「W-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(227ページ目) - Weblio英語例文検索

Regardless of the kind of an application activated at present, a schedule confirmation icon 22c is residentially displayed on a task bar 22 of a liquid crystal display part 3 and by touching this confirmation icon 22c with a pen P, the POP UP display of schedule information stored in the POP UP display data memory corresponding to the present time is performed as a schedule confirmation window W just during that pen touch operation.例文帳に追加

現在起動処理されているアプリケーションの種類に関わらず、液晶表示部3 のタスクバー22上にスケジュール確認アイコン22c を常駐表示させ、この確認アイコン22c をペンＰによりタッチすることで、そのペンタッチ操作の間だけ、前記POP UP表示データメモリに記憶されている現在時刻に応じたスケジュール情報がスケジュール確認ウインドウＷとしてPOP UP表示される。 - 特許庁

The ink jet coating device 10 comprising a head 9 having a plurality of nozzles for coating a substrate W with solution by ink jet system is further provided with a stripe wiping cloth 12 exhibiting absorptivity, a feeding mechanism 16 for feeding out the wiping cloth 12 in front of the nozzle surface 20 of the ink jet head 9, and a roller 43 for pressing the wiping cloth 12 against the nozzle surface 20.例文帳に追加

基板Ｗに溶液をインクジェット方式によって噴射塗布する複数のノズルを有するヘッド９を備えたインクジェット塗布装置１０において、吸水性を有する帯状のワイピングクロス１２と、ワイピングクロス１２をインクジェットヘッド９のノズル面２０の前面に張り出す繰り出し機構１６と、ワイピングクロス１２をノズル面２０に押し付けるローラ４３を有するもの。 - 特許庁

This process for depositing at least one layer (3) based on tungsten W and/or molybdenum Mo by chemical vapor deposition on a glass, ceramic or glass-ceramic substrate (1) by means of at least one tungsten and/or molybdenum precursor in the form of a metal halide and/or of an organometallic compound, and by means of at least one reducing agent, such as hydrogen or silane.例文帳に追加

少なくとも１種の金属ハロゲン化物及び／又は有機金属化合物の形のＷ及び／又はＭｏ先駆物質を使用し、且つ少なくとも１種の還元剤、例えば水素又はシランを使用することによって、化学気相堆積で、少なくとも１つのＷ及び／又はＭｏに基づく層（３）を、ガラス、セラミック、又はガラス−セラミック基材（１）に堆積させることによる。 - 特許庁

The heat-conductive sheet 1 contains a plate-like boron nitride particle 2, and has 4 W/mK or more of thermal conductivity along a surface direction (orthogonal direction) SD orthogonal to a thickness direction TD of the heat-conductive sheet 1, and 125°C or more of glass transition point determined as a peak value of tanδ obtained in dynamic viscoelastic measurement at 10 Hz of frequency.例文帳に追加

板状の窒化ホウ素粒子２を含有する熱伝導性シート１であり、熱伝導性シート１の厚み方向ＴＤに直交する面方向（直交方向）ＳＤの熱伝導率が、４Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり、１０ヘルツの振動数にて動的粘弾性測定を行なったときに得られるｔａｎδのピーク値として求められるガラス転移点が、１２５℃以上である。 - 特許庁

This tea reaper is characterized by having the following scheme: a pruning machine unit 3A for pruning work includes a rotary blade 30A, and a blast tube is arranged above and behind the rotary blade 30A so as to blow out air from a fan 23 rearward over the whole area in the longitudinal direction of the rotary blade 30A to feed delivery wind W turning toward a relay conveyor 5.例文帳に追加

剪枝作業に供する剪枝機ユニット３Ａはロータリー刃３０Ａを具えたものであり、このロータリー刃３０Ａの上方後方側にファン２３からの送風をロータリー刃３０Ａ長手方向全域にわたって後方側に吹き出す送風管を具えることにより、中継移送装置５に向かう送り込み風Ｗを供給するようにしたことを特徴とする。 - 特許庁

This tatami horizontal member 1 is provided with a wall side member 2 fitted along a wall W and expandable in the width direction, a tatami side member 3 abutting on the side edge section of the tatami mat T adjacently to the wall side member 2, and a flexible upper face member 4 stretched from the upper edge section of the tatami side member 3 to cover the wall side member 2.例文帳に追加

