「W-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(217ページ目) - Weblio英語例文検索

The temperature sensor has a constitution wherein a temperature measuring part of the thermocouple is covered with a prescribed metal member 53, and a bending part 51a is formed on the protection tube, and the temperature measuring part of the thermocouple which is inserted into one side of the protection tube is positioned on the bending part, and the bending part is arranged close to a processing object W in the heating furnace F.例文帳に追加

熱電対の測温部が所定の金属部材５３で覆われ、保護管に屈曲部５１ａが形成され、この屈曲部に、保護管の一方に挿通された熱電対の測温部を位置させると共にこの屈曲部が加熱炉Ｆ内で処理対象物Ｗに近接配置されるように構成される。 - 特許庁

The oil in water (O/W) type emulsified skin external preparation composition is characterized by including (a) the poly-γ-L-glutamic acid and/or a salt thereof, and (b) one, two or more compound(s) selected from the group consisting of benzamidine and a derivative thereof, acetamidine and a derivative thereof, guanidine and a derivative thereof, and ω-amino acids.例文帳に追加

（ａ）ポリ−γ−Ｌ−グルタミン酸および／またはその塩、（ｂ）ベンザミジンおよびその誘導体、アセタミジンおよびその誘導体、グアニジンおよびその誘導体、ω−アミノ酸類よりなる群から選ばれる一種または二種以上を含有することを特徴とする水中油型乳化皮膚外用剤組成物。 - 特許庁

The counter electrode substrate is formed of any one of Al, Cu, Ag, Au or SUS, the corrosion-resistant conductive layer is formed of any one of Ti, Cr, Ni, Nb, Mo, Ru, Rh, Ta, W, In, Pt or hastelloy, and the conductive catalyst layer is formed of any one of carbon, Tu, Rh, Pd, Os, Ir, Pt or conductive polymer, respectively.例文帳に追加

対向電極基板はＡｌ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、ＳＵＳの何れか、耐腐食性導電層はＴｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｔａ、Ｗ、Ｉｎ、Ｐｔ、ハステロイの何れか、導電性触媒層は、カーボン、Ｔｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、導電性高分子の何れかによってそれぞれ形成される。 - 特許庁

This inverse latex composition is provided by containing (a) 50 to 80 wt.% at least 1 kind of a linear chain, branched chain or cross-linked organic polymer (P), (b) 5 to 10 wt.% water in oil (W/O) type emulsified system (S_1), (c) 5 to 45 wt.% at least 1 kind of oil and (d) 0 to 5 wt.% water.例文帳に追加

ａ）５０〜８０重量％の少なくとも１種の直鎖、分枝鎖または架橋された有機ポリマー（Ｐ）、ｂ）５〜１０重量％の油中水（Ｗ／Ｏ）型の乳化系（Ｓ_1）、ｃ）５〜４５重量％の少なくとも１種のオイルおよびｄ）０〜５重量％の水を含む逆相ラテックス組成物。 - 特許庁

In the sheet post-processing apparatus, circumferential velocities V1 and V2 of rotating surfaces of first and second pressing members 650 and 651 which are rotary driven by a pressing-member rotary-drive motor SM9, the rotating surfaces being pressed against the folding top part 2a1 of the booklet 2a, are set so as to be greater than a moving velocity W of a moving unit 656a.例文帳に追加

圧接部材回転駆動モータＳＭ９により回転駆動される第１、第２圧接部材650，651の冊子２ａの折り頂部2a1に圧接する回転面の周速度Ｖ１，Ｖ２が、移動ユニット656ａの移動速度Ｗよりも速くなるように設定されたことを特徴とするシート後処理装置である。 - 特許庁

In production of the reformed gas mainly composed of hydrogen by letting water vapor and air react with methanol under the existence of the catalyst, the catalyst having copper-zinc as the main components is carried on a metal or alloy carrier whose heat conductivity at 300 K is 20 W/m.K or more.例文帳に追加

触媒の存在下、メタノールに水蒸気及び空気を反応させて水素を主体とする改質ガスを製造するに当たり、上記触媒として、銅−亜鉛を主成分とする触媒成分を３００Ｋにおける熱伝導率が２０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の金属又は合金の支持体上に担持したものを用いる。 - 特許庁

