「W-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(222ページ目) - Weblio英語例文検索

The circulation pipe 9 is equipped with a meandered or spirally formed stock piping part 11 for storing a predetermined quantity of water in the proximity of an evaporator 10a constituting a cooling means 10, a driving pump 12 for sucking and circulating drinking water in a drinking water container 2, and a spout 15 for warm water Hw or cold water W via a filter 13 and the valve 14.例文帳に追加

この循環配管９には、冷却手段１０を構成するエバポレーター１０ａに近接して一定の水量を保管する蛇行状または渦巻き状に形成されたストック配管部１１と、飲料水容器２内の飲料水を吸引及び循環させる駆動ポンプ１２と、フィルター１３と電磁切り替え弁１４を介して温水Ｈｗまたは冷水Ｗの注出口１５とがそれぞれ設置してある。 - 特許庁

The information distribution server 21 reads out the user's address data of a user registered in relation to the user identification data from an address database 22, reads out the distribution information data of an information providing source registered in relation to the R/W part identification data from an distribution information database 23 and distributes the distribution information data to a portable terminal 30 specified by the user's address data.例文帳に追加

この情報配信サーバ２１は、アドレス用データベース２２からユーザ識別データと関連付けられて登録されている利用者の利用者アドレスデータを読み出し、また、配信情報データベース２３からＲ／Ｗ部識別データと関連付けられて登録されている情報提供元の配信情報データを読み出し、利用者アドレスデータで特定される携帯端末３０へ配信情報データを配信する。 - 特許庁

The transfer carrier is capable of changing direction 180 degrees without a dead space such as a U-turn, and the delivery stations S_1, S_2 of the transfer carrier are arranged at the two sides of the dead-end in a passage W and load delivering can be carried out in either delivery station even if the load delivering direction is fixed to one direction.例文帳に追加

搬送台車ＶがＵターンする場合のようなデッドスペースを必要としないで搬送台車Ｖの向きを１８０度変えることが可能となり、また、搬送台車Ｖの受渡しステーションＳ_1 、Ｓ_2 が通路Ｗにおける行き止まり地点の両側にあってその積荷の受渡し方向が１方向に固定されている場合でも、どちらの受渡しステーションにおいても積荷の受渡しを行うことができる。 - 特許庁

Relating to a silicon carbide composite body wherein aluminum or an alloy mainly consisting of aluminum is impregnated in a porous silicon carbide molding, it has thermal conductivity of ≥200 W/mK, concretely the content of oxygen is ≤1.1 weight %, and a volume ratio of silicon carbide in the silicon carbide composite body is ≥50%.例文帳に追加

多孔質炭化珪素成形体にアルミニウム又はアルミニウムを主成分とする合金を含浸してなる炭化珪素質複合体であって、２００Ｗ／ｍＫ以上の熱伝導率を有することを特徴とする炭化珪素質複合体であり、具体的には、酸素含有量が１．１重量％以下であり、炭化珪素複合体中の炭化珪素の占める体積割合が５０％以上である前記の炭化珪素質複合体。 - 特許庁

The equipment for cleaning a semiconductor substrate such as a wafer (W) comprises a processing chamber 100, a rotatable supporting section 200 arranged in the processing chamber 100 and being arranged with the semiconductor substrate, a nozzle 400 for supplying organic solvent, and a dry gas supply nozzle 500 for supplying organic solvent in vapor state into the processing chamber.例文帳に追加

ウェーハ（Ｗ）などの半導体基板を洗浄する装置であって、処理室１００と、前記処理室内１００に配置され、前記半導体基板を配置するための回転可能な支持部２００と、有機溶剤を供給するための有機溶剤供給ノズル４００と、前記処理室内に蒸気状態の有機溶剤を供給するための乾燥ガス供給ノズル５００と、を含むことを特徴とする洗浄装置。 - 特許庁

An array substrate AR of the liquid crystal display comprises a color filter 81 formed to cover a plurality of thin film transistors W and a plurality of pixel electrodes EP formed on the color filter and connected to the respective thin film transistors in a display region DSP for displaying an image and a frame-shaped light shielding layer SP disposed ao as to enclose the display region in a peripheral region DCT of the display region DSP.例文帳に追加

