「W-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(225ページ目) - Weblio英語例文検索

When it is in a burst mode, an address decoder 50 outputs internal address signals AN and ANB and block coding signals ANI-I and ANO-I, the data of plural memory cells connected to a same word lines W/L of memory cell blocks 61 to 64 are simultaneously read and a multiplexer 100, which is controlled by a decoding signal COS from a counter 40, successively outputs the data to the external.例文帳に追加

バーストモード時には、アドレスデコーダ５０が内部アドレス信号ＡＮ，ＡＮＢ及びブロックコーディング信号ＡＮＩ＿Ｉ，ＡＮＯ＿Ｉを出力することにより、メモリセルブロック６１〜６４の同じワードラインＷ／Ｌに接続する複数のメモリセルのデータが同時にリードされ、カウンタ４０からのデコーディング信号ＣＯＳにより制御されるマルチプレクサー１００により順次外部に出力される。 - 特許庁

A material with a thermal coefficient of expansion of 10×10-6/°C or less and a specific resistance (resistivity) of 50 μΩcm or more such as FeNi invar or metallic boride, a high melt-point silicide, one-constituent nitride such as Ta, and an alloy containing another constituent such as W in platinum is used for a heater layer 1 of a thin-film gas sensor.例文帳に追加

薄膜ガスセンサのヒーター層１に、熱膨張係数が１０×１０^-6／℃以下で、比抵抗（抵抗率）が５０μΩｃｍ以上の材料（例えばＦｅＮｉ系インバーや金属ホウ化物，高融点シリサイド，Ｔａ等の一成分の窒化物，白金にＷ等の他の一成分を含む合金等）を用いることにより、掲記課題の解決を図る。 - 特許庁

When the power generation, regeneration, and the amount of assist exceed the reference levels, remaining capacity is computed on the basis of the open circuit voltage through the use of an impedance based on motor torque (S11), and weights (w) in which the weight of remaining capacity based on current integration is made greater than that of normal time is computed (S12) to compute combined remaining capacity.例文帳に追加

一方、発電、回生、アシスト量が基準を越えている場合には、モータトルクに基づくインピーダンスを用いて開放電圧の推定値に基づく残存容量を算出し（Ｓ１１）、通常時よりも電流積算に基づく残存容量の重みを大きくしたウェイトｗを算出し（Ｓ１２）、合成残存容量を算出する。 - 特許庁

In forming a mother substrate W, light shielding films 6, 8 for shielding a laser beam are formed between a face on the electrode group 5 side of a TFT substrate 1 and the opposing substrate 2 and the electrode group 5, namely, an area (area slightly larger than the area opposing the electrode group 5) irradiated with the laser beam emitted to the TFT substrate 1 and the opposing substrate 2.例文帳に追加

マザー基板Ｗの生成時に、ＴＦＴ基板１および対向基板２の電極群５側の面と電極群５との間、つまり、ＴＦＴ基板１および対向基板２に照射されたレーザ光が当たる領域（電極群５に対向する領域より若干広い領域）にレーザ光を遮る遮光膜６、８を形成した。 - 特許庁

A belt body 5 used in the transport conveyor is formed from an aluminum alloy plate having a high thermal conductivity, and the surface of the belt body 5 is subjected to alumite processing for giving it anti-corrosiveness, resistance against corrosion, anti-abrasiveness, etc. or to an embossing process, surface asperity process, satin finishing, etc. for preventing the unvulcanized rubber member W from tight attachment.例文帳に追加

この発明に実施するベルト本体５は、熱伝導率が高いアルミ合金板により形成され、ベルト本体５の表面６には、防食性，耐食性，耐摩耗性等を目的としてアルマイト加工を施したり、また未加硫ゴム部材Ｗの密着防止を目的として、エンボス加工や凹凸加工、或いは梨地加工等を施してある。 - 特許庁

