「W-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(224ページ目) - Weblio英語例文検索

This supporting member is for suspending and supporting a material to be treated which is to be surface-treated by dipping in the molten metal plating bath, at least a part dipped into the molten metal plating bath comprises a sintered compact consisting essentially of silicon nitride and the heat conductivity of the sintered compact at room temperature is ≥50 W/(m×K).例文帳に追加

溶融金属めっき浴中に浸漬して表面処理される被処理物を吊下げて支持する部材であって、溶融金属めっき浴中に浸漬される少なくとも一部分が、窒化ケイ素を主成分とする焼結体からなり、該焼結体の常温における熱伝導率が５０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であることを特徴とする。 - 特許庁

A length t1 of the stator 5 can be shortened and a wall thickness t2 of the bulkhead portion 2b can be thinned to improve mounting work and to promote heat conduction from the electromagnetic coil 5a to a jacket water W side by way of the bulkhead portion 2b and maximally prevent a reduction in the attractive force of the electromagnetic coil 5a by overheat.例文帳に追加

また、ステーター５の長さｔ１を短くし、隔壁部２ｂの肉厚ｔ２を薄くすることができるため、搭載性を向上させることができるうえに、電磁コイル５ａの熱が隔壁部２ｂを介してジャケット水Ｗ側へ熱伝導し易くなり、過熱によって電磁コイル５