液晶表示装置のアレイ基板ＡＲは、画像を表示する表示領域ＤＳＰにおいて、複数の薄膜トランジスタＷを覆って形成されるカラーフィルタ８１、及び、カラーフィルタ上に形成され各薄膜トランジスタに接続される複数の画素電極ＥＰを含み、表示領域ＤＳＰの周辺領域ＤＣＴにおいて、表示領域を囲むように配置された枠状の遮光層ＳＰを含む。 - 特許庁

In the method for producing hydrogen by hydrolyzing hydride (8) in a hermetically sealable vessel (2), the hydride (8) and water (W) are separated from each other by a member formed from a water repellent steam permeable material (7) at least a part of which has steam permeability and water molecule permeated through the water repellent steam permeable material (7) is reacted with the hydride (8) to produce hydrogen.例文帳に追加

密閉可能な容器（２）内で、水素化物（８）を加水分解させて水素を発生させる方法であって、前記水素化物（８）と水（Ｗ）とを、少なくとも一部が水蒸気透過性を有する撥水性水蒸気透過材（７）で形成されている部材によって隔離すると共に、該撥水性水蒸気透過材（７）を透過してくる水分子と前記水素化物（８）と反応させて水素を発生させるものである。 - 特許庁

The plating method comprises the first step of wetting the concave 80 shaped on the surface to be plated of the workpiece W with deionized water 82 by contacting the surface with the deionized water 82, and the second step of forming a copper film on the surface to be plated of the workpiece in wetting condition with an electroplating after immersing the workpiece in a plating solution 14.例文帳に追加

本発明のめっき方法は、被処理体Ｗの被成膜面に純水８２等を付着させ、被処理体の成膜面に形成された凹部８０の内面を純水８２により濡らす第１ステップと、この第１ステップの後、被処理体の被成膜面が濡れた状態にて、被処理体をめっき液１４に浸漬し電解めっき法により被処理体の被成膜面に銅膜を成膜する第２ステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To prevent color mixing in a drawing device of a trailing stage due to a solvent of functional liquid, sticking on a bank part surrounding a pixel area, in a drawing device of a precedent stage on a drawing operation line for partially applying the functional liquid by respective drawing operations to many pixel areas on a work W by successively providing drawing devices equipped with droplet discharge heads through a work conveying device.例文帳に追加

液滴吐出ヘッドを備える描画装置の複数台をワーク搬送装置を介して連設し、ワークＷ上の多数の画素領域に各描画装置で分担して機能液を塗布するようにした描画作業ラインにおいて、画素領域を囲うバンク部に前段の描画装置において付着した機能液の溶剤に起因して後段の描画装置で混色を生ずることを防止する。 - 特許庁

When measurement values by the measurement devices 32A and 32B for preceding work parts Wa-Wd in grinding work among the work parts Wa-Wd at the plurality of positions in the workpiece W become prescribed values, grinding work to the preceding work parts Wa-Wd is temporarily stopped to wait till the measurement values by the measuring devices 32A and 32B for succeeding work parts Wa-Wd become the prescribed values.例文帳に追加

ワークＷの複数箇所の加工部分Ｗａ〜Ｗｄのうちで、研削加工の先行する加工部分Ｗａ〜Ｗｄにおける測定装置３２Ａ，３２Ｂの測定値が所定値になったとき、その先行加工部分Ｗａ〜Ｗｄの研削加工を一時中止して、研削加工の後続する加工部分Ｗａ〜Ｗｄにおける測定装置３２Ａ，３２Ｂの測定値が所定値になるのを待つ。 - 特許庁

This method for forming a metal-atom-containing film on a substrate comprises converting a reactive gas containing metal atoms to a plasma state, by supplying an electric power of 1 W/cm2 or higher with a high-frequency higher than 100 kHz in between two facing electrodes, and discharging them under atmospheric pressure or similar pressure; and exposing the substrate to the reactive gas in the plasma state.例文帳に追加