In a configuration structure of a wheel spindle stock 10 for rotationally supporting a grinding wheel 3 with respect to a swiveling table 22 of a swivel unit 11, a grinding wheel spindle 20 of the grinding wheel 3 rotatably supported by the wheel spindle stock 10 is arranged at a work table 1 side for rotationally supporting a workpiece W with respect to a turning shaft 22a of the swiveling table 22.例文帳に追加

砥石車３を回転支持する砥石台１０の旋回ユニット１１の旋回テーブル２１に対する配置構成は、砥石台１０に回転可能に軸承される砥石車３の砥石軸２０が旋回テーブル２１の旋回軸２１ａに対してワークＷを回転支持するワークテーブル１側となるように配置されている。 - 特許庁

This pad type journal bearing device of a load between type, shares and supports a load W of the rotary shaft 6 by lower half two pads 1 and 2 arranged inside a bearing inner race 4; and comprises an inclination restricting means 9 for restricting an inclination of the rotational upstream side pad 1 of the lower half two pads 1 and 2 in starting.例文帳に追加

軸受内輪４の内側に設けられた下半２枚のパッド１，２により回転軸６の荷重Ｗを分担して支持するロードビトゥイーン型のパッド型ジャーナル軸受装置において、起動時に前記下半２枚のパッド１，２のうち回転上流側パッド１の傾きを拘束する傾き拘束手段９を備えている構成とする。 - 特許庁

In the magnetic recording medium, a plurality of non-magnetic metal intermediate layers are formed between a base layer and a magnetic layer, one layer thereof consists of at least one element of Ru, Re and Os and contains oxygen and another layer thereof consists of a CoCr alloy containing at lest one element of Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, Ta, W, Re, Os, Ir and Pt.例文帳に追加

下地層と磁性層との間に複数の非磁性金属中間層を形成した構成とし、その内の一つを、Ｒｕ，Ｒｅ，Ｏｓのうちの少なくとも1つの元素からなり、かつ酸素を含有する構成とするとともに、さらに別の一つを、Ｎｂ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔのうちの少なくとも1つの元素を含むＣｏＣｒ合金からなる構成とする。 - 特許庁

In the method of supporting the semiconductor wafer for supporting a semiconductor wafer 120 while sticking it on a support 122 with an adhesive agent 124, a working method for the semiconductor wafer is provided with features that a melting temperature of the adhesive agent 124 is within a temperature range of 40-95°C and a heat conductivity of the support 122 is within a range of 100-300 W/mK.例文帳に追加

半導体ウェハ１２０を接着剤１２４で支持体１２２に貼り付けて支持する半導体ウェハの支持方法において，前記接着剤１２４の融解温度は，４０〜９５℃の温度範囲にあり，かつ前記支持体１２２の熱伝導率は，１００〜３００Ｗ／ｍＫの範囲にある，ことを特徴とする半導体ウェハの加工方法が提供される。 - 特許庁

In a thin film transistor having a polycrystal silicon thin film formed on a substrate through an insulating film and using the polycrystal silicon thin film as an active layer, the thickness d[cm] is made to satisfy d≥5.0×10-4×k1/2 when the thermal conductivity of a material constituting the insulating film is set to be k[W/(cm.K)].例文帳に追加

基板上に絶縁膜を介して成膜された多結晶シリコン薄膜を有すると共に、この多結晶シリコン薄膜を活性層として用いた薄膜トランジスタにおいて、絶縁膜を構成する素材の熱伝導率をｋ〔Ｗ／（ｃｍ・Ｋ）〕とした場合、当該絶縁膜の厚さｄ〔ｃｍ〕を、ｄ≧５．０×１０^−４×ｋ^１／２を満たす厚さとする。 - 特許庁

The metallic shaft is internally fitted to the cylindrical body consisting of the ceramic having thermal conductivity ≥70 W/mK, a helical or reciprocating groove for passing the medium for heating/cooling is disposed on the outer peripheral surface which comes in contact with the cylindrical body of the metallic shaft, steps are formed on the outside parts of both edges and D-cut is formed on one side or both sides thereof.例文帳に追加

