W-Inの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 11340件
Victoire Pisa finished in first place and became the first Japanese horse to win the Dubai World Cup. 例文帳に追加
ヴィクトワールピサが1着でゴールし,ドバイW杯で優勝した初めての日本馬になった。 - 浜島書店 Catch a Wave
This was the second time Ito has finished in the top three at a World Cup competition. 例文帳に追加
伊藤選手がW杯大会で上位3位以内に入ったのは今回が2度目だった。 - 浜島書店 Catch a Wave
The second transport path 5 is formed like a path for passing the articles W in a line.例文帳に追加
第2搬送路5は、物品Wを一列に通過させる通路状に形成する。 - 特許庁
In the imprint unit 3, a resist pattern is formed on a wafer W by using the template T.例文帳に追加
インプリントユニット3では、テンプレートTを用いてウェハW上にレジストパターンを形成する。 - 特許庁
The anode 5 is stored in an electrode container 20 filled with salt water W.例文帳に追加
陽極5は、海水Wが満たされた電極格納容器20内に格納される。 - 特許庁
The circuit pattern and the evaluation pattern are transferred in a lump on the first layer on a wafer W.例文帳に追加
ウェハW上の第1層目に回路パターンと評価パターンとを一括で転写する。 - 特許庁
At this time, the work W is pressed while drawn in the mold 1 from the work holders 10.例文帳に追加
その際、ワークWはワークホルダ10から金型1側へ引き込まれながらプレスされる。 - 特許庁
To obtain a lead frame for semiconductor which is superior in solderability after heating and W/B properties.例文帳に追加
半導体用リードフレームの加熱後のはんだ付け性、W/B性を優れたものにする。 - 特許庁
The correction arm 41 is made longer in length than one side surface of the semiconductor device W.例文帳に追加
補正アーム41は半導体装置Wの一側面よりも長く設けられている。 - 特許庁
A supporting pin 70 supporting the semiconductor wafer W is stood in the chamber 6.例文帳に追加
チャンバー6には半導体ウェハーWを支持するための支持ピン70が立設されている。 - 特許庁
In this case the thermal conductivity at 300°C of the heat insulating layer 5 is 10-25 W/m.K.例文帳に追加
なお、上記断熱層5の300℃における熱伝導率は22.5W/m・Kである。 - 特許庁
In this case, the developer instantly expands to the entire substrate W together with the rinse liquid.例文帳に追加
この場合、現像液がリンス液とともに基板W上の全体に瞬間的に拡がる。 - 特許庁
A substrate W to be treated is immersed into a cleaning liquid stored in a cleaning tub 12.例文帳に追加
被処理基板Wは、洗浄槽12に貯留された洗浄液内に浸漬される。 - 特許庁
In the drying section 80, the substrate W is subjected to cleaning and drying processings.例文帳に追加
乾燥処理部80において基板Wの洗浄および乾燥処理が行われる。 - 特許庁
In operation, the rod 5 is extended by the cylinder 4 and pushes out the workpiece W by the gate 9.例文帳に追加
作業時、シリンダ4によりロッド5が伸展してゲート9でワークWを押し出す。 - 特許庁
A plurality of thickness sensors 26 are disposed in a substantially linear state corresponding to the wafer W.例文帳に追加
ウェーハWに対応して複数の厚さセンサ26をほぼ一直線状に配列する。 - 特許庁
The hydraulic cylinder 11 applies pressure to the flat surface of a workpiece W in a direction perpendicular thereto.例文帳に追加
油圧シリンダ11は、ワークWの平面に対して垂直な方向へ押圧する。 - 特許庁
The first polarized light is outputted to the outside from an output window W provided in the container T.例文帳に追加
容器Tに設けた出力窓Wから、第1偏光を外部に出力する。 - 特許庁
A white subject W and an imaging element S2 are provided in the white balance adjustment section 15.例文帳に追加
ホワイトバランス調整部15に白色の被写体Wと撮像素子S2を設ける。 - 特許庁
The cover 5 is formed with the electric wire push-in groove 15 into which the electric wire W is pushed.例文帳に追加
カバー5には、電線Wを押し込む電線押し込み溝15が設けられている。 - 特許庁
As a result, the very thin portion F2 of 0.5 mm or less is formed in the work W.例文帳に追加
すると、ワークWには、0.5mm以下の極細部位F2が形成されることになる。 - 特許庁
A probing device 100 for testing an object W in a vacuum state is provided.例文帳に追加
被検査体Wを真空状態で検査するプローブ装置100が提供される。 - 特許庁
In this case, a dry region R1 with no rinsing liquids is expanded on the substrate W.例文帳に追加
この場合、リンス液が存在しない乾燥領域R1が基板W上で拡大する。 - 特許庁
In the exposure system 17, the exposure processing of the substrate W is performed by an immersion method.例文帳に追加
露光装置17においては、液浸法により基板Wの露光処理が行われる。 - 特許庁
To surely unify F/W versions in a device without imposing a burden on an operator.例文帳に追加
オペレータに負担をかけることなく、確実に、装置内のF/Wバージョンの統一を図る。 - 特許庁
In the projection optical system, a reduced image on a first plane (R) is projected onto a second plane (W).例文帳に追加