大気圧または大気圧近傍の圧力下において、対向する２種の電極間に、１００ｋＨｚを越えた高周波電圧で、且つ、１Ｗ／ｃｍ^２以上の電力を供給して放電させることにより、金属原子を含む反応性ガスをプラズマ状態とし、基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって、前記基材上に、金属原子含有膜を形成する。 - 特許庁

In the apparatus for producing the semiconductor single crystal, a forced cooling tube 11 for circulating a cooling fluid W is arranged above a raw melt so as to surround the semiconductor single crystal 3 being pulled from the raw melt stared in a crucible, and the single crystal is grown by a Czochralski method while removing radiant heat from the semiconductor single crystal 3 by the forced cooling tube 11.例文帳に追加

半導体単結晶の製造装置は、原料融液の上方において、ルツボに収容した原料融液から引き上げられる半導体単結晶３を取り囲む形で、冷却流体Ｗを流通させる強制冷却筒１１が配置され、強制冷却筒１１により引き上げた半導体単結晶３からの輻射熱を除去しつつチョクラルスキー法により単結晶を育成するものである。 - 特許庁

In addition, transporting means for a work w are disposed in the positions before and behind the annular liquid chamber 7 across the chamber so as to pass the work through the central inside hole of the annular liquid chamber 7.例文帳に追加

外部から適当圧力の液剤を供給される環形液室７を形成すると共に、この液室７の内周室壁の周方向部位の全周囲に、環形液室７内の液剤を該液室の中心部へ向けてカーテン状に噴出させるための液通路用スリット８を形成したものとなし、且つ該環形液室７を挟んでその前後位置に環形液室７の中心内孔を通過させるよう被処理材ｗの搬送手段を配設する。 - 特許庁

The production process consists of a stage for depositing an aq. soln. contg. an NOx occluding material in a dispersion medium along with a surfactant to form a W/O microemulsion, a stage for forming the precipitate of the NOx occluding material in the medium and a stage for mixing the precipitate and the raw material for the carrier and calcining the mixture to deposit the NOx occluding material on the carrier.例文帳に追加

その製造方法は、ＮＯx 吸蔵材を含む水溶液を界面活性剤と共に分散媒中に分散させてＷ／Ｏマイクロエマルジョンを作成する工程と、そのＷ／Ｏマイクロエマルジョン中で前記ＮＯx 吸蔵材の沈殿物を作成する工程と、そのＮＯx 吸蔵材の沈殿物を前記担体の原料と混合して焼成することによりＮＯx 吸蔵材を担体に担持させる工程とを備えている。 - 特許庁

This O/W emulsion type moisture-retaining coat cosmetic which forms coating films at the final time of makeup operation and is high in moisture effect-retainability comprises a polymer or copolymer containing 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine as a constituting monomer, a starch-acrylic acid block copolymer, and an oil agent containing a hydrocarbon and/or wax solid at 20°C in an amount of 70 to 90 mass%.例文帳に追加

２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンを構成モノマーとする重合体乃至は共重合体、デンプン・アクリル酸ブロック重合体、さらには２０℃で固体である炭化水素類及び／又はロウ類を油剤中に７０〜９０質量％含有させることにより、化粧動作の最後に保湿性を有する皮膜を形成する、保湿効果の持続性の高いＯ／Ｗ乳化型保湿コート化粧料が得られた。 - 特許庁

Waveform sections 41a to 41e or 41f to 41j in a time range corresponding to a W value are extracted from an input waveform 40a or 40b at intervals of a period corresponding to the frequency Hz of tuning object, composed of finer resolution than the display update period, and binary information showing periodicity of waveforms 41a to 41e or 41f to 41j in respective sections is generated.例文帳に追加

入力波形４０ａ又は４０ｂから、表示更新周期よりも細かい分解能からなる調律対象周波数Ｈｚに応じた周期毎に、Ｗ値に応じた時間範囲にわたる波形区間４１ａ〜４１ｅ又は４１ｆ〜４１ｊを抽出し、抽出された各区間毎の波形４１ａ〜４１ｅ又は４１ｆ〜４１ｊの周期性を示す２値の表示情報を作成する。 - 特許庁