The system, first, detects pulse width (W) of 8 to 16 modulation (EFM+) signals, when the pulse width of the EFM+ signal is in default window width or the puls width of the EFM+ signal is illegal pulse width, an erasure control signal is generated, the corresponding code is set to erasure, an erasure address is formed.例文帳に追加

この製品はまず８から１６変調（ＥＦＭ＋）シグナルのパルス幅（Ｗ）を検知し、該ＥＦＭ＋シグナルのパルス幅がデフォルトウィンドウ幅にある時、或いは該ＥＦＭ＋シグナルのパルス幅が非合法なパルス幅である時、消去制御信号が発生し、対応するコードをが消去( ｅｒａｓｕｒｅ) に設定し、消去アドレスを形成する。 - 特許庁

The optical waveguide type module includes the chip 20 formed with a waveguide, an aluminum heater 24 for heating the chip, and a highly thermally-conductive material 26, such as a Cu-W alloy, interposed between the chip and the heater in such a manner that the heat of the heater is evenly distributed and conducted to the chip.例文帳に追加

導波路を形成したチップ（２０）と、このチップを加熱するアルミナ製ヒータ（２４）と、該ヒータの熱を均一に分布させて前記チップに伝えるべく、チップとヒータとの間に介在させたＣｕ−Ｗ合金のような高熱伝導性材料（２６）と、を含むことを特徴とする光導波路型モジュール用パッケージ。 - 特許庁

After La(O) film 11 as a cap film and a W film 12 of a metal electrode are formed on a silicon film 7 on an NMOS region and on a SiN film 9 on a PMOS region; and then heat treated to diffuse La elements of the La(O) film 11 into high-dielectric gate insulating film in NMOS region.例文帳に追加

そしてＮＭＯＳ領域上のシリコン膜７及びＰＭＯＳ領域上のＳｉＮ膜９上にキャップ膜としてのＬａ（Ｏ）膜１１及びメタル電極のＷ膜１２を形成した後、加熱処理して、Ｌａ（Ｏ）膜１１のＬａ元素をＮＭＯＳ領域の高誘電率ゲート絶縁膜に拡散させる。 - 特許庁

Since the azimuth angle of the incidence surface is changed in a stepless manner by the incidence surface changing means 3, the incident light L having the incidence surface at every azimuth angle is allowed to enter the surface W to be measured without changing the direction of the colorimetric device, and the reflection characteristic on the incidence surface at every azimuth angle can be detected.例文帳に追加

入射面変更手段３により入射面の方位角を無段階に変化させることで、測色装置の向きを変えることなく、あらゆる方位角の入射面をもつ入射光Ｌを被測定面Ｗに入射して、あらゆる方位角の入射面における反射特性を検出することができる。 - 特許庁

In the formula (II), W is selected from a group consisting of hydrogen atom, B(P)(Q) group and CN group, wherein P and Q are independently OH or a group which is hydrolyzable to boronic acid or a group forming a 5- to 8-membered ring together with a boron atom added thereto which is hydrolyzable to boronic acid.例文帳に追加

（ここで、Ｗは、水素原子，Ｂ（Ｐ）（Ｑ）基、およびＣＮ基からなる群より選択され、ＰおよびＱは、独立してＯＨまたはボロン酸へと加水分解可能な基であるか、もしくは、それらに付加するホウ素原子とともに、ボロン酸へと加水分解可能な５〜８員環を形成するような基である） - 特許庁

A laminated film MGD is laminated between a 1st conductivity- type semiconductor (P well W), where a channel of a memory transistor (M11a, etc.), is formed and a gate electrode (word line WL11, etc.), and formed of a plurality of dielectric film including charge storage means (carrier trap) which are made discrete in plane.例文帳に追加

メモリトランジスタ（Ｍ１１ａ等）のチャネルが形成される第１導電型半導体（ＰウェルＷ）とゲート電極（ワード線ＷＬ１１等）との間に積層され、平面的に離散化された電荷蓄積手段（キャリアトラップ）を内部に含む複数の誘電体膜からなる積層膜ＭＧＤが形成されている。 - 特許庁