本発明の畳寄せ１は、壁Ｗに沿って取り付けられる幅方向に伸縮自在の壁際用部材２と、この壁際用部材２に隣接して畳Ｔの側縁部に当接する畳際用部材３と、畳際用部材３の上縁部３１から壁際用部材２の上方を被覆するように張り出した可撓性を有する上面部材４とを具備する。 - 特許庁

In the silver salt photothermographic dry imaging material having at least one imaging layer comprising an organic silver salt, a photosensitive silver halide, a reducing agent, and a binder on a polyester support, a face of the polyester support on the side coated with the imaging layer is subjected to corona discharge treatment at an output of 1-350 W×min/m^2.例文帳に追加

ポリエステル支持体上に、有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤、及びバインダーを含有する少なくとも１つの画像形成層を有してなる銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、画像形成層が塗布される側のポリエステル支持体の面を１〜３５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２の出力でコロナ放電処理することを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 - 特許庁

The time when the solder bump 10a starts to melt is detected by a displacement of a head 7 in the pressing direction, the pressing load w is constantly kept by performing load control using a load cell 4 till the solder starts to melt, and after the solder bump 10a starts to melt, the height of mounting is constantly kept by making position control using a linear scale 5.例文帳に追加

半田バンプ１０ａが溶融を開始した時点をヘッド７の押圧方向における変位で検出し、半田が溶融を開始するまではロードセル４を用いた荷重制御を行うことで押圧荷重ｗを一定に維持するとともに、半田バンプ１０ａが溶融を開始した後は、リニアスケール５を用いた位置制御を行うことで実装高さを一定に維持する。 - 特許庁

This device is to sequentially carry cargoes W diagonally upward or diagonally downward by arranging first and second gradient outward passages 10A, 20A in parallel, giving them a specified gradient θ and connecting a plural number of receiving bases 30 to a first carrier loop and a second carrier loop on their both ends so that they become roughly horizontal between the first and second gradient outward passages 10A, 20B.例文帳に追加

第一及び第二の勾配往路１０Ａ，２０Ａは互いに平行に配置されると共に所定の勾配θを与えられ、複数の荷受台３０が、第一及び第二の勾配往路１０Ａ，２０Ｂの間で略水平になるように両端が第一の搬送ループ１０と第二の搬送ループ２０に連結され、荷物Ｗを順次斜め上方又は斜め下方へ搬送するものである。 - 特許庁

The mobile phone also comprises a setting changing part 180b which, if it is determined that the radio communication is not performed normally, sets the IC chip which has been set to the unlocked state to a locked state in which it cannot perform radio communication with the R/W and sets one IC chip different from the IC chip which is set to the locked state to an unlocked state.例文帳に追加

また、携帯電話機は、無線通信が正常に行われなかったと判定された場合に、ロック解除状態に設定されたＩＣチップを、Ｒ／Ｗとの間で無線通信の実行を行えないロック状態に設定するとともに、このロック状態に設定されたＩＣチップとは異なる他の一つのＩＣチップをロック解除状態に設定する変更設定部１８０ｂを備える。 - 特許庁

This plating treatment device has a plating tank 201, plural conductive rollers 41 which are disposed in this plating tank 201, constitute cathodes and transport the works W, anodes 202 and 203 which are disposed across the conductive rollers 41 above and below the same within the plating tank 201 and a plating current supply section which supplies plating current to the conductive rollers 41.例文帳に追加

本発明のめっき処理装置は、めっき槽２０１と、前記めっき槽２０１内に設けられ、陰極を構成し、被処理物Ｗを搬送する複数の導電性ローラ４１と、前記めっき槽２０１内で前記導電性ローラ４１を挟んでその上下に設けられた陽極２０２，２０３と、前記導電性ローラ４１にめっき電流を供給するめっき電流供給部とを備える。 - 特許庁

A gas flow controller main body 61 comprises a wafer hole 613 having an inner wall surface 612 in which a semiconductor wafer can be accommodated, and an inner flange 614 provided at one end of the wafer hole 613 to overhang the wafer hole by d and to have a clearance h from the upper surface of a semiconductor wafer W, thus suppressing an amount of edge roll-off to be removed.例文帳に追加

ガス流コントローラ本体６１は、半導体ウェハを納めることができる内壁面６１２を備えたウェハ穴６１３と、ウェハ穴６１３の一端に設けられ、ウェハ穴内に向かってｄだけオーバーハングしており、ウェハ穴６１３に納めた半導体ウェハＷの上面との間にクリアランスｈを有する内側フランジ部６１４とを備えており、エッジロールオフ部の除肉量が抑制される。 - 特許庁