熱伝導率７０Ｗ／ｍ・Ｋ以上のセラミックスからなる円筒体に金属シャフトを内嵌めし、該金属シャフトの上記円筒体と接する外周面に、加熱冷却用媒体を通過させる為の螺旋状又は往復状の溝を設け、その両端外形部に段を設けかつ片側もしくは両側にＤカットを設ける。 - 特許庁

According to the shear reinforcing method and the filler injection method, an impregnating material 40 made of an aqueous solution containing an inorganic crystal proliferator, is sprayed to an internal wall surface of a reinforcing member insertion hole 10 formed in a side wall W, and thereafter a shear reinforcing member is inserted into the reinforcing member insertion hole 10, followed by injecting the filler 30.例文帳に追加

側壁Ｗに形成された補強部材挿入孔１０の内壁面に無機質系の結晶増殖剤を含む水溶液からなる含浸材４０を噴霧した後、補強部材挿入孔１０にせん断補強部材を挿入するとともに充填材３０を充填するせん断補強方法および充填材の充填方法。 - 特許庁

In the apparatus, a laser beam is emitted from a laser source 11 under an output control by a control means 3, and the emitted beam passes through a beam splitter 12, reaches a collimator lens 13 by which the beam is converted into approximately parallel light, passes through a half mirror 14 and an objective lens 15 and is projected on a work W that is a plate-like opaque body.例文帳に追加

制御手段３からの出力制御によりレーザ光源１１からレーザ光が出射され、この出射光がビームスプリッタ１２を透過してコリメータレンズ１３に至り、略平行光に変えられてからハーフミラー１４及び対物レンズ１５を透過して板状の不透明体であるワークＷに投射されるようになっている。 - 特許庁

A crystal raw material consisting of a composition containing a terminal component more than a stoichiometrical composition represented by chemical formula XB_2 (wherein X contains at least one kind selected from Zr, Hf, Ti, W, Mo, and Cr) is heat-melted in a sealed crucible made of a weldable metal having a melting point of ≥2,000°C, and cooled to be crystallized and grown.例文帳に追加

融点が２０００℃以上の溶接可能な金属製の密閉坩堝の中で化学式ＸＢ_２（但し、ＸはＺｒ、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒの少なくとも一種を含む）で表わされる化学量論組成よりも端成分に富む組成からなる結晶原料を加熱融解し冷却することによって結晶化して育成する。 - 特許庁

The etching apparatus includes a stage 21 for partitioning a processing space 22 movably carried in the etching chamber 11 for etching the sample W and a reservoir space 23 for temporarily reserving the xenon difluoride gas supplied to the processing space 22 and also allowing no xenon difluoride gas to flow between the processing space 22 and the reservoir space 23.例文帳に追加

エッチング装置は、エッチング室１１内で移動可能に支持され、試料Ｗをエッチングする処理空間２２と、該処理空間２２に供給する二フッ化キセノンガスを一時的に貯留する貯留空間２３とに区画するとともに、処理空間２２と貯留空間２３との間で二フッ化キセノンガスを流通不能にするステージ２１を備えた。 - 特許庁

The curable composition is used for adhering a heat conductor 2 having thermal conductivity of ≥10 W/m-K on an electroconductive layer 4 when a chip-on-board optical semiconductor device is obtained in which an optical semiconductor element 5 is directly mounted on the electroconductive layer 4 of a board having the heat conductor 2 and the electroconductive layer 4 instead of using a package.例文帳に追加

本発明に係る硬化性組成物は、パッケージを用いずに、熱伝導体２と導電層４とを有する基板の導電層４上に光半導体素子５を直接搭載したチップオンボード方式の光半導体装置１を得る際に、熱伝導率が１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上である熱伝導体２を導電層４に接着するために用いられる。 - 特許庁