In a shower head 12 having a plurality of gas injection holes 20A and 20B for supplying the processing gas to a processing space 4 for storing a heated processed substrate W to be subjected to a predetermined processing, a light introducing rod 68 of a radiation thermometer 66 is provided so as to be inserted into the gas injection holes.例文帳に追加

所定の処理を施すために加熱された被処理体Ｗを収容した処理空間４に対して処理ガスを供給するための複数のガス噴射孔２０Ａ，２０Ｂを有するシャワーヘッド構造１２において、前記ガス噴射孔に、放射温度計６６の光導入ロッド６８を挿通させて設けるように構成する。 - 特許庁

In the photoreceptor drum obtained by forming a photosensitive layer on the peripheral surface of a cylindrical substrate by coating with a coating fluid containing a photosensitive agent and drying, an electrically conductive resin pipe comprising an electrically conductive resin composition and having ≥0.2 W/m.K heat conductivity is used as the cylindrical substrate.例文帳に追加

円筒状基体の外周面に感光剤を含有する塗液を塗工し乾燥させて感光層を形成してなる感光ドラムにおいて、上記円筒状基体として、導電性樹脂組成物からなる熱伝導率が０．２Ｗ／ｍ・Ｋ以上の導電性樹脂パイプを用いたことを特徴とする感光ドラムを提供する。 - 特許庁

A plurality of pressing position data of a die 33 is set in advance, and when the work W is actually pressed, the pressing position data is switched to a predetermined value among a plurality of pressing position data to the same die, and the work is pressed using the die 33 based on the switched forming position data.例文帳に追加

また、同一の金型に対応して、予め、ダイ金型(33)の複数の成形位置データを設定し、ワークＷの実成形加工時には、同一の金型に対して複数の成形位置データの中から所定の成形位置データに切り換え、切り換えられた成形位置データに基づいてダイ金型(33)により成形加工を行う。 - 特許庁

By means that the rear holder 50 and a mating housing 90 are sealed to each other after fitting operation of both housings 11, 90 is completed, the sealing member 40 is compressed at the pressing face 52A by the rear holder 50 to reduce the diameter of the wire insertion holes 41 and make the inner peripheral face adhered to the wire W in a watertight state.例文帳に追加

両ハウジング１１，９０の嵌合動作が完了した後に、リアホルダ５０と相手のハウジング９０とが係止し合うことにより、リアホルダ５０がシール部材４０を押さえ面５２Ａにて圧縮して電線挿通孔４１を縮径させその内周面を電線Ｗに水密状態で密着させる。 - 特許庁

When the magnification n is the predetermined magnification N or more (n>N), the correction calculation of the energization pulse width is performed by using a value (W1+W2) obtained by adding the energization time interval W1 used in the last printing to the energization time interval W2 from the last printing to this printing, as the energization time interval W.例文帳に追加

また、倍率ｎが所定の倍率Ｎ以上（ｎ＞Ｎ）の場合は、前回の印字から今回の印字までの通電時間間隔Ｗ２に、前回の印字の際に使用した通電時間間隔Ｗ１を加算した値（Ｗ１＋Ｗ２）を通電時間間隔Ｗとし、通電パルス幅の補正計算を行う。 - 特許庁

This apparatus is provided with hollow flow pipes 24, 124 having a suction port and a discharge port, water pumps 25, 125 sending the bath water W from the suction port to the discharge port to form a water passage from the suction port to the discharge port, and an ultraviolet ray source incorporated in the flow pipes so as to face the water passage.例文帳に追加

吸入口及び吐出口をもつ中空の流路管（２４，１２４）と、風呂水（Ｗ）を吸入口から吐出口に向かって送り、吸入口から吐出口に至る風呂水の水路を形成する水ポンプ（２５，１２５）と、水路に面して流路管の内部に組み込まれた紫外線源とを備えている。 - 特許庁

In addition, a mobile forward part 20A to be opened by a hydraulic cylinder C3 is equipped with a pressing member 35 which presses the material W from above the crushing operation chamber to the crushing rotor 10 by the reciprocating motion of a cylinder C2 during a crushing operation and a screen 40 for adjusting the grain size of the crushed material.例文帳に追加