The electric field enhancement optical device D3 is configured to have a micro-resonator structure including a semi-transmissive and semi-reflective first reflection layer, a translucent layer having permeability, and a reflective second reflection layer, and the micro-resonator structure is configured to include a plurality of resonating areas W-Z differed in optical path length so that a plurality of wavelengths can be resonated.例文帳に追加

電場増強光デバイスＤ３を、半透過半反射性を有する第１の反射層と、透過性を有する透光層と、反射性を有する第２の反射層とからなる微小共振器構造を有するように構成し、かつ微小共振器構造を、複数の波長に対して共振可能とするように光路長が異なる複数の共振領域Ｗ〜Ｚによって構成する。 - 特許庁

Since a hardened part by the work hardening (in particular, a bent part 121) can be softened, the strip work W after finishing the press step can be easily shrunk, the radius of curvature of the bent part 121 can be reduced to the predetermined dimension, and the finish dimensional accuracy of the fin 120 can be improved even when the metal (stainless steel) fin 120 has relatively high hardness.例文帳に追加

これにより、加工硬化により硬化した部分（特に、折曲部１２１）を柔らかくすることができるので、プレス工程を終了した帯板材Ｗを、容易に縮めて折曲部１２１の曲率半径を所定寸法まで小さくすることができるので、比較的硬度が高い金属（ステンレス）製のフィン１２０においても、フィン１２０の仕上がり寸法精度を向上させることができる。 - 特許庁

A displacement measuring sensor 1 comprises a projector 2 for casting measuring light to a measuring object W, and a light receiver 5 containing a light receiving element 8 having a light receiving region 8a and a focusing lens 7 forming reflection light on the light receiving region 8a as a focal point P, and a light receiving lens 6 for condensing the reflection light in parallel and emitting to the focusing lens 7.例文帳に追加

変位測定センサ１は、測定対象Ｗに測定光を照射する投光部２と、受光領域８ａを有する受光素子８と反射光を受光領域８ａ上に結像点Ｐとして形成させる結像レンズ７と反射光を集光し平行にして結像レンズ７へ出射する受光レンズ６とを含む受光部５と、を備える。 - 特許庁

In the model material comprising a porous cured product which is obtained by curing an O/W type aqueous dispersion comprising a radical polymerization type thermosetting resin, the porous cured product comprises an agglomerate of a finely divided cured resin particle, the cured product having excellent cutting processability, and being suitable for the manufacture of the master type for limited production of diversified products, the molding sample, the model or the like.例文帳に追加

ラジカル重合型熱硬化性樹脂からなるＯ／Ｗ型水性分散体を、常温または加熱下に硬化させて得られる多孔質硬化物からなる模型用材料であり、この多孔質硬化物は、微細な硬化樹脂粒子集合体からなり切削加工性に優れており、少量多品種のマスター型や成型見本、模型等の作製に適している。 - 特許庁

The imaging apparatus images at an imaging timing based on a reference pulse PA by making a work pulse PW, which is output in a interval synchronized with a shape part (W1) of a rotating work W, as a trigger, and images at a imaging timing based on the reference pulse PA every time when the reference pulse PA is output from this imaging timing by a pulse number NP between work pulses PW.例文帳に追加

回転中のワークＷにおける形状部分（Ｗ１）に同期した間隔で出力されるワークパルスＰＷをトリガーとして、基準パルスＰＡを基準にした撮像タイミングで撮像し、この撮像タイミングから基準パルスＰＡが、ワークパルスＰＷ間のパルス数ＮＰだけ出力される毎に、基準パルスＰＡを基準にした撮像タイミングで撮像するようにした。 - 特許庁

In a batch system proximity gap aligner 10 for irradiating the surface to be exposed of a work W through a photomask 7 with parallel beams obtained by making light from a light source 2 incident on a collimator lens 4 through a condenser lens 6 and making it the parallel beams, the parallel beams leading to the photomask 7 from the lens 4 is made horizontal and also the photomask 7 is vertically set by a mask supporting means 11.例文帳に追加

光源２からの光を集光レンズ６を介してコリメータレンズ４に入射して平行光とし、その平行光をフォトマスク７を介してワークＷの被露光面に照射する一括式プロキシミティギャップ露光機１０において、コリメータレンズ４からフォトマスク７に至る平行光を水平にするとともに、マスク支持手段１１によりフォトマスク７を垂直にセットする。 - 特許庁