The substrate has in one body an array surface provided with a plurality of recessed grooves 24 and two support surfaces disposed across it and the respective recessed grooves 24 of the array surface is gradually increased in width (w) at the same depth from the highest position of the array surface at both end positions on sides of the two support surfaces as both the end part positions approach the corresponding support surfaces.例文帳に追加

複数の凹溝２４が設けられた整列面と、それを挟んだ両側に位置する二つの支持面とを一体的に有する基板における整列面の各凹溝２４を、二つの支持面側の両端部部位における、整列面の最高位置から同一の深さ位置の幅：ｗが、それら両端部部位が各々対応する支持面に近づくに従って、それぞれ漸増せしめられるように構成した。 - 特許庁

A hole 5 that contains a groove cut on the surface of a silicon substrate W as an object of processing is filled through a filling method comprising a titanium film forming process in which a titanium metal film 6 is formed on the surface of the substrate, an etching process in which the surface of the titanium metal film 6 is uniformly removed as thick as prescribed excluding its part that combines with the ground material.例文帳に追加

シリコン基板Ｗよりなる被処理体の表面に形成されている溝を含むホール５を埋め込む埋め込み方法において、前記被処理体の表面にチタン金属膜６を形成するチタン膜形成工程と、前記チタン金属膜の表面を、チタン塩化物ガスをエッチングガスとして下地と化合した部分を除いて所定の厚さだけ略均一に除去するエッチング工程とを有する。 - 特許庁

In the exhaust gas treating method using the apparatus, a temperature of carbonaceous adsorbents flowing down through the fluidizing beds S2, S3 is measured, when an actually measured value exceeds a previously set threshold value, supply of the exhaust gas W to a corresponding area is stopped, and a suffocation operation is carried out by introducing nitrogen gas Gn.例文帳に追加

本発明による排ガス処理方法は、この装置を用い、流動層Ｓ２，Ｓ３を流下する炭素質吸着剤の温度を測定し、その温度実測値が予め設定したしきい値を超えた場合に、対応する領域への排ガスＷの供給を停止し、更に、窒素ガスＧｎを流通させることにより窒息操作を行う。 - 特許庁

In the multilayer ceramic substrate 1 having ceramics with mullite being a main crystal thereof, mullite content is 93-99 mass% of the ceramic component, at least one type of Mg and Y is contained as a component other than the mullite; and also at least one type of W and Mo is contained inside the multilayer ceramic substrate as a component of a conductive layer.例文帳に追加

ムライトを主結晶とするセラミックを有する多層セラミック基板１であって、ムライトの含有量が、前記セラミック成分の９３〜９９質量％であり、且つ、ムライト以外の成分として、Ｍｇ及びＹの少なくとも１種を含むとともに、多層セラミック基板の内部に、導電層の成分として、Ｗ及びＭｏの少なくとも１種を含む。 - 特許庁

In an array waveguide diffraction grating type optical composer and divider 1 that is one example of the optical circuit by this waveguide device, an array waveguide part 14 is divided into a first array part 14a having each channel waveguide formed with a core width W and a second array pat 14b having each channel waveguide formed with a core width W2 different from W1.例文帳に追加

光導波路装置による光回路の一例であるアレイ導波路回折格子型光合分波器１のアレイ導波路部１４を、各チャネル導波路がコア幅Ｗ１で形成されている第１アレイ部１４ａと、各チャネル導波路がＷ１とは異なるコア幅Ｗ２で形成されている第２アレイ部１４ｂとに区分する。 - 特許庁

Based on the temperature and temperature distribution of the substrate W, measured by the thermography 28 and the prestored information at a position corresponding to each compartment of the heating plate 10 and a flat size, feedback control is performed on each division heater so that the average temperature in each region, corresponding to each compartment of the heat plate of the substrate, becomes equal.例文帳に追加