油圧シリンダーＣ３によって開放される移動前部分２０Ａには、シリンダーＣ２の往復動によって被破砕物Ｗを破砕作業中に破砕作業室の上方から破砕ロータ１０に向かって押さえ込む押え部材３５と、破砕物粒度調節用スクリーン４０とが設けられている。 - 特許庁

Then the surface temperature of the semiconductor wafer W is kept within a range of a variation width of ±25°C from the target temperature T2 for 3 to 50 milliseconds by performing a second irradiation in which light-emission output of the flashlamp gradually decreases from the maximal value over a period of time from 3 to 50 milliseconds.例文帳に追加

続いて、フラッシュランプの発光出力を３ミリ秒以上５０ミリ秒以下の時間をかけて最大値から徐々に低下させる第２照射を行うことにより、半導体ウェハーＷの表面温度を目標温度Ｔ２から±２５℃以内の範囲内に３ミリ秒以上５０ミリ秒以下維持している。 - 特許庁

A substrate transfer member 12, ascending from a lower limit position to bringing-in and out positions, is designed not to contact with the substrate holder 1 of a finger 3 by further rotating the substrate holder 1 including the finger 3 together with a substrate W by a compensation angular value, if the substrate transfer member 12 interferes with the finger 3 of the substrate holder 1.例文帳に追加

基板受け渡し部材１２が基板把持部１のフィンガ３と干渉する場合には、フィンガ３を含む基板把持部１を基板Ｗとともにさらに補正角度値だけ回転させ、下限位置から搬出入位置まで上昇する基板受け渡し部材１２が基板把持部１のフィンガ３に当接しないようにする。 - 特許庁

The package structure 1 for the heating tool includes: an air-impermeable first package body 10 for storing the heating tool 2 to generate heat by the reaction with oxygen in the air; and a second package body 20 where a fluid drug W is sealed and which is joined with the outer surface of the first package body 10.例文帳に追加

本発明の温熱具の包装構造１は、空気中の酸素と反応して発熱する温熱具２が収容されている非通気性の第１包装体１０と、流動性を有する薬剤Ｗが封入され、該第１包装体１０の外面に接合されている第２包装体２０とを備えている。 - 特許庁

In the lenticular lens sheet 10 having a stripe light absorption part 12 and a stripe light transmission part 13 positioned between the light absorption parts 12 and 12, the line-width W of the light absorption part 12 is formed so that the triplication (3σ) of the standard deviation of the line-width may be ≥5% and ≤15% of the average of the linewidth.例文帳に追加

ストライプ状の光吸収部１２と、その光吸収部１２，１２間に位置するストライプ状の光透過部１３とを有するレンチキュラーレンズシート１０において、光吸収部１２の線幅Ｗを、線幅の標準偏差の３倍（３σ）が線幅平均の５％以上１５％以下になるように構成した。 - 特許庁

The portion 20 has the substrate supporting surface 20a tilting with respect to the horizontal plane so as to be lower from the external peripheral side of the counerbore 2c toward the center side, and supports the inner side of the external peripheral side of the surface of the semiconductor substrate W in a region except at least an internal peripheral edge 20b of the surface 20a.例文帳に追加

外周側座ぐり部２０は、座ぐり２ｃの外周側から中央側に向かって低くなるように水平面に対して傾斜した基板支持面２０ａを有し、該基板支持面２０ａのうち、少なくとも内周縁２０ｂを除く領域で、半導体基板Ｗの裏面の外周縁よりも内側を支持する。 - 特許庁

In the bed including a support connecting structure W which connects upper supports 2 at four corners of an upper bed 1 and lower supports 4 at four corners of a lower bed 3 mutually, a first vertical hole 6 is formed from the lower end surface 5 of the upper support 2 and a second vertical hole 8 is formed from the upper end surface 7 of the lower support 4.例文帳に追加

上ベッド１の４隅の上支柱２と、下ベッド３の４隅の下支柱４とを相互に連結する支柱連結構造Ｗを備えたベッドに於て、上支柱２の下端面５から第１縦孔６を形成し、かつ、下支柱４の上端面７から第２縦孔８を形成する。 - 特許庁