第1面(R)の縮小像を第2面(W)に投影する投影光学系。 - 特許庁
The tapes 20, 21 installed in tape holders 22 are fitted around the outer circumference of the wire W.例文帳に追加
テープホルダ部22に設置したテープ20,21を電線Wの外周に取り付ける。 - 特許庁
Subsequently, concrete C is poured into the beam form W in a concrete placing step S13.例文帳に追加
次いで、コンクリート打設工程S13で、梁型枠W内にコンクリートCを流し込む。 - 特許庁
A substrate W to be processed is immersed into cleaning liquid stored in a cleaning tub 12.例文帳に追加
被処理基板Wは、洗浄槽12に貯留された洗浄液内に浸漬される。 - 特許庁
A dummy member 15 which is equal in the thickness and the width is supplied before the rolled stock W in the stage where the rolled stock is conveyed to a cooling apparatus 2 and this rolled stock W is passed through the cooling apparatus 2 in the state that the top part of the rolled stock W is falsely extended forward.例文帳に追加
冷却装置2へ搬入される前の段階で圧延材Wの前方へ厚み及び幅が同一のダミー部材15を供給し、この圧延材Wのトップ部を疑似的に前方へ延長させた状態で冷却装置2を通過させる。 - 特許庁
In addition, the thermal conductivity was 0.8 W/(m K) or greater, and the Asker C hardness was 30 or less.例文帳に追加
また、熱伝導率も0.8W/(m・K)以上でアスカーC硬度も30以下であった。 - 特許庁
The temperatures in the central part and the edge part of the wafer W contend with each other about at 40°C to 45°C.例文帳に追加
ウエハWの中央部および周縁部の温度は約40〜45℃で拮抗する。 - 特許庁
The display means 4 displays the slit width w and the width dE (eV) in terms of energy.例文帳に追加
これにより、表示手段4はスリット幅Wおよびエネルギ幅dEを表示する。 - 特許庁
In the heat treatment method for treating the silicon wafer (W) by heat in an atmospheric gas, the oxygen gas is included only in the atmospheric gas to be fed to the rear face of the silicon wafer (W) out of atmospheric gases fed to the front and rear faces of the silicon wafer (W).例文帳に追加
シリコンウェーハWを雰囲気ガス中で熱処理するシリコンウェーハの熱処理方法であって、前記シリコンウェーハの表面S側及び裏面R側に供給する雰囲気ガスのうち、裏面側に供給する雰囲気ガスにのみ酸素が含まれている。 - 特許庁
the recusant electors...cooperated in electing a new Senate- Mary W.Williams 例文帳に追加
従順でない選挙人…新しい上院に選ぶときに協力した−メアリー・W・ウィリアムス - 日本語WordNet
At the same time, solvent in a resist liquid on the wafer W can be also evaporated.例文帳に追加
また同時にウェハW上のレジスト液中の溶剤を蒸発させることもできる。 - 特許庁
A lock-in amplifier 16 detects accurate photoreceived quantity P(W) of the photoreception element 15.例文帳に追加
ロックインアンプ16は、受光素子15の正確な受光量P(W)を検出する。 - 特許庁
A wedge member 15 is inserted in each wedge space W to be moved up and down.例文帳に追加
各楔空間Wに楔部材15を上下方向へ移動可能に挿入する。 - 特許庁
A resist film is formed on a substrate W in the resist film processing block 11.例文帳に追加
レジスト膜用処理ブロック11において基板W上にレジスト膜が形成される。 - 特許庁
This flower stand 1a includes a water receptacle 2a storing water W in a container.例文帳に追加
花立て1aは、容器内に水Wを貯留する水受容器2aを備えている。 - 特許庁
In this way, the reticle R can be pressure-welded for the wafer W at a high pressure.例文帳に追加
このため、ウエハWに対してレチクルRを高い圧力で圧接させることができる。 - 特許庁
A cooling water W in a cooling water tank 11 is cooled by operating a cooling means 16.例文帳に追加
冷却手段16の作動で冷却水槽11内の冷却水Wを冷却する。 - 特許庁
The value of the window function W (t) is zero in the part where the time t is larger than c.例文帳に追加
時間tがcよりも大きいところでは、窓関数W(t)の値はゼロとなる。 - 特許庁
WATER-IN-OIL (W/O) EMULSION FORMED USING REVERSE VESICLE, AND EMULSION INK例文帳に追加
逆ベシクルを用いて形成された油中水(W/O)型エマルション及びエマルションインク - 特許庁
In other words, the ground line G enters between the write line W and the read line R.例文帳に追加
すなわち、グランドラインGはライト線Wとリード線Rの間に入ることになる。 - 特許庁
A substrate W is rotated in condition that it is held roughly horizontally by vacuum chuck 1.例文帳に追加
基板Wは、バキュームチャック1によってほぼ水平に保持された状態で回転される。 - 特許庁
Thus, ammonia can be efficiently separated from the organic waste liquid W in the reaction tower 2.例文帳に追加
反応塔2内の有機性廃液Wからアンモニアをより効率良く分離できる。 - 特許庁
As a result, the in-plane uniformity of the illuminance distribution is improved on the semiconductor wafer W.例文帳に追加
その結果、半導体ウェハーW上の照度分布の面内均一性が向上する。 - 特許庁
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