If the substrate W is spun, the condition that the circular arc LC forming a part of the irradiation shape be substantially superposed on the inside WB is kept, hence the exposure light quantity shortage region near the inside WB is greatly narrowed in the substrate end edge WE, and the entire substrate end edge WE can be exposed uniformly with a sufficient light quantity.例文帳に追加

従って、基板Ｗが回動したとしても、照射形状の一部をなす円弧ＬＣと内周ＷＢとが実質的に重なり合う状態が維持され続け、基板端縁部ＷＥ内の内周ＷＢ近傍における露光光量不足領域は大幅に狭くなり、基板端縁部ＷＥ全体に均一かつ十分な光量の露光を行うことができる。 - 特許庁

A machining device 1 includes a conveyance device 10 for conveying a workpiece W, a heating device 20 for heating the workpiece conveyed by the conveyance device 10, a press device 30 for hot-pressing the heated workpiece, and a waste box 50 into which a workpiece heated by the heating device 20 and not being in the predetermined heating state is discarded.例文帳に追加

加工装置１は、被加工物Ｗを搬送する搬送装置１０と、搬送装置１０により搬送される被加工物を加熱する加熱装置２０と、加熱された被加工物を熱間プレス加工するプレス装置３０と、加熱装置２０により加熱されて所期の加熱状態となっていない被加工物Ｗを廃棄するための廃棄ボックス５０を備えている。 - 特許庁

An empty cell group 5 is composed of a plurality of empty cells 5a on a 1st insulating substrate 1 is provided peripherally with a plurality of electrostatic protection patterns 7, wherein each of the patterns 7 comprises an electrostatic conduction portion 8 of constant width (w) and an electrostatic discharge portion 9 where the electrostatic conduction portion 8 is decreased in width at an angle toward an adjacent electrostatic protection pattern.例文帳に追加

第１の絶縁性基板１上における、複数の空セル５ａからなる空セル群５の周囲に複数の静電気保護パターン７を周設し、静電気保護パターン７は、一定の幅ｗをもった静電気導通部分８と、静電気導通部分８の幅を隣り合う静電気保護パターンに近づくにつれて角度をもたせて減少させた静電気放電部分９とからなる。 - 特許庁

A method for forming a WSi film includes a step (1) of forming a deposit film 6, containing Si and W as main components and having a hexagonal crystal phase chemical vapor growth using a gaseous start material containing WF6 and Si2H2Cl2 and a step (2) forming a WSi film annealing a substrate 2, on which the deposit film 6 is formed in an ammonia atmosphere.例文帳に追加

ＷＳｉ膜を形成する方法は、(1)ＷＦ_6およびＳｉ_2Ｈ_2Ｃｌ_2を含む原料ガスを用いる化学的気相成長法によってＳｉおよびＷを主要構成元素としヘキサゴナル結晶相を有する堆積膜6を形成し、(2)堆積膜6が形成された基板2をアンモニア雰囲気中においてアニールを行いＷＳｉ膜を形成する、各ステップを備える。 - 特許庁

To provide an electrical contact material for an automotive alarm performing opening and closing operation at 270 to 600 Hz in which environmental resistance being the defect of a W based electrical contact for an automotive alarm used heretofore and both consumption resistance and transit resistance being the defects of an Ag-SnO2-In2O3-NiO based electrical contact are improved.例文帳に追加

２７０〜６００Ｈｚの開閉動作を行う自動車警報器用の電気接点素材において、従来より使用されている自動車警報器用のＷ系電気接点の欠点である耐環境性と、Ａｇ−ＳｎＯ_２−Ｉｎ_２Ｏ_３−ＮｉＯ系電気接点の欠点である耐消耗性、耐転移性の両方を改善した自動車警報器用の電気接点素材を提供する。 - 特許庁

In the embodiment of this invention, a plurality of tire marking devices 10A, 10B which are installed on the same place or the different places, and the main data processing device 20 which is installed on the one place of a plant or a company, for example, are connected on line so as to intensively manage for a plurality of tires W produced at the different places.例文帳に追加

即ち、この発明の実施形態では、同一場所に複数台、または異なった場所に設置された複数台のタイヤマーキング装置１０Ａ及び１０Ｂと、例えば、工場や会社の一箇所に設置されたメインデータ処理装置２０とをオンラインで接続し、異なった場所で生産された複数本のタイヤＷに対して集中管理が出来るように構成されている。 - 特許庁