When the substrate is succeedingly immersed in the organic peeling liquid, since the organic peeling liquid adheres to the surface of the substrate up to the interiors of the minute aperture parts, the entire surface region of the substrate certainly comes into contact with the organic peeling liquid at immersion and the contaminant such as an unnecessary film or the like adhered on the substrate W uniformly can be removed.例文帳に追加

引き続き基板を有機剥離液に浸漬すと、基板表面の微少開口部の内部にまで有機剥離液が付着しているので、浸漬時に基板表面全域が有機剥離液と確実に触れ、均一に基板Ｗ上に付着した不要な膜等の汚染物質を洗浄除去することができる。 - 特許庁

Since a measurement section 110 for measuring the position information of an alignment mark formed on a wafer W is arranged outside an exposure system body 10, the position information of the alignment mark formed on the wafer can be measured at the measurement section in parallel with the exposure of the wafer at the exposure system body.例文帳に追加

ウエハＷ上に形成されたアライメントマークの位置情報を測定する測定部１１０が、露光装置本体部１０の外部に配置されているので、露光装置本体部でウエハの露光が行われるのと並行して測定部においてウエハ上に形成されたアライメントマークの位置情報を計測することができる。 - 特許庁

On a table 18 on which an object W is placed, a standard plate having a reference plane having high flatness at its central part and an almost annular low-rigidity section having lower rigidity that the other section has at part of the outer peripheral section of the reference plane is fixed with plate springs disposed at a plurality of spots in the outer peripheral section of the standard plate.例文帳に追加

物体Ｗが載置されるテーブル１８上に、その中央部に平坦度が高い基準平面を有し、基準平面の外周部の一部に他の部分より剛性が低い概略環状の低剛性部が形成された基準板が、外周部の複数箇所に配置された板ばねによって固定されている。 - 特許庁

At least one carriage of two carriages, first and second 11, 19 which is installed in the safety cabin 29, transferring front-to-back above a machining table, and a laser machining head attached to prescribed carriage moving left-to-right, laser machining is performed to a work W on a table 7 or 9.例文帳に追加

安全キャビン２９の中に据えられた２つの第１、第２キャリッジ１１，１９のうちの少なくとも一方のキャリッジが加工テーブルの上方で前後方向に移動され、前記キャリッジに設けたレーザ加工ヘッドが左右方向に移動されて加工テーブル７又は９の上のワークＷにレーザ加工が行われる。 - 特許庁

Since the second optical part 12 is molded asymmetrically up and down with respect to its optical axis and a weld line W is generated leftward, the generation probability of the weld line in the up and down width of 3.2 mm of the light effective part 12a of the second optical part 12 is 0% and no effect is exerted on optical performance.例文帳に追加

第２の光学部１２はその光軸に対して上下に非対称に成形されており、ウェルドラインＷは左側に寄って発生するために、第２の光学部の光線有効部１２ａの上下幅３．２ｍｍ内でのウェルドラインＷの発生確率は０％であり、光学性能に影響を与えることはない。 - 特許庁

The arms 120a to 120c of the holding member 120 are formed of transparent quartz, or the shaft 120d of the holding member 120 is formed of opaque quartz, or the shaft 120d of the holding member 120 is supported by a ceramic bearing in a rotatable manner, so that the substrate W can be protected against metal contamination.例文帳に追加

また、保持部材１２０の腕部１２０ａ〜１２０ｃを透明石英により形成し、あるいは軸１２０ｄを不透明石英により形成し、あるいは保持部材１２０の軸１２０ｄをセラミック製の軸受で回転可能に支持することにより、金属によるコンタミネーションを防止することが可能になる。 - 特許庁

The silver halide photographic sensitive material for heat development is characterized in that at least one surface of a plastic film is treated by corona discharge with an output of 1 5 w×min./m^2 at a frequency of 20 to 100 kHz and the plastic film surface side treated by the corona discharge is coated with a silver halide photosensitive layer for heat development.例文帳に追加

プラスチックフィルムの少なくとも一方の面を、２０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚの周波数で、１〜５ｗ・ｍｉｎ．／ｍ^２の出力のコロナ放電処理を施し、該コロナ放電処理したプラスチックフィルム面側に、熱現像用ハロゲン化銀感光層が塗設されていることを特徴とする熱現像用ハロゲン化銀写真感光材料。 - 特許庁

