irradiation with an electron beam is used.例文帳に追加

レジスト材には、電子線の照射によりレジストパターンの線幅が縮小する性質を示すレジスト材料を使用する。 - 特許庁

Moreover, a relation between the line width correction volume and the correcting time for the shot time of the electron beam has be previously obtained.例文帳に追加

なお、線幅補正量に対する電子ビームのショット時間の補正時間との関係はあらかじめ求められている。 - 特許庁

Consequently, a manufacturing process wherein the line width ratio of the upper side and lower side of the convex section is controlled in a substrate plane is facilitated.例文帳に追加

これにより、凸型断面の上側と下側の線幅比を基板面内で制御する製造工程が容易となる。 - 特許庁

Each of wind shielding plates 62, 54, 55 is arranged on the inside of a passing line of the side edge of the casting film 36 in the width direction.例文帳に追加

各遮風板６２，５４，５５は、流延膜３６の側縁の通過ラインよりも幅方向の内側に配してある。 - 特許庁

To provide an impulse generator for providing an impulse with a small half value width and a large amplitude by utilizing a nonlinear transmission line.例文帳に追加

非線形伝送路を利用した、半値幅が小さくかつ振幅の大きいインパルスが得られるインパルス発生器の実現。 - 特許庁

To improve uniformity in a resist residual film after development and to suppress variations in the line width and pitches of a wiring pattern.例文帳に追加

現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。 - 特許庁

All flow channels have an axisymmetric shape with respect to the center line 10 in the width direction, and their all depths are constant.例文帳に追加

全流路は、幅方向の中心線１０を中心とする線対称形状であり、深さは全て一定である。 - 特許庁

Then, the number of nozzles X where '|C-B|' becomes minimum, when the specified line width of the black bar is set to C, is computed.例文帳に追加

そして、黒バーの規定線幅をＣとしたときに“｜Ｃ−Ｂ｜”が最小となるときのノズル数Ｘを算出する。 - 特許庁

To provide an image recorder for recording a high quality coded data image by reducing variation in line width due to pitch error.例文帳に追加

ピッチ誤差による線幅の変化を低減し、高品質な符号化データ画像を記録する画像記録装置を提供する。 - 特許庁

The recognition result lot number displayed in the large region is enclosed by a rectangle having prescribed color and line width and displayed.例文帳に追加

大領域に表示される認識結果地番には所定の色及び線幅の矩形によって囲まれて表示される。 - 特許庁

Further, luminance modulation is performed in addition to the line width corrections so that one pixel is made high in luminance, thereby correcting the quantity of light.例文帳に追加

さらに、１ｐｉｘｅｌを高輝度化するよう線幅補正に加えて輝度変調を実施し、光量補正する。 - 特許庁

As a result, a line width S1 of the shading film 22 can be designed thinner than conventional, and this permits to increase the opening ratio.例文帳に追加

このため、遮光膜２２の線幅Ｓ１を従来よりも細く設計することができ、高開口率化が可能となる。 - 特許庁

To provide an immersion lithography device by which track processing is simplified, and the size uniformity of relatively thin line width is improved.例文帳に追加

トラック処理を単純化し、より細い線幅の寸法均一性を向上できる液浸リソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

Then, the image of the recorded test pattern is read and the width of each fine line is determined from the image of the read test pattern.例文帳に追加

そして、記録されたテストパターンの画像を読み取り、読み取ったテストパターンの画像から各細線の幅を求める。 - 特許庁

To provide a substrate surface inspection device preventing a reduction in detection sensitivity even when a line width on a substrate is 50 nmL/S or less.例文帳に追加

基板上の線幅が５０nmL/S以下の場合にも検出感度が低下しない基板表面検査装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, the fine pattern with a uniform line width can be continuously drawn on the plane 5 to be drawn such as a substrate.例文帳に追加

これにより、基板などの被描画平面５上に連続して線幅が均一の微細パターンを描画することができる。 - 特許庁

The distance D0 between pixel electrodes 7 and 7 which are adjacent in the column direction is larger than the line width (w) of the signal lines 5.例文帳に追加