This W/O emulsion ink contains a yellow pigment, an aluminum chelate compound, a polyglycerin fatty acid ester in an amount of 0.1-4 wt.% of the yellow pigment, and a nonvolatile mineral oil of which the carbon content based on its paraffin component is 60% or higher and the carbon content based on its naphthene component is 35% or lower.例文帳に追加

黄色顔料を含有するＷ／Ｏエマルションインキにおいて、アルミニウムキレート化合物と、黄色顔料に対して０．１〜４重量％のポリグリセリン脂肪酸エステルと、パラフィン成分の炭素含有量が６０％以上かつナフテン成分の炭素含有量が３５％以下の不揮発性の鉱物油とを含有させたことを特徴とする孔版印刷用Ｗ／Ｏエマルションインキ。 - 特許庁

This work mounting jig 1 to be used for a barrel polishing device comprises the shaft 2 for holding a work W, holding plates 3 opposed to each other with slits 3a engraved ranging from predetermined positions in which the shaft 2 is mounted to the outer periphery ends, and fastening means 2a, 2b for fixing the shaft 2 to the opposed holding plates 3.例文帳に追加

バレル研磨装置に用いられるワーク装着治具であって、ワークＷを保持するシャフト２と、このシャフト２を装入するための所定位置から外周端に亘って刻設されたスリット３ａを有する互いに対向した保持板３と、この対向した保持板３に前記シャフト２を固定する締着手段２ａ、２ｂとからなることを特徴とするワーク装着治具１である。 - 特許庁

This invention relates to the method of arc length oscillation pulse arc welding in which the laser of a predetermined high power value HPW [W] is irradiated to a molten pool during all or a part of the above high arc length period HTc, the laser of a predetermined low power value is irradiated to the molten pool or the laser irradiation is stopped during other periods.例文帳に追加

本発明は、上記高アーク長期間ＨＴｃの全期間又は一部期間中には予め定めた高出力値ＨＰｗ［Ｗ］のレーザを溶融池に照射し、それ以外の期間中は予め定めた低出力値のレーザを溶融池に照射するか又はレーザの照射を停止することを特徴とするレーザ照射アーク長揺動パルスアーク溶接方法である。 - 特許庁

In the system for mirror finishing a wafer, first slide means (152, 154) can be positioned at two positions separated by a distance equal to the interval of two abrasive discs 8a and 8b and the notch of a wafer W supported on a wafer chuck table 12 is disposed relatively at a position facing one of two abrasive discs 8a and 8b at each of two positions.例文帳に追加

このウェハ鏡面加工装置においては、第１スライド手段（１５２、１５４）は、上記２つの研磨ディスク８ａ、８ｂの間隔と等しい距離だけ離れた２つの位置に位置決め可能であり、ウェハチャックテーブル１２は、これに支持されたウェハＷのノッチが上記２つの位置のそれぞれにおいて、２つの研磨ディスク８ａ、８ｂの内の一方と向かい合う位置に相対的に配置されている。 - 特許庁

The method for the selective production of the α-isomer or the β-isomer of a nonnatural halogenated sugar comprises the stirring of an anomer mixture of the nonnatural halogenated sugar of general formula (1) (X and Y are each independently O or S; Z is a halogen atom; and W is a protecting group of hydroxy group) in the presence of a halogenation agent while keeping the suspended state.例文帳に追加

一般式（１） （式中、Ｘ、Ｙはそれぞれ独立して、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｚはハロゲン原子を表わし、Ｗは水酸基の保護基を表す。）で表される非天然型ハロゲン化糖のアノマー混合物をハロゲン化剤存在下に懸濁状態のまま攪拌することを特徴とする非天然型ハロゲン化糖のα体またはβ体の一方を選択的に製造する方法。 - 特許庁

By applying pressure having the directionality in parallel with central axis the annular elastic members 13 to the annular elastic members 13 by the clamping means 15, plural axial positions of the workpiece W can be surely held from an inner side of radially elastically deformed plural elastic members 13 by the uniform contact pressure over the whole periphery without being damaged and distorted by clamping.例文帳に追加

挟圧手段15により、環状の弾力性部材13にその環の中心軸と平行の方向性を持つ圧力を作用させることで、径方向に弾性変形した複数の弾力性部材13の内径側により、加工物Ｗの軸方向複数位置を全周にわたって均等な接触圧により、損傷やクランプ歪を生じさせることなく確実に保持する。 - 特許庁