A connection member 12 for bridging the first tank structural member 8 to the tank structural member 10 is pressed into a plate shape extending from the inner face of the first tank structural member 8 to the inner face of the tank structural member 10, arranged in the space W and brazed to the first structural member 8 and the second tank structural member 10.例文帳に追加

第１タンク構成部材８及びタンク構成部材１０を橋絡する連結部材１２を、第１タンク構成部材８内面からタンク構成部材１０内面に亘って延びる板状にプレス加工し、空間Ｗに配置して第１タンク構成部材８及び第２タンク構成部材１０にろう付けする。 - 特許庁

The seal member fitting device 1 is provided with an electric-wire insertion guiding device 70 that positions the center axis of the coating end of the electric wire W clamped by a wire clamping device 60 roughly coaxially to the center axis of the tube 17 of a seal member delivering device 10 built in the seal member fitting device.例文帳に追加

シール部材装着装置１は、電線クランプ装置６０によってクランプされた電線Ｗの被覆端部の中心軸を、シール部材装着位置にあるシール部材受け渡し装置１０の筒体１７の中心軸に対して略同軸に位置決めする電線挿入案内装置７０を備えている。 - 特許庁

In this case, the heat insulating layer 12 has ≤0.040 W/(m×K) heat conductivity and has such magnetic permeability that the intensity of a magnetic field having passed through it is ≥30% of the intensity before the magnetic field passes through it, so that heat insulating operation can be exhibited while contactless information communication is made possible.例文帳に追加

このとき、断熱層１２は、熱伝導率０．０４０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であり、これを通過した後の磁界強度が、通過する前の磁界強度の３０％以上となる透磁性を有するものを用いることにより、非接触情報通信を可能としながらも断熱作用を発揮できるものとした。 - 特許庁

The Fe-based wear-resistant sliding material has a martensitic base phase wherein 0.15-0.5 wt.% carbon is dissolved and 10-50 vol.% in total of special carbides of at least one chosen from Cr, Mo, W and V is dispersed.例文帳に追加

本発明に係るＦｅ系耐摩耗摺動材料は、０．１５〜０．５重量％の濃度の炭素が固溶されたマルテンサイト母相を有し、前記マルテンサイト母相中にＣｒ、Ｍｏ、ＷおよびＶそれぞれの特殊炭化物のうち一種以上が合計で１０〜５０体積％分散されていることを特徴とする。 - 特許庁

In a first process for removing a coating film, respective pealing zones H_10 determined at the portions corresponding to welding points W of a steel plate 12 are irradiated by converging a pulse laser beam LBa for removing the coating film, and galvanized coating films 10 within the pealing zones H_10 are sublimated and removed by the energy of the pulse laser beam LBa.例文帳に追加

第１工程の皮膜除去工程では、スチール板１２の溶接ポイントＷと対応する部位に設定された各剥離領域Ｈ_10に皮膜除去用のパルスレーザ光ＬＢａを集光照射し、剥離領域Ｈ_10内の亜鉛メッキ皮膜１０をパルスレーザ光ＬＢａのエネルギーにより昇華させて除去する。 - 特許庁

The edge susceptors 723 arranged in an annular region facing the edge of the wafer W, and the outer periphery susceptors 724 on the outside thereof are made of an material which is opaque from ultraviolet ray to infrared ray and has a thermal conductivity larger than that of quartz, e.g. silicon (Si), sintered ceramics (sintered SiC), or a metal (e.g. AlN).例文帳に追加

ウエハＷの端縁部に対向する円環状の領域に配置されるサセプタ端縁723と、その外側のサセプタ外周724とは、石英よりも熱伝導率が大きく、紫外線から赤外線にかけて不透明な素材であるシリコン（Ｓｉ）、焼結セラミックス（焼結ＳｉＣ）、金属（例えばＡｌＮ）などから作られる。 - 特許庁

The heat conductivity of the radiating substrate 20 is more than 1 W/m×K, and its thickness is thinner than 0.5 mm, and the substrate contains (1) a polymer which has a melting point higher than 150°C and contains fluorine of 30 to 60 vol% and (2) a heat conductive filler, of 40 to 70 vol%, dispersed in the polymer containing fluorine.例文帳に追加