The wheel storage device of a radio-controlled airplane has a wheel storage concavity portion 7 formed in the main wing W and a subsidiary cover plate 9 rotated by the wheel during the storage of the wheel 6 which is attached to the main wing, and conceals the stored entire wheel by the subsidiary cover plate and a main cover plate 8 attached to the wheel mounting shaft 5.例文帳に追加

主翼Ｗに車輪収納凹部７を形成し、車輪６の収納途中で車輪によって回動する副覆い板９を主翼に取付け、車輪取付軸５に取付けられている主覆い板８とによって収納状態の車輪全体を主・副覆い板によって隠蔽するようにしたラジオコントロール飛行機の車輪格納装置である。 - 特許庁

A reflector for solar thermal power generation which has a film mirror having a silver reflective layer on a resin substrate and a supporting body supporting the film mirror is characterized in that the supporting body has a heat capacity of 90 kJ/K or more and a heat conductivity of 50 W/(m K) or more per 1 m^2 of the film mirror back face.例文帳に追加

樹脂基材上に銀反射層を有するフィルムミラーと該フィルムミラーを支持する支持体とを有する太陽熱発電用反射装置において、前記支持体が、前記フィルムミラー背面１ｍ^２あたり９０ｋＪ／Ｋ以上の熱容量と５０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上の熱伝導率を有することを特徴とする太陽熱発電用反射装置。 - 特許庁

The liquid ejection head comprises a substrate 20 in which a pressure chamber 21 is formed, a diaphragm 30 formed on the substrate, and a piezoelectric thin film element 40 formed on the diaphragm wherein the diaphragm is deflected to project toward the pressure chamber side and deflection of the diaphragm is within 0.4% of the width W of the pressure chamber.例文帳に追加

圧力室２１が形成された基板２０と、基板上に形成された振動板３０と、振動板上に形成された圧電体薄膜素子４０と、を備えた液体吐出ヘッドにおいて、前記振動板が前記圧力室側に凸となるようにたわんでおり、前記振動板のたわみ量Ｓが、前記圧力室の幅Ｗの０．４％以下である。 - 特許庁

When the temperature of the hot air D is higher than the preset, the collected liquid W discharged from the discharge nozzle 90 is sprayed to the hot air D to be cooled and the temperature of the hot air D is kept adequate for the drying treatment of the wet livestock feces B in accordance with detected information output from a hot air temperature detecting sensor S.例文帳に追加

且つ、熱風Ｄが予め設定した温度よりも高くなった場合、吐出ノズル９０から吐出される回収液Ｗを熱風Ｄに吹き付けて冷却し、熱風温度検知センサーＳから出力される検知情報に基づいて、熱風Ｄの温度を、未乾燥畜糞Ｂを乾燥処理するのに適した温度に保つ。 - 特許庁

(2) The optical information recording medium has at least a reflective layer, an intermediate layer, a second dielectric layer, a recording layer, and a first dielectric layer in this sequence on a transparent or opaque substrate and the intermediate layer comprises materials containing at least one metal selected from Ti, Zr, V, Nb, Ta, Cr, Mo and W, carbon and oxygen.例文帳に追加

（２）透明又は不透明な基板上に、少なくとも反射層、中間層、第二誘電体層、記録層、第一誘電体層をこの順に有し、中間層がＴｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗから選ばれる少なくとも一つの金属と炭素及び酸素を含有する材料からなる光情報記録媒体。 - 特許庁

The material 9 allows representation of a deeper tint and a silky finish, which cannot be represented in surface treatment of metal, so as to improve the designability; and the gap S can prevent the damage to the material 9 from being caused by the deflection W of the wall surface 8, so as to enhance the durability.例文帳に追加

前記窯業系外壁材９により金属の表面処理では出すことのできない深みのある色合いと艶やかな仕上げを表現することができ、意匠性の向上が図れると共に、前記隙間Ｓにより壁面８の撓みＷに起因する窯業系外壁材９の破損を防止することができ、耐久性の向上が図れる。 - 特許庁