サーモグラフィ２８によって計測される基板Ｗの温度および温度分布と、熱プレート１０の各区画に対応する予め記憶された位置および平面的大きさの情報とに基づいて、基板の、熱プレートの各区画に対応する各領域における平均温度が等しくなるように、各分割ヒータをフィードバック制御する。 - 特許庁

After prescribed treatment, consequently, the fixed quantity of etchant E is stored in the tank 80 and, at the time of performing treatment on wafers W thereafter, the stored etchant E can be supplied to the treating tank 10 and used for the treatment together with a new etchant E supplied from the supplying means 40 to the tank 10.例文帳に追加

これにより、所定の処理後、処理槽１０から排液されるエッチング液Ｅの一部の定量を定量貯留タンク８０に貯留し、以後の処理に際して、定量貯留タンク８０に貯留されたエッチング液Ｅと、供給手段４０からの新規エッチング液Ｅとを処理槽１０内に供給してウエハＷの処理を行うことができる。 - 特許庁

The controller 15 clocks a parking time of the vehicle detected by the sensor 11, controls a transmitter 13 to call a phone number of the mobile terminal 6 registered preliminarily, and notifies an effect thereof, in five minutes before time's up corresponding to a parking fee received from the noncontact IC card 7 by the R/W device 12.例文帳に追加

制御装置１５は、センサ１１により検知された車両の駐車時間を計時し、Ｒ／Ｗ装置１２が非接触ＩＣカード７より収受した駐車料金に該当するタイムアップ時間の５分前になると、発信装置１３を制御して予め登録された携帯端末６の電話番号へ電話をかけその旨を通知する。 - 特許庁

A roller conveyer 1 for transporting a substrate S in a cleaning step of a liquid process step comprises a first rotary shaft 2 mounting a pair of side drive rollers 3 engaged with the right and left side ends of the substrate W, and a second rotary shaft 4 mounting a convex forming roller 5.例文帳に追加

液処理工程としての洗浄工程内で基板Ｓを搬送するローラコンベア１は、基板Ｓの左右両側の端部と係合する一対の側部駆動ローラ３を取り付けた第１の回転軸２と、第１の回転軸２のピッチ間隔の中間の位置に配置され、凸面形成ローラ５を取り付けた第２の回転軸４とを含む。 - 特許庁

When an added power W computed based on the added current I of the rectifying circuits 2 to 5 and the target voltage Vref becomes a power target value Wref, a power comparator 39 lowers the target voltage Vref relative to the rise in the added value current larger than the power target value to control the output of the rectifying circuits 2 to 5.例文帳に追加

電力比較部３９は整流回路２〜５の合算電流Ｉと目標電圧Ｖｒｅｆとに基づいて算出された合算電力Ｗが電力目標値Ｗｒｅｆとなったときには、それ以上の合算値電流の上昇に対して目標電圧Ｖｒｅｆを低下させて整流回路２〜５の出力を抑制する。 - 特許庁

Sashes 1 provided respectively at ends 2a of the plate-shape bodies 2 in a flat layed state are formed so as to have such a width W that four fingers except a thumb of one hand or eight fingers except thumbs of both hands may be latched and to be positioned on a virtual straight line X where its center O passes through the center G of gravity of the plate-shaped body 2.例文帳に追加

平置き状態をなす板状体２の対向せる端面２ａに夫々設けられる手掛け１が、多くとも片手の親指を除く４指、又は、両手の親指を除く８指が係止可能な幅Ｗに形成されるとともに、その中心Ｏが前記板状体２の重心Ｇ上を通過せる仮想直線Ｘ上に位置してなる。 - 特許庁

The herbicide composition in the O/W super-minute emulsion contains (a) an alkylene oxide derivative represented by formula (I) [e.g. polyoxyethylene (10 mol) polyoxypropylene (10 mol) dimethyl ether], (b) a herbicidal active ingredient, (c) a hydrophilic nonionic surfactant, (d) a lipophilic nonionic surfactant and (e) water, and has 10-500 nm average emulsion particle diameter.例文帳に追加