放熱基板２０の熱伝導率は１Ｗ/ｍ・Ｋより大きく、厚さは０．５ｍｍよりも薄く、（１）１５０℃よりも高い融点を持つ、３０〜６０容量％のフッ素含有ポリマーと、（２）そのフッ素含有ポリマー中に分散させた４０〜７０容量％の熱伝導性充填材とを含む。 - 特許庁

A water spraying means 6 for spraying washing water W to the subject passing gas A to be purified is provided, and many heat-transfer members 4a and 4b for cooling and dehumidifying the passing gas A by subjecting the passing gas A and a refrigeration medium R to heat-exchange are arranged in dispersed state at the water spraying area of the water spraying means 6.例文帳に追加

浄化対象の通過気体Ａに洗浄水Ｗを散布する散水手段６を設け、この散水手段６の散水域に、通過気体Ａと冷熱媒Ｒとを熱交換させて通過気体Ａを冷却除湿する多数の伝熱部材４ａ，４ｂを分散状態で配置する。 - 特許庁

An axial clearance C between a male thread 6 formed on an outer peripheral surface of the opening neck portion and a female thread 46 formed in an inner peripheral surface of a main portion 34 of a skirt wall 20 of the lid is set wider than an axial effective width W of a latch jaw part 8 formed on the outer peripheral surface of the opening neck portion.例文帳に追加

口頸部の外周面に形成されている雄螺条６と蓋のスカート壁２０の主部３４の内周面に形成されている雌螺条４６との軸線方向クリアランスＣを、口頸部の外周面に形成されている係止あご部８の軸線方向有効幅Ｗ以上に設定する。 - 特許庁

Both processing surfaces Wb of a plate form workpiece W grasped by a chuck claw 14 provided at the front end of a rotary spindle are cutting processed at a time in the condition held between a fixed side cutter 71 provided on a tool rest, and a bendable side cutter 70 provided just opposing to the fixed side cutter 71.例文帳に追加

回転主軸の先端に設けられたチャック爪１４で把持した板状工作物Ｗの両加工面Ｗｂは，刃物台に設けられた固定側刃物７１と固定側刃物７１に正対して設けられた可撓側刃物７０との間に挟み込んだ状態で同時に切削加工される。 - 特許庁

When the contact shoes 36A and 36B are displaced to the position to touch the inner peripheral surface of the hole H to be detected in the detection state, detection rods 49A and 49B are actuated depending on the displacement, detection signal is output from detecting devices 58A and 58B, and thus the hole position of the work W is detected.例文帳に追加

接触子３６Ａ，３６Ｂが検出状態において被検出孔Ｈの内周面と接触する位置まで変位されたとき、その変位量に応じて検出ロッド４９Ａ，４９Ｂを作動させ、検出器５８Ａ，５８Ｂから検出信号を出力して、ワークＷの孔位置を検出する。 - 特許庁

The inside of a column structure material 1 as one of the structural materials, which partially constitute the structure such as the house, is partitioned into upper and lower spaces 1A and 1B; a water storage vessel 2 is arranged in the upper space 1A; and water W is injected into the water storage vessel 2 via an upper water filler 2a.例文帳に追加

家屋等の構造物の一部を成す構造材の一つのとしての柱構造材１の内部を上部空間１Ａと下部空間１Ｂに仕切り、上部空間１Ａには水収納容器２を配置し、この水収納容器２内に、上部の注水口２ａを介して水Ｗを注入する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the thrust race 4 of the thrust roller bearing 1, an annular flat plate W is bent by press molding, whereby an inside cylindrical part 7 is formed on the inner periphery of a race part 6, and a projection part 10 protruding radially to the inside and having a predetermined circumferential width is also formed on the inside cylindrical part 7.例文帳に追加

スラストころ軸受１のスラストレース４の製造方法では、環状の平板Ｗをプレス成形により曲げ加工することで、レース部６の内周縁に内側円筒部７が形成されると同時に、内側円筒部７には径方向内側に突出し、所定の円周方向幅を有する突起部１０が形成される。 - 特許庁