A machining head 26 for rotationally driving a machining tool 27 is mounted to a support shaft 21 pivotably mounted to the tool support base 18, a spring force of a tension coil spring 36 is applied to the machining tool 27 through an oscillating lever 34 mounted to the support shaft 21, and the workpiece W is energized by pressing force in the oscillating direction.例文帳に追加

工具支持台１８に揺動自在に装着された支持軸２１には加工工具２７を回転駆動する加工ヘッド２６が装着され、支持軸２１に取り付けられた揺動レバー３４を介して引っ張りコイルばね３６のばね力が加工工具２７に加えられ、ワークＷに対して揺動方向の押し付け力が付勢される。 - 特許庁

An anti-pinching member 17 which extends into the bunching region 14 as the claw members 12a, 12b are closed to prevent the electric wire W from being pinched in an interior angle 14a is provided at the interior angle 14a of the region 14 structured between at least one of the claw members 12b and the plate 13.例文帳に追加

そして、少なくとも一方の爪部材１２ｂとプレート１３との間で構成される集束領域１４の内角部１４ａに、爪部材１２ａ、１２ｂが閉じるに従い内角部１４ａから集束領域１４内へ張り出して内角部１４ａへ電線Ｗの挟み込みを防止する挟み込み防止部材１７を設けている。 - 特許庁

Since boards 5 each having a light emitting diode 3 arranged thereon are mounted on two central ridge-shaped inclined surfaces 61 of nearly-W-shaped reflecting plates 6, and a light emitting plate 2 is arranged in front of them to cover the light emitting diodes 3, the light emitted from the light emitting diodes 3 can be efficiently reflected to the front side.例文帳に追加

また、略Ｗ字状の反射板６の中央山型状の２個の傾斜面６１に、発光ダイオード３を配置した基板５が取付けられ、その前面に発光ダイオード３を覆うように光出射板２を設けるようになしているので、発光ダイオード３から出射される光を前方に効率よく反射させることができる。 - 特許庁

The workpiece holding device 1, for performing the centering chucking of a workpiece W with a plurality of chuck claws 9 arranged at equal intervals and angles, includes: side plates 8 on which the chuck claws 9 are turnably mounted; sliding members 7 on which the side plates 8 are mounted; and a scroll chuck body 6 for simultaneously sliding the respective sliding members 7 in a radial direction.例文帳に追加

等間隔角度で配設された複数のチャック爪９によりワークＷをセンタリングチャックするワーク保持装置１において、チャック爪９を回動自在に装着したサイドプレート８と、サイドプレート８を装着したスライド部材７と、スライド部材７の各々を半径方向に同時にスライドさせるスクロールチャック本体６とを備える。 - 特許庁

In manufacturing a retaining seal material for a catalyst converter 1 for exhaust emission control and also manufacturing the catalyst converter 1, the non-expansive seal mat 2 is impregnated with water component W as a binder of low-temperature solidifying medium, so that the seal mat itself 2 has low friction owing to an ice phase film formed when the binder is turned into ice by cooling.例文帳に追加

本発明に係る排気ガス浄化用触媒コンバータ１の保持用シール材および排気ガス浄化用触媒コンバータ１の製造方法では、無膨張性シールマット２に低温凝固媒体のバインダーとして水成分Ｗを含浸させているので、このバインダーが冷却により氷化した氷層膜により無膨張性シールマット２自体が低摩擦となる。 - 特許庁

A liquid processing apparatus 10 includes: a processing chamber 20; nozzles 82a for supplying a fluid to a substrate W held by a substrate holding part 21; nozzle support arms 82 supporting the nozzles 82a; and an arm standby part 80 provided adjacent to the processing chamber 20 and used as a place in which the nozzle support arms 82 withdrawn from the processing chamber 20 stand by.例文帳に追加

液処理装置１０は、処理室２０と、基板保持部２１に保持された基板Ｗに対して流体を供給するためのノズル８２ａと、ノズル８２ａを支持するノズル支持アーム８２と、処理室２０に隣接して設けられ、当該処理室２０から退避したノズル支持アーム８２が待機するためのアーム待機部８０と、を備えている。 - 特許庁