（ａ）下記（Ｉ）式で示されるアルキレンオキシド誘導体（例えば、ポリエチレン（１０モル）ポリオキシプロピレン（１０モル）ジメチルエーテル）と、（ｂ）除草活性成分と、（ｃ）親水性非イオン性界面活性剤と、（ｄ）親油性非イオン性界面活性剤と、（ｅ）水とを含有し、平均乳化粒子径が１０〜５００ｎｍであることを特徴とするＯ／Ｗ超微細エマルション除草剤組成物。 - 特許庁

In this calibrating method, the positions of mirrors 30a-30c are measured by a measuring unit 20, the work origin coordinates RefW set for a work W are obtained, an end effector 16 of a working robot 14 is operated at arbitrary three points, the positions of the three points are measured by the measuring unit 20, and converted to the positions with reference to the work origin coordinates system RefW.例文帳に追加

測定機２０によりミラー３０ａ〜３０ｃの位置を測定し、ワークＷに設定したワーク原点座標ＲｅｆＷを求め、次いで、作業ロボット１４のエンドエフェクタ１６を任意の３点に動作させ、測定機２０によりその３点の位置を測定し、ワーク原点座標系ＲｅｆＷを基準とする位置に変換する。 - 特許庁

The rigidity of a first corrugated tube 11 near the outlet section 14a of the protector 14 of a wire harness W/H sheathed in the tube 11 is increased by attaching a shorter second corrugated tube to the outside of the tube 11 to an outside position of the tube 11 at a required distance from the output section 14a of the protector 14 through the outlet end of the protector 14.例文帳に追加

第１コルゲートチューブ１１を外装したワイヤハーネスＷ／Ｈのプロテクタ１４の出口部１４ａ付近より出口端を通して所要寸法外部の位置まで、第１コルゲートチューブ１１の外側に短尺な第２コルゲートチューブを取り付けて、第１コルゲートチューブ１１のプロテクタ１４の出口部１４ａ付近の剛性を高めている。 - 特許庁

The outside diameter of each of journal portions 33 to 35 integrally formed on the driving shaft is set to be smaller than the inside diameter of a fitting hole 11c in a link arm, and each of axial distances L1 to L4 between adjacent journal portions is set so as to be larger than a cross length W of an annular portion 11a of the link arm.例文帳に追加

また、駆動軸に一体に設けられた各ジャーナル部３３〜３５の外径を、リンクアームの嵌合孔１１ｃの内径よりも小さく設定すると共に、駆動軸上における駆動カムを含めた隣接するジャーナル部間の軸方向の離間距離Ｌ１〜Ｌ４を、リンクアームの円環部１１ａの幅長さＷよりも大きく設定した。 - 特許庁

An ink color separation table is interpolated along lines connecting a W point to the other vertexes and a Bk point to the other vertexes in an RGB color space of an input color on the basis of data of ink color separation of primary colors and data of an inking point (S2 to S6), and subsequently, each surface is interpolated about a tetrahedron formed with the lines as a ridge line.例文帳に追加

入力色のＲＧＢ色空間において、原色のインク色分解のデータおよび墨入れポイントのデータに基づいて、Ｗ点とその他の頂点およびＢｋ点とその他の頂点とを結ぶ線に沿ってインク色分解テーブルを補間し（Ｓ２−Ｓ６）、その後、それら線を稜線とする４面体について、各面を補間する。 - 特許庁

The annular or tubular grommet 10, which seals a panel P and a wire harness W, is configured as a bursiform structure, such that the diameter of the peripheral wall of a fitting portion in the grommet 10 for a through-hole Pa of the panel P is increased by introducing fluid into space obtained inside the peripheral wall and is decreased by discharging the fluid outside the peripheral wall.例文帳に追加

パネルＰとワイヤーハーネスＷの間をシールする環状または筒状のグロメット１０において、パネルＰの貫通孔Ｐａに対するグロメット１０の嵌合部１１の周壁を、該周壁内部に確保した空間に流体を導入することにより拡径し、その流体を外部に導出することにより縮径する袋状の構造体として構成した。 - 特許庁

