「Pattern Lithography System」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A lithography apparatus of the present invention comprises: a lighting system which supplies projection beams; a structure for supporting a pattern forming device which is constituted so that the pattern forming device gives a section of a beam a pattern; a substrate table which retains a substrate; a projection system which projects a patterned beam to a target portion on the substrate; and an adjustment system which adjusts the substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁

To provide a system and a method used to compensate for locally enlarged errors and/or focus errors that are generated due to the unevenness of the surface of a pattern generator, a substrate, and/or an optical element, at least in the projection system of a lithography system.例文帳に追加

リソグラフィシステムのパターンジェネレータ、基板および／または少なくとも投影系内の光学素子の表面の不均一性によって生じる局部的な拡大エラーおよび／または焦点エラーを補償するのに使用されるシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lithography system using a programmable patterning means, in order to turn into pattern a projection beam in which throughput is enhanced, without significantly increasing the update speed of the patterning means.例文帳に追加

投影ビームをパターン化するためにプログラム可能パターニング手段を使うリソグラフィ投影装置に於いて、パターニング手段の更新速度をあまり上げることなくスループットを改善した装置を提供すること。 - 特許庁

A lithography equipment has a lighting system for providing a radical projection beam and a support structure for supporting pattern-forming equipment for giving patterns to the cross-section surface of the projection beam.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射の投影ビームを提供するための照明系、及び投影ビームの断面にパターンを与えるパターン形成装置を支持するための支持構造体を有する。 - 特許庁

The lens pupil information is linked to mask information used to generate a pattern in the resist layer (310), and evaluate or rank the system determined by the parameter of the pair for the lithography treatment (312).例文帳に追加

レンズ瞳情報は、レジスト層内のパターン発生に使用されるマスク情報に結合され（３１０）、リソグラフ処理に対する組みのパラメータで決定のシステムの評価又はランク付けをする（３１２）。 - 特許庁

The process system includes detailed simulation and characterization of the entire lithography process to verify that the design provides and/or achieves the desired results on a final wafer pattern.例文帳に追加

この処理装置は、デザインが最終ウェーハパターン上の望ましい結果を提供しおよび／または達成することを実証するため詳細なシミュレーションと完全なリソグラフィ過程の描写を含んでいる。 - 特許庁

The immersion lithography apparatus includes: a working stage arranged to retain a workpiece; a projection system for projecting an image pattern; a fluid-supplying unit for providing an immersion liquid into a gap defined between an optical element of the projection system and the workpiece during an immersion lithography process; and a cleaning device to clean the optical element during a cleaning process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁

To provide a lithography device including an illumination system for supplying radiation beams, the array of elements to be individually controlled to pattern the beams, and a projection system for guiding the patterned beams to a substrate supported on a substrate table; and to provide a method therefor.例文帳に追加

放射線のビームを供給する照明系、ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイ、及びパターン化されたビームを基板テーブル上に支持された基板に導く投影系を備えたリソグラフィ装置及び方法を提供すること - 特許庁

To provide a method and a system for detecting particle contamination capable of decomposing particles within a size range relevant to EUV lithography, and dynamically adjusting the particles based on received arbitrary pattern data.例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィに関連するサイズ範囲のパーティクルを分解することができ、かつ、受け取った任意のパターンデータに基づいて動的に調整することができるパーティクル汚染を検出する方法およびシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a projection system where related to a lithography projection system used for projecting a mask pattern on a substrate at manufacturing of ICs, etc., such phenomenon as substrate sticking to the support surface of a substrate holder for holding it on a substrate table, resulting in difficulty in release, is eliminated.例文帳に追加

ＩＣの製造等でマスクパターンを基板上に投影するために使用するリソグラフィ投影装置であって、基板がそれを基板テーブル上に保持するための基板ホルダの支持面に付着して外し難くなる現象をなくした投影装置を提供すること。 - 特許庁

In the immersion lithography apparatus, there are assembled a working stage arranged to retain a workpiece, a projection system for projecting a pattern image, a fluid supply unit which serves during an immersion lithography process to supply an immersion liquid into a gap defined between the optical element of the projection system and the workpiece, and a cleaning device for cleaning the optical element during a cleaning process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁

To minimize the total length of boundary lines for main fields and sub-fields formed in an effective pattern region per chip area, in a semiconductor device manufactured by using an EB lithography system.例文帳に追加

本発明はＥＢ描画装置を用いて製造される半導体装置に関し、有効なパターン領域内に形成されるメインフィールドやサブフィールドの境界線の総延長を、チップ面積に対して最短化することを目的とする。 - 特許庁

The lithography system drives two programmable patterning means 11 and 12, using a control signal from a computer 10, in order to pattern two different beams 13 and 14 being projected to two substrates 19 and 20.例文帳に追加

このリソグラフィ装置は、二つの基板１９、２０上に投影するための二つの別々の投影ビーム１３、１４をパターン化するためにコンピュータ１０からの制御信号を使って二つのプログラム可能パターニング手段１１、１２を駆動する。 - 特許庁

The lithography apparatus has a lighting system that provides a radiation beam, a support structure for supporting a product patterning device that adds a product pattern indicating a feature of a product device to a profile of the radiation beam from the lighting system, and a measuring-target patterning device that adds a measuring target pattern indicating a measuring target to the profile of the radiation beam.例文帳に追加

放射線ビームを提供する照明システムと、照明システムからの放射線ビームの断面に製品デバイスのフィーチャを表す製品パターンを付与する製品パターン化デバイスを支持する支持構造と、放射線ビームの断面に、計測ターゲットを表す計測ターゲット・パターンを付与する計測ターゲット・パターン化デバイスとを有するリソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁

The lithography equipment used for pattern-forming a substrate comprises a lighting system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements for imparting the cross-section of the projection beam with a pattern, and a substrate table for supporting the substrate at the time of exposure operation, and a projection system projects the patterned beam to a target part of the substrate.例文帳に追加

基板をパターン形成するために使用されるリソグラフィー装置において、放射の投影ビームを供給するための照明系と、投影ビームの断面にパターンを与えるための個別制御可能要素のアレイと、露光動作時に基板を支持するための基板テーブルとを具備し、投影系が、パターン形成されたビームを基板の標的部分の上に投影する。 - 特許庁

Lithography equipment has an illumination system for supplying beam of radiation, an array of individually controllable elements that function to give a pattern to a sectional face of the beam, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target part of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射線のビームを供給する照明系と、ビームの断面にパターンを与える働きをする個々に制御可能な要素の配列と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与されたビームを基板の目標部分に投影する投影系とを有する。 - 特許庁

To obtain an arch-like or ring-like irradiation beam by providing a scattering device, which checks diffusion of irradiation beam to a projection system with which the pattern image of a mask in a lithography projection system is irradiated on a substrate and forming a fan-like curved line by reflecting a fine collimated incident beam.例文帳に追加

リソグラフ投影装置におけるマスクのパターンイメージを基板に照射する投影システムに照射ビームの拡散を制御する散乱装置を設けて、細いコリメート入射ビームを反射させて扇曲線形とすることにより、アーチ状あるいはリング状の照射ビームを得る。 - 特許庁

The lithography device comprises an illumination system providing a radiation beam, a support structure which supports a patterning device functioning to impart a pattern on the section of the radiation beam, a substrate table which supports a substrate, and a projection system which projects a patterned radiation beam to a target part of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、放射ビームの断面にパターンを付与するよう機能するパターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁

The fluid heat regulation module determines an actuator command for aberration correction of the optical element in the liquid immersion lithography system, based on the one or a plurality of change or changes in the amount of the fluid of a liquid immersion liquid, an exposure dose, and a reticule pattern image.例文帳に追加

流体加熱調整モジュールは、液浸液の流量、露光ドーズ、およびレチクルパターンイメージのうちの１つまたは複数の変化に基づいて、液浸リソグラフィシステム内の光学素子に収差調整を行うためのアクチュエータコマンドを決定する。 - 特許庁