A car tool for getting out of derail includes a wire netting 1 of coarse mesh having an elasticity strength to enable restorage of weighted deformation by a tire rotating T and having surface unevenness over the whole surface area, in which the crosswise width W of the wire mesh is made larger than the tread S of tire T and the longitudinal width L made larger than the diameter R of the tire T.例文帳に追加

回転タイヤＴによる加重変形を復元可能とする弾性強度を有し且つ表面全体に凹凸２を有する粗メッシュの金網１の、横幅ＷをタイヤＴのトレッド幅Ｓよりも大きく、縦幅ＬをタイヤＴの直径Ｒよりも大きく形成したことを特徴とする自動車の脱輪脱出具である。 - 特許庁

In each interval among the etching solution vessel 1, the washing treatment vessel 4 and the dipping treatment vessel 5, a conveying device 7 moved by holding the bucket 1 holding the aluminum honeycomb core W so as to be ascendable/descendable and movable, is set and this conveying device 7 is fitted with a clamping means 10 for holding the bucket 3 ascended/descended along a guide rail 9.例文帳に追加

エッチング溶液槽１と洗浄処理槽４とデップ処理槽５との間には、アルミハニカムコアＷを収容した前記バケット３を保持して移送する昇降、かつ移動可能な搬送装置７が設置され、この搬送装置７は、ガイドレール９に沿って昇降するバケット３を保持するクランプ手段１０が取付けられている。 - 特許庁

The method for electric discharge machining includes steps of applying rotation vortex motion to a machining liquid 6 containing impurities to coagulate the impurities and make them coarse, removing the impurities by filtering, and thereafter electric-discharge-machining with the filtered machining liquid 6 placed in a gap between an electrode 7 and a workpiece W.例文帳に追加

本発明に係る放電加工方法は、不純物が含まれる加工液６に回転渦運動を与えて、前記不純物を凝集させて粗大化し、これを濾過処理により除去した後に、前記濾過処理が施された加工液６を、電極７とワークＷとの間隙に介在させて放電加工を行うことを特徴とする。 - 特許庁

This device 1 for measuring workpiece characteristic is equipped with a conveyance table 3 having a workpiece storage hole 4, a pair of probes 7, 6 capable of abutting on electrodes Wa, Wb of the workpiece W stored in the workpiece storage hole 4, a conveyance body driving device 3a of the conveyance table 3, and a probe driving mechanism 12 for driving one probe 7.例文帳に追加

ワーク特性測定装置１は、ワーク収納孔４を有する搬送テーブル３と、ワーク収納孔４内に収納されたワークＷの電極Ｗａ、Ｗｂに当接可能な一対のプローブ７、６と、搬送テーブル３の搬送体駆動装置３ａと、一方のプローブ７を駆動させるプローブ駆動機構１２とを備えている。 - 特許庁

In the liquid crystal panel having a liquid crystal layer sealed between a pair of substrates W with alignment films formed thereon, the alignment film comprises an oblique vapor deposition film of an inorganic material, and is formed by depositing a second vapor deposition film 4b on a first vapor deposition film 4a, with the orientation directions of the vapor deposited particles 4 perpendicular to each other.例文帳に追加

配向膜が形成された一対の基板Ｗ間に液晶層を封止してなる液晶パネルにおいて、その配向膜が、無機材料の斜方蒸着膜からなると共に、第１の蒸着膜４ａ上に第２の蒸着膜４ｂを積層してなるもので、各蒸着分子４の配向方向が略垂直となるように積層されている。 - 特許庁

This substrate processing apparatus includes a processing chamber 36, a carrier roller 42 to horizontally carry the substrate W in the processing chamber, a spray nozzle 44 to discharge etching liquid 48 to the top of the substrate carried by the carrying roller, and a gas discharge nozzle 52 to discharge cold air or warm air to a required region on the top of the substrate carried by the carrier roller.例文帳に追加