The surgical fastener 100 for use in combination with a surgical fastener applying apparatus includes: a pair of legs 102, 104; a crown 106 interconnecting the pair of legs 102, 104; and the wound treatment material W coating at least a portion of the legs 102, 104 and crown 106.例文帳に追加

外科用ファスナー適用装置と組合わせて使用するための外科用ファスナー１００であって、外科用ファスナー１００は、一対の脚部１０２、１０４と、一対の脚部１０２、１０４を相互接続するクラウン１０６と、一対の脚部１０２，１０４およびクラウン１０６のうちの少なくとも一部をコーティングする創傷処置材料Ｗとを備える。 - 特許庁

While a semiconductor wafer W in which a carbon thin film 12 is formed on a surface of a silicon substrate 11 implanted with impurities is preheated, its surface is supplied with an oxygen gas more at a peripheral edge portion than at a center portion to perform processing such that a film thickness of the carbon thin film 12 decreases from the center portion to the peripheral edge portion.例文帳に追加

不純物が注入されたシリコン基板１１の表面に炭素の薄膜１２を形成してなる半導体ウェハーＷを予備加熱しつつ、その表面に中心部よりも周縁部に多量の酸素ガスを供給することによって、炭素の薄膜１２の膜厚が中心部から周縁部に向けて薄くなるような加工を行う。 - 特許庁

A scanning exposure apparatus 1 includes: a substrate conveying mechanism 10 conveying a substrate W in an X direction; a plurality of mask holding units 11 each holding a mask M and disposed along a Y direction; an irradiation unit 14 emitting exposure light; and a mask changer 2 having a mask tray unit 33 that can oppose to the lower face of each mask holding unit 11.例文帳に追加

スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構１０と、マスクＭをそれぞれ保持し、Ｙ方向に沿って配置される複数のマスク保持部１１と、露光用光を照射する照射部１４と、各マスク保持部１１の下面と対向可能なマスクトレー部３３を有するマスクチェンジャー２と、を備える。 - 特許庁

The paper having the high yield of the paper stock and high ash content can be made by adding cellulose nanofibers having a B type viscosity (at 60 rpm, 20°C) in an 2% (w/v) concentration aqueous dispersion of 500 to 7,000 mPa-s, preferably 500 to 2,000 mPa-s to the paper stock containing inorganic particles containing calcium, or calcium ions.例文帳に追加

濃度２％（ｗ／ｖ）の水分散液におけるＢ型粘度（６０ｒｐｍ、２０℃）が５００〜７０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは５００〜２０００ｍＰａ・ｓであるセルロースナノファイバーを、カルシウムを含む無機粒子またはカルシウムイオンを含有する紙料に添加して抄紙することで、紙料および灰分の歩留まりが高く、地合の良好な紙を得ることができる。 - 特許庁

A structure of a core plate 31 of a metal core substrate that is mounted on an in-vehicle electrical junction box is formed with an island section 34 which is surrounded by a plurality of slit sections 32 formed by die punching and a connection section 33 for separation disposed between the slit sections 32, a width of the slit sections 32 being set to a narrow width W.例文帳に追加

車載電気接続箱に搭載される車載電気接続箱用メタルコア基板のコア板３１構造であって、金型による打ち抜きで形成される複数のスリット部３２と、これらスリット部３２の間に介在する分離用接続３３とで囲まれた島部３４が形成され、前記スリット部３２の幅を狭い狭隘幅Ｗに設定する。 - 特許庁

The shutter device 9 having two shutter plates 11 which shield between an IBE1 and a substrate W, is configured such that the two shutter plates are disposed at symmetrical positions across the IBE5 and can perform an opening/closing operation in synchronization with a rotation of a rotation-link-member which is rotatably disposed surrounding the IBS5.例文帳に追加

本発明における解決手段として、ＩＢＥ１と基板Ｗとの間を遮蔽するシャッター板１１を備えるシャッター装置９は、ＩＢＳ５を囲んで回転可能に配置された回転リンク部材の回転に同期して、ＩＢＥ５を挟んで対称位置に配置された２枚のシャッター板１１が開閉動作することができるように構成されている。 - 特許庁