As retraction action is conducted by the clamp cylinder 39 to lower the clamp arm 37, the claw main body 47 is oscillated around an extended direction of the clamp arm 37 by the ball joint 43, and it is also oscillated in a perpendicular direction to above around the oscillation support shaft 49, thereby pressure to the workpiece W by the three clamp claws 53 is equalized.例文帳に追加

クランプシリンダ３９がクランプアーム３７を下降させるべく引き込み動作を行うと、爪本体４７が、ボールジョイント４３によりクランプアーム３７の延長方向を中心として揺動するとともに、揺動支持軸４９を中心として上記と直交する方向に揺動し、これにより３つのクランプ爪５３によるワークＷへの押圧力が均等化される。 - 特許庁

The above problem is solved by a metal recovery method comprising: an adsorption stage 11 where metals M comprised in acidic bleeding water W are adsorbed with an adsorbent material; a first metal recovery stage 12 where the metals M adsorbed into the adsorbent material by the adsorption stage 11 are separated from the adsorbent material using acidic water or alkaline water and are recovered.例文帳に追加

酸性の湧出水Ｗに含まれる金属Ｍを吸着材で吸着する吸着工程１１と、吸着工程１１により吸着材に吸着した金属Ｍを酸性水またはアルカリ性水を用いて吸着材から分離して回収する第一金属回収工程１２と、を有することを特徴とする金属回収方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁

This grinding device 10 has a work rotational driving unit 20 for rotatingly driving a crankshaft 50 as a work W having a working surface 51, a grinding wheel rotational driving unit 30 for rotatingly driving a grinding wheel 31 having an abrasive grain surface 32, and an oscillation unit 40 for imparting oscillation in the axial direction of the work to at least one of the work and the grinding wheel.例文帳に追加

研削装置１０は、加工面５１を有するワークＷとしてのクランクシャフト５０を回転駆動するワーク回転駆動ユニット２０と、砥粒面３２を有する砥石３１を回転駆動する砥石回転駆動ユニット３０と、ワークおよび砥石のうちの少なくとも一方にワークの軸線方向に沿うオシレーションを付与するオシレーションユニット４０と、を有している。 - 特許庁

The ground terminal 11 has a fixing member clamp 12 to which, a fixing member mounting through hole 14 is formed, and a cable connector 13 crimping the ground cable W, further, protrusion parts 22, 22 are formed at a boundary part 20 of the fixing member clamping part 12 and the cable connector 13 in front-to-back direction through a gap 21.例文帳に追加

本アース端子１１は、固定用部材取付用貫通穴１４が形成された固定用部材締結部分１３と、アース用電線Ｗに圧着接続される電線接続部分１３とを有し、さらに、固定用部材締結部分１２と電線接続部分１３との境界部２０に、間隙２１を介して前後方向にそれぞれ突起２２、２２が形成されている。 - 特許庁

The packaging circuit board has a polyester film (A) laminated on one side of a metal layer having a thickness of 200-2000 μm, where the total light relative reflectance of the polyester film (A) is 75-100% at 550 nm, and heat conductivity of the polyester film (A) in the thickness direction is 0.2 W/(m.K) or higher.例文帳に追加

２００μｍ以上２０００μｍ以下の厚みの金属層の片面にポリエステルフィルム（Ａ）が積層された実装用回路基板であり、該ポリエステルフィルム（Ａ）の５５０ｎｍにおける全光線相対反射率が７５％以上１００％以下であり、かつ該ポリエステルフィルム（Ａ）の厚み方向の熱伝導率が０．２Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上である実装用回路基板によって得られる。 - 特許庁

Weighting values W for respective unit antennas are obtained by injecting a reference signal in a receiving system circuit of the antenna, detecting the reference signal as a receiving signal of a receiver 26 and monitor receiving signals U' of monitor receiving parts 46 provided for respective unit antennas 12, comparing the difference between both by a calibration circuit 48 and supplying the difference to an adaptive array control part 38 as a calibration value.例文帳に追加

アンテナの受信系回路に参照信号を注入し、この参照信号を受信器２６の受信信号および各単位アンテナ１２毎に設けられたモニタ受信部４６のモニタ受信信号Ｕ’として検出し、両者の差を校正回路４８で比較し、これを校正値としてアダプティブアレイ制御部３８に供給し、各単位アンテナ毎の重み付け値Ｗを得る。 - 特許庁