Pattern writing by the electron beam lithography system is controlled by single proximity effect control function and fogging effect control function coupled in one data processing step using the same algorithm as that being executed in a standard proximity correction unit.例文帳に追加

電子ビームリソグラフィーシステムによるパターン描画は、標準の近接補正装置で実行される同じアルゴリズムを用いて、１データ処理ステップで、結合した単一の近接効果制御関数及びかぶり効果制御関数によって制御される。 - 特許庁

To provide an optical lithography system in which particles adhering to a substrate holding part and causing failure of a resist pattern due to dull focus can be cleaned off quickly without destroying or contaminating the exposure atmosphere.例文帳に追加

露光装置において、基板を保持する基板保持部にパーティクルが付着していると、フォーカスぼけによるレジストパターン不良の原因の一つとなり、このパーティクルを迅速かつ露光雰囲気を破壊、汚染せずにクリーニングすることが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid immersion lithography system which minimizes the introduction of particles into the immersion liquid by preventing the immersion liquid from contact with the particulate contamination areas, and which prevents distortions and defects from occurring on the photoresist image and pattern on the wafers.例文帳に追加

液浸流体が微粒子汚染領域に接触しないように、液浸流体に入る微粒子を最小に抑え、ウェーハ上のフォトレジストの画像及びパターンに歪みや欠陥が発生しないようにする液浸リソグラフィシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a transfer mask data correction system to obtain a transfer mask suitable to eliminate the troubles caused by the physical phenomenon which follows the etching or ion implantation and the electron beam lithography when manufacturing a mask pattern.例文帳に追加

エッチングやイオン注入等に伴う物理現象に起因した不都合、および、マスクパターンを製作する際の電子線描画に伴う物理現象に起因した不都合を解消に適した転写用マスクを得るための転写用マスクデータ補正装置を提供する。 - 特許庁

To realize a method for calibrating the irradiation time of an electron beam in a variable area electron beam lithography system in which irradiation time error of the electron beam for a material being written can be corrected in the blanking operation of electron beam and a pattern can be written more accurately.例文帳に追加

電子ビームのブランキング動作における電子ビームを被描画材料に照射する時間の誤差を補正することが可能で、より正確なパターンを描画できる可変面積型電子ビーム描画装置における電子ビームの照射時間校正方法を実現する。 - 特許庁

A lithography apparatus is equipped with a radiation system for providing projection radiation beam, a supporting structure for supporting a patterning means which functions to pattern the cross section of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィック装置は、投影放射ビームを提供するための放射システムと、投影ビームの断面をパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムとを備えている。 - 特許庁

The system and method enumerate a set of variables and pattern intervals to construct (109) an inspection structure and analyze a series of layout patterns according to design rules by simulation (115) using a lithography model to obtain a partition of the pattern spaces into one portion 133 that requires only rule-based OPC and another portion 131 that requires model-based OPC.例文帳に追加

本システムおよび方法は、パターン空間の、ルールベースＯＰＣのみを必要とする部分１３３と、モデルベースＯＰＣを必要とする別の部分１３１との区分を得るために、リソグラフィ・モデルを用いたシミュレーション１１５によって、設計ルールしたがって変数値とパタン間隔の集合を列挙して検査構造を構築し１０９、一連のレイアウト・パターンを分析する。 - 特許庁

The lithography apparatus includes: a projection system configured to project a beam of radiation as an array of sub-beams of radiation and an array of individually controllable elements configured to modulate the sub-beams of radiation to form a requested dose pattern on a substrate.例文帳に追加

一連の放射線のサブビームとして放射線のビームを投影するように構成された投影システムと、要求ドーズ・パターンを基板上で形成するために、放射線のサブビームを変調するように構成された個別に制御可能な要素のアレイとを含むリソグラフィ装置。 - 特許庁

The immersion lithography apparatus incorporates a working stage arranged to retain a workpiece, a projection system for projecting a pattern image, a fluid supply unit for supplying an immersion liquid into a gap defined between an optical element of the projection system and the workpiece, and a cleaning device for cleaning the optical element during a cleaning process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁

The method includes a step of decomposing a desired pattern to be printed on a substrate into at least two constituent sub-patterns that are capable of being optically resolved by the lithography system, and a step of coating the substrate with a first positive tone resist layer and a relatively thin second positive tone resist layer on top of a target layer of the substrate which is to be patterned with a desired dense line pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィシステムによって光学的に分解することができる少なくとも二つの成分サブパターンに分解する工程、所望の高密度ラインパターンでパターンを形成させる基板のターゲット層の上に、第一のポジ型レジスト層と比較的薄い第二のポジ型レジスト層とを塗布する工程を含む。 - 特許庁

A lithography device comprising a substrate table that holds a substrate, a projection system so configured as to project a radiation beam whose pattern is formed on the substrate, a liquid feed system so configured as to feed liquid into a space among the projection system, the substrate and the substrate table, and a ring so disposed as to cover a gap between the substrate and the substrate table and to come into contact with the substrate and the substrate table.例文帳に追加

基板を保持する基板テーブルと、基板上にパターン形成された放射ビームを投影するように構成された投影システムと、投影システムと基板と基板テーブルとの間の空間に液体を提供するように構成された液体供給システムと、基板と基板テーブルとの間のギャップを覆うように設けられ、基板および基板テーブルと接触するリングとを含むリソグラフィ装置。 - 特許庁

The immersion lithography apparatus is constituted so that the pattern of an original plate is projected on a substrate through a projection optical system and a liquid so as to expose the substrate, and includes a substrate reference plate arranged on a substrate stage to hold the substrate, and a drive portion to drive a field stop which restricts a measuring light irradiated to the substrate reference plate.例文帳に追加

液浸露光装置は、原版のパターンを投影光学系および液体を介して基板に投影して該基板を露光するように構成され、基板を保持する基板ステージに配置された基板基準プレートと、前記基板基準プレートに照射される計測光を制限する視野絞りを駆動する駆動部とを備える。 - 特許庁

The lithography apparatus includes a substrate table constructed, configured, and arranged so as to hold a plurality of substrates at each of a plurality of positions, where exposures can be made on the substrate, and a projection system constructed, configured, and arranged so as to project pattern-formed radiation beams onto the target portions of the plurality of substrates at positions where exposures can be made.例文帳に追加

本発明は、基板テーブル上の複数の個々の露光可能位置で複数の基板を保持するように構築され、配置構成された基板テーブルと、パターン形成した放射線ビームを露光可能な位置で複数の基板の目標部分に投影するように構築され、配置構成された投影システムとを含むリソグラフィ装置に関する。 - 特許庁

In a maskless lithography system having a spatial light modulator (SLM), a method for generating a gray scale on an object comprises: forming a pattern by exposing the object to a light; and forming a gray scale region on the object by modulating an exposure time of the object.例文帳に追加

空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁

To provide a design support system, a design method, a design support program and a manufacturing method of a semiconductor integrated circuit, with which occurrence of a design pattern that is a main cause of a circuit defect and is difficult to be lithography-processed can be suppressed, dispersion due to manufacture fluctuation is suppressed and yield can be improved.例文帳に追加

回路不良要因であるリソグラフィー処理困難な設計パターンの発生を抑制でき、製造変動によるばらつきを抑制して歩留まりの向上を図ることが可能な半導体集積回路の設計支援システム、半導体集積回路の設計方法、半導体集積回路の設計支援プログラム、半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a circuit pattern lithography system which can reduce the computing time by alleviating the load on the electronic computer which computes for correcting the proximity effect and loading effect and can appropriately correct those effects by adjusting exposure when manufacturing photomask blanks on which circuit patterns are drawn.例文帳に追加

回路パターンの描画されたフォトマスクブランクスの製造過程における近接効果やローディング効果の補正を施す際に、電子計算機にかかる計算処理の負荷を軽減することで当該計算処理にかかる時間を短縮することができ、また露光量の調節によって近接効果とローディング効果の補正を適切に行うことが出来る回路パターンのパターン描画装置を提供する。 - 特許庁