As a result, because abnormality of the discharge of the treating liquid from a treating liquid nozzle 4 or the diffusion of the treating liquid on the substrate is smoothly detected by detecting whether the treating liquid is present or not on the wafer W in a prescribed timing, the abnormality is immediately coped with and the deterioration of the yield of the product is suppressed.例文帳に追加

従って所定のタイミングでウエハＷ上に処理液が存在するか否かについて検出することによって、処理液ノズル４からの処理液の吐出や、基板上における処理液の拡散の異常を速やかに検出できるため、これらの異常に直ちに対処でき、製品の歩留まりの悪化を抑えることができる。 - 特許庁

The vibration application parts are disposed so as to have center axes thereof deviated from those of piezoelectric elements 120a and 120b by about half a minimum node interval W of vibrations in a first vibration mode wherein a node of vibration interposed between maximum vibrational amplitude regions or minimum vibrational amplitude regions is located on center axes of the piezoelectric elements 120a and 120b.例文帳に追加

加振部は、最大振動振幅領域又は最大振幅領域に挟まれた振動の節が圧電素子１２０ａ，１２０ｂの中心軸上に位置するようにした第１の振動モードにおける振動の最小節間隔Ｗのほぼ１／２の距離だけ、圧電素子１２０ａ，１２０ｂの中心軸から加振部の中心軸がずれるように配置されている。 - 特許庁

Since the fine air bubbles B are generated with the surface acoustic wave W transmitted on the surface S of the piezoelectric substrate 2 in the liquid 10, any appliance for carrying out mechanical operation such as a high pressure pump to be used for generating swirling current and generating shearing force is unnecessary and fine air bubbles can stably be generated with a simple and compact appliance configuration.例文帳に追加

液体１０中の圧電基板２の表面Ｓを伝播する弾性表面波Ｗによって微細気泡Ｂを発生させるので、旋回流を起して剪断力を発生させるために用いる高圧ポンプなどの機械的な動作を行う機器が不要であり、簡単かつ小型の機器構成で微細気泡を安定的に発生させることができる。 - 特許庁

In conveying a lifter 15 by a supply section 23 into a processing tank 1, the lifter 15 freely goes up and down between the processing station inside the processing tank 1 and the drying position over the processing tank 1 while upholding a substrate W, first and second control valves 35 and 41 are closed, and a third control valve 45 is opened by the controller 47.例文帳に追加

基板Ｗを支持しつつ、処理槽１内部の処理位置と処理槽１上方にある乾燥位置とにわたって昇降自在であるリフタ１５、供給部２３の近傍を通過させて処理槽１へ搬入させる際に、制御部４７により、第１制御弁３５，第２制御弁４１が閉、第３制御弁４５が開に切り替わる。 - 特許庁

The polysaccharide-protein conjugates capable of inducing long-lasting immunity to a variety of Neisseria meningitidis strains in children as well as adults are formed by: chemically activating purified capsular polysaccharides derived from Neisseria meningitidis serogroups A, C, W-135, and Y; and selectively attaching them to a carrier protein by means of a covalent chemical bond.例文帳に追加

髄膜炎菌血清群Ａ、Ｃ、Ｗ−１３５、およびＹ由来の精製莢膜多糖を化学的に活性化させ、さらに共有化学結合によって担体タンパク質に選択的に結合させて、子供ならびに大人において様々な髄膜炎菌株に対して永続的な免疫を誘導できる多糖−タンパク質複合体を形成する。 - 特許庁

The treatment container includes: a heat insulating outer layer; and a heat uniformizing layer having 100 W/mK or more of thermal conductivity and arranged on the inner side from the outer layer for uniformizing temperature distribution in the storage space.例文帳に追加

被処理物を収容する収容空間を画成する処理容器と、該収容空間の気体の温度を調温する調温手段と、を少なくとも備え、前記処理容器は、断熱性を有する外層と、熱伝導率が１００Ｗ／ｍ・Ｋ以上であり該外層よりも内側に配設され前記収容空間の温度分布を均熱化する均熱層と、を有する。 - 特許庁