In the outer peripheral surface of a drum holding member 2 holding the metal drum W, a plurality of first V-shaped annular grooves 5 are provided at predetermined intervals corresponding to the cutting position of the push cutter 9 extending over the whole periphery, and a second annular groove 6 formed extending over the whole periphery of the outer peripheral surface of the drum holding member 2 is provided between the first annular grooves 5.例文帳に追加

金属製ドラムＷを保持するドラム保持部材２の外周面に、その全周にわたって押切り刃具９の切り込み位置に対応する複数のＶ字状の第１の環状溝５を所定間隔を存して設け、各第１の環状溝５の間に、ドラム保持部材２の外周面の全周にわたって形成された第２の環状溝６を設ける。 - 特許庁

In the continuous process and apparatus for sterilization and, if appropriate, virus inactivation of fluid media 1 by means of combined application of heat treatment 2, 3, 55 and a UV irradiation treatment 4, the heat treatment 2 of the fluid media is carried out at a sterilization temperature of 40-135°C and the UV irradiation treatment at irradiation density of 5-300 W/m^2.例文帳に追加

流体媒体１に、熱処理２，３，５５とＵＶ照射処理４を組み合わせて適用することで、流体媒体１を滅菌し、場合によりウイルスを不活性化する連続方法及びそのための装置であって、流体媒体１の熱処理２は４０℃〜１３５℃の滅菌温度で行い、ＵＶ照射処理４は５〜３００Ｗ／ｍ２の照射密度で行う連続方法及びそのための装置。 - 特許庁

The system comprises a translator device (1) for rows of crates that brings about the movement of at least one row of crates (C), so as to create at least one aisle (W) for passing between one row and another of the module, in which it is possible to gain access through a crates manipulator (3), which is able to move along the module and through such aisles.例文帳に追加

少なくとも１列のクレートＣの移動をもたらす、クレート列のための変換装置から成り、１列と別の１列の間を通過する少なくとも１つの側廊Ｗを形成するようになり、その側廊の中で、モジュールＭに沿い、当該側廊を通って移動することができるクレート・マニピュレータ３を介してアクセスすることができるように構成されている。 - 特許庁

11.Japan proposes that during the current negotiations, development of a new classification for the energy services sector be considered for the sake of having comprehensive consultations on energy services without deflecting to specific sectors/sub-sectors, since the existing Services Sect oral Classification List (W/120) under the GATS does not recognize energy services in the form of a specific division as already pointed out by many Member Countries. 例文帳に追加

11.既に多くの加盟国が指摘しているとおり、これまでＧＡＴＳにおけるサービス分類（Ｗ／１２０）では、エネルギー・サービスに特化した分類がなされていないため、今次交渉において、広くエネルギー分野全般を対象に特定の分野に偏らぬ包括的な協議を行うこととし、新たなエネルギー・サービス分類の作成を検討することを提案する。 - 経済産業省

In the deposition method, a thin film is formed by using a deposition apparatus that exhausts atmosphere in a processing container and supplies feed gas and reactive gas into the processing container by an evacuation system 82 that holds a workpiece W in the cylindrical processing container 14 and halfway interposes a valve mechanism 86 capable of arbitrarily setting an opening including full opening and full closing.例文帳に追加

筒体状の処理容器１４内に被処理体Ｗを保持し、全開及び全閉を含んで弁開度を任意に設定することができる弁機構８６が途中に介設された真空排気系８２により処理容器内の雰囲気を排気しつつ処理容器内に原料ガスと反応性ガスとを供給するようにした成膜装置を用いて薄膜を形成する成膜方法において、原料ガスと反応性ガスとを処理容器内へ交互に供給すると共に、原料ガスの供給時の弁機構の弁開度を、原料ガスの非供給時の弁開度よりも、全閉状態を除いて小さく設定する。 - 特許庁

In the heat treatment method, a work W is loaded on a loading mount 20 in a treatment container 14 capable of performing the exhaust, and the work is heated to the predetermined set temperature by a heating means 46, and subjected to the predetermined heat treatment by allowing the predetermined gas to flow in the treatment container.例文帳に追加

排気可能になされた処理容器１４内の載置台２０上に被処理体Ｗを載置し、該被処理体を加熱手段４６により所定の設定温度まで昇温すると共に、前記処理容器内に所定のガスを流して所定の熱処理を施すようにした熱処理方法において、前記被処理体に対して前記所定の熱処理を施す直前に、前記被処理体が前記所定の温度に維持されている時に前記加熱手段に印加される電力よりも大きな電力を前記加熱手段に短時間だけ印加する短時間大電力供給工程を少なくとも１回行うようにする。 - 特許庁