処理チャンバ３６と、処理チャンバ内で基板Ｗを水平方向へ搬送する搬送ローラ４２と、搬送ローラによって搬送される基板の上面へエッチング液４８を吐出するスプレーノズル４４と、搬送ローラによって搬送される基板上面の所要領域に対して冷風または温風を吐出する気体吐出ノズル５２とを備える。 - 特許庁

A styrene derivative is reacted with carbon monoxide in the presence of a palladium compound catalyst and a catalyst comprising a heteropoly acid or an oxoacid containing an element of P or Si and an element selected from V, Mo and W, to obtain the 1(4H)-naphthalenone derivative represented by formula (2) (wherein, R^1 to R^5 indicate each hydrogen or a group containing a nonmetal element).例文帳に追加

パラジウム化合物触媒と、ヘテロポリ酸若しくはＰ又はＳｉの元素と、Ｖ、Ｍｏ及びＷから選択された元素とを含むオキソ酸からなる触媒の存在下、スチレン誘導体を一酸化炭素と反応させて、式（２）（Ｒ^１〜Ｒ^５は水素又は非金属原子含有基を示す）で表される１（４Ｈ）−ナフタレノン誘導体を得る。 - 特許庁

Even if one heating and cooling unit PHP is removed when three coating units RESIST for resist film, two heating and cooling units PHP and one cooling unit CP are being used as processing units, for example, the substrate W can be processed in the predetermined order by the remaining processing units under use.例文帳に追加

たとえば、レジスト膜用塗布処理ユニットＲＥＳＩＳＴ、加熱冷却ユニットＰＨＰおよび冷却ユニットＣＰをそれぞれ３台、２台、１台使用しているところ、１台の加熱冷却ユニットＰＨＰを使用処理部から外れた場合であっても、残っている使用処理部によって、所定の順番で基板Ｗに処理を行うことができる。 - 特許庁

In this heat exchanger 100, cooling water Wc supplied to a heat exchange part 110 and air Ah flowing into the heat exchange part 110 are brought into contact with each other to perform heat exchange.The heat exchanger 100 includes a spray part 130 for spraying cooling water W(Wh) to the air Ah immediately before it flows into the heat exchange part 110 to thereby cool the air.例文帳に追加

熱交換部１１０に供給された冷却水Ｗｃと熱交換部１００に流入させた空気Ａｈとを接触させて熱交換する交換器１００において、熱交換部１１０に流入する直前の空気Ａｈに対して冷却水Ｗ（Ｗｈ）を噴霧して冷却するスプレー部１３０を備える。 - 特許庁

The filament 10 to form the linear body layer 12 and the nonwoven fabric 14 are connected at a prescribed wiping section W which excludes both side sections in the direction of each the filament 10 out of a surface section of the linear body layer 12 by many identical circular heat melting sections 16 which are evenly dispersed and arranged throughout the whole surface of the wiping section and are independent each other.例文帳に追加

線状体層１２の表面部のうち各単繊維１０方向における両側部を除いた所定拭部Ｗにおいて、その全面にわたり満遍なく分散配置されて互いに独立状をなす多数の同一の円形熱融着部１６により、線状体層１２を構成する単繊維１０と不織布１４を接合する。 - 特許庁

This device is provided with a washing component 1 having an elastic deformation plate 11 disposed oppositely to the surface of the substrate W and plural piezoelectric elements 15 for generating surface acoustic waves toward the plate 11 and a signal imparting part for giving signals in described order to the elements 15 to make the plate 11 generate a traveling wave.例文帳に追加

基板Ｗの表面に対向して配設された弾性変形板１１と、弾性変形板１１に対して弾性表面波を発生させるための複数個の圧電素子１５とを有する洗浄具１と、圧電素子１５に対して所定の順序で信号を与えて弾性変形板１１に進行波を発生させる信号付与部とを備える。 - 特許庁