列方向に隣り合う画素電極７，７間の距離Ｄ０は信号線５の線幅ｗ以上の長さである。 - 特許庁

As a result, by relatively enlarging the inside diameter of the tip part of the nozzle 8, the width of a discharge line can relatively be enlarged.例文帳に追加

この結果、ノズル８の先端部の内径を比較的大きくして、吐出線幅を比較的大きくすることができる。 - 特許庁

GENERATION OF LASER PULSE WITH NARROW SPECTRAL LINE WIDTH BASED ON CHIRPING AND STRETCHING OF LASER PULSE AND ALSO BASED ON SUBSEQUENT POWER AMPLIFICATION例文帳に追加

レーザパルスのチャーピング及びストレッチング、及びそれに続くパワー増幅に基づく狭スペクトル線幅を有するレーザパルスの生成 - 特許庁

The sheet width detecting sensor 2 has a variable resistor 4, and a characteristic of the variable resistor 4 is converted to approximate straight line.例文帳に追加

シート幅検知センサ２は可変抵抗器４を備え、可変抵抗器４の特性は近似直線に変換される。 - 特許庁

Also, the pairs of comb electrodes 12a and 12b, 13a and 13b are constituted of two comb electrodes having different line width at the crossing parts.例文帳に追加

また、櫛電極対１２ａ，１２ｂ，１３ａ，１３ｂは、交差部において異なった線幅を有する二本の櫛電極で構成されている。 - 特許庁

To achieve a quantum dot semiconductor laser which has superior single mode property and a narrow spectrum line width.例文帳に追加

量子ドット半導体レーザにおいて、単一モード性に優れ、スペクトル線幅の狭い半導体レーザを実現できるようにする。 - 特許庁

To provide an ultraviolet curing resin stripe having a line width near to a set value by suitably selecting its mixing ratio.例文帳に追加

その混合比率を適宜選定することによって、設定値に近い線幅を有する紫外線硬化樹脂ストライプを得る。 - 特許庁

ILLUMINATION SYSTEM HAVING SPATIALLY CONTROLLABLE PARTIAL COHERENCE AND COMPENSATING FOR CHANGE OF LINE WIDTH IN PHOTOLITHOGRAPHY EQUIPMENT例文帳に追加

ホトリソグラフィ装置における線幅の変化を補償する、空間的に制御可能な部分干渉性を有する照明系 - 特許庁

CURTAIN FOR WHICH PLEAT SEWING LINE POSITIONS OF WIDTH JOINT AND PLEAT BASE OF CURTAIN ARE MADE THE SAME, SEWING METHOD THEREFOR AND SEWING DEVICE THEREFOR例文帳に追加

カーテンの巾継と襞根元の襞縫い線位置を同じにしたカーテンとその縫製方法及びその縫製装置 - 特許庁

For example, as shown in Fig.2, the pattern is formed to have a line width of about 100 μm and a thickness of about 150 μm.例文帳に追加

パターンは、例えば図２に示すように、線幅が１００μｍで、厚さが１５０μｍ程度のものを作製できる。 - 特許庁

To provide a method for duplicating a molecular pattern, by which duplicated products with a hyperfine line width can be mass-produced in a short time.例文帳に追加

超微細な線幅の複製品を短時間に大量製造し得る分子パターンの複製方法を提供する。 - 特許庁

The opening 15-1 and the concave portion are set on a cutting line, the size is set bigger than the width of the cutting.例文帳に追加

開口部１５−１及び凹部１５−２は切断ライン上に設けられ、切断幅よりも大きく設定している。 - 特許庁

A density value of each ink color is generated depending on color information of the vector data (S42), and the line width of the vector is discriminated (S51).例文帳に追加

ベクタデータの色情報に応じて各インク色の濃度値を生成し（Ｓ４２）、ベクタの線幅を判定する（Ｓ５１）。 - 特許庁

To provide a developing method which is capable of making the line width uniform and hardly gives a defect at the time of developer application for coating.例文帳に追加

線幅を均一にすることができ、現像液塗布の際に欠陥が生じ難い現像方法を提供すること。 - 特許庁