Salts of one or more metals selected from Al, Ni, Ag, Zn, Mn, W, Ga, Mo, Cr, In and Sn arc impregnated and carried on H type mordenite and Pd is carried on the metallic salt-containing H type mordenite to obtain the objective catalyst for the purification of NOx-containing exhaust gas containing oxygen in the presence of a hydrocarbon reducer.例文帳に追加

炭化水素還元剤の存在下、酸素を含むＮＯｘ含有排ガス浄化用触媒であって、Ｈ型モルデナイトに対してＡｌ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｗ、Ｇａ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｉｎ及びＳｎのうちの何れか１種又は２種以上の金属の塩を含浸担持させた後、Ｐｄを担持させてなることを特徴とする金属の塩を含有させたＨ型モルデナイトにＰｄを担持した触媒、この触媒によるＮＯｘ含有排ガス浄化方法及びこの触媒の製造方法。 - 特許庁

(i) the deposit for the purposes of this Act, the Budapest Treaty, or both, of micro-organisms with prescribed depositary institutions and the storage and testing of, and furnishing of samples of, micro-organisms by those institutions; and (ii) the charging of fees by prescribed depositary institutions situated in Australia in relation to the matters described in subparagraph (i); and (iii) the making of reports by prescribed depositary institutions situated in Australia in relation to those matters; and (iv) the powers and functions of the Commissioner in relation to prescribed depositary institutions with respect to those matters; and (t) modifying the operation of this Act in relation to PCT applications that are treated as patent applications under this Act by excluding, varying, or substituting different provisions for, specified provisions of this Act; and (u) making provision for and in relation to the destruction of documents relating to applications for patents filed not less than 25 years before the time of destruction; and (w) making provision for and in relation to the refund, in specified circumstances, of the whole or part of a fee paid in respect of the filing of a document; and (y) making provision for and in relation to the remission of, or the exemption of specified classes of persons from the payment of, the whole or part of a fee; and (z) prescribing penalties for offences against the regulations not exceeding a fine of $1,000; and (za) making such transitional and savings provisions as are necessary or convenient as a result of the repeal of the 1952 Act and the enactment of this Act. 例文帳に追加

(i) 本法，ブダペスト条約又はその両方の適用上，所定の寄託機関に対してする微生物の寄託及び当該機関による微生物の保管，検査又は試料の分譲，及び (ii) オーストラリアにある所定の寄託機関による，(i)に記載した事項に関連する費用の賦課，及び (iii) オーストラリアにある所定の寄託機関による，これらの事項に関連する報告書の作成，及び (iv) これらの事項に関連しての，所定の寄託機関に関する局長の権限及び機能，及び (t) 本法に基づく特許出願として取り扱われるPCT出願に関連し，本法の特定の規定を除外し，変更し，又は他の規定に代替することによって，本法の作用を修正すること，及び (u) 破棄時期の25年以上前にされた特許出願に関する書類の破棄についての及びそれに関連する規定を作成すること，及び (w) 書類の提出に関連して納付された手数料の全部又は一部を，特定の状況において返還することについての及びそれに関連する規定を制定すること，及び (y) 特定の種類の者に対して，手数料の全部又は一部の納付を猶予又は免除することについての及びそれに関連する規定を制定すること，及び (z) 規則違反に対し，罰金＄1,000以下の刑罰を定めること，及び (za) 1952年法の廃止及び本法の施行の結果として，必要であるか又は便宜である経過規定及び留保規定を制定すること - 特許庁

A window size setting part 33 for setting the size of a correlation window used for searching for corresponding points corresponding between the reference image G1 and the target image G2, sets the size of a correlation window W for searching for a corresponding point corresponding to a pixel within a predetermined subject area of the reference image G1 including the predetermined subject in accordance with the size of the predetermined subject area.例文帳に追加

基準画像Ｇ１と参照画像Ｇ２との間において、互いに対応する対応点を探索する際に使用される相関ウィンドウのサイズを設定するウィンドウサイズ設定部３３が、基準画像Ｇ１における所定被写体を含む所定被写体領域内の画素と対応する対応点を探索するための相関ウィンドウＷのサイズを、所定被写体領域のサイズに応じて設定する。 - 特許庁