The article pickup device 20 of the vending machine equipped with an article receiving box 21 which receives the article W carried out of the machine while facing an article pickup opening 14 in the front is equipped with a block material 23 which projects from nearby a lower edge of the article pickup opening 14 into the article receiving box 21.例文帳に追加

前面に開口する商品取出口１４を臨む態様で、機内から搬出された商品Ｗを受け止めるための商品受け箱２１を備えた自動販売機の商品取出装置２０において、商品取出口１４の下縁部近傍から商品受け箱２１の内部に突出した態様のブロック材２３を備えたものである。 - 特許庁

The semiconductor device is provided with the interlayer insulating film 101; another interlayer insulating film 103 provided on the laminate; and the conductive plug penetrating through the interlayer insulating film 103 and the etching adjusting film 115 while being constituted of the other Ti film 117, the other TiN film 119, and a W film 121, and whose end surface is positioned in the TiN film 113.例文帳に追加

半導体装置は、層間絶縁膜１０１および積層体上に設けられている層間絶縁膜１０３と、層間絶縁膜１０３およびエッチング調整膜１１５を貫通し、端面がＴｉＮ膜１１３中に位置しているＴｉ膜１１７、ＴｉＮ膜１１９およびＷ膜１２１からなる導電プラグと、を備える。 - 特許庁

The electrostatic attraction table 64 of the vacuum treatment equipment 1 set with the conductive work W having a through-hole Wa has a table body 64a built in with an electrostatic attraction mechanism 70 and a protection sheet 5 composed of either of an insulating material or a semiconductor material.例文帳に追加

貫通孔Ｗａを有する導電性のワークＷがセットされる真空処理装置１の静電吸着テーブル６４において、上部に静電吸着機構７０を組み込んだテーブル本体６４ａと、テーブル本体６４ａの上面に敷設され、絶縁性材料および半導体材料のいずれかで構成された保護シートＳと、を有している。 - 特許庁

This apparatus includes a first gas inlet port 80 provided at a position facing an opening 11 of a chamber 10, and a second gas inlet port 90 for introducing a gas into the chamber 10 through a plurality of gas blow-out ports 91 made in a plate provided nearly parallel to the plane of a substrate W within the chamber 10.例文帳に追加

チャンバ１０の開口部１１に対向する位置に設けられた第１のガス導入口８０と、チャンバ１０内に収容された基板面と略平行な面内に形成された複数のガス吹き出し口９１よりチャンバ１０内にガスを導入する第２のガス導入口９０とが設けられており、ガス排気口７０は炉口ブロック５０に形成されている。 - 特許庁

The moisture adsorption means 1 has a constitution that an adsorbent is supported to a substrate 5 formed so as to secure ventilation properties, the substrate 5 has a high heat conductivity of 150 W/mK or more and is made of a lighter weight material, in which the density is 5,000 kg/m^3 or less, and the adsorbent has a large adsorption amount and a little adsorption energy.例文帳に追加

水分吸着手段１は、通風性を確保できる構成に形成された基材５に、吸着剤を担持させたものであり、基材５は熱伝導率１５０Ｗ／ｍＫ以上の高い熱伝導性を有し、かつ密度５，０００ｋｇ／ｍ^3以下の軽量材料で、吸着剤は吸着量が多く且つ吸着エネルギの小さいものである。 - 特許庁

An electric gripper 10 is provided with a driving mechanism 12 having a motor 16, a feed screw 22 for transmitting the rotation driving force from the motor 16 to a feed nut 30 displaceable in an axial direction, and a gripper 14 connected to the feed nut 30 through a link mechanism 18 and holding the workpiece W by being displaced interlocked with the feed nut 30.例文帳に追加

電動グリッパ１０は、モータ１６と、軸線方向に変位可能な送りナット３０にモータ１６からの回転駆動力を伝達する送りねじ部２２と、送りナット３０にリンク機構１８を介して連結され、送りナット３０と連動して変位することでワークＷを把持するグリッパ部１４とを備える駆動機構１２を有する。 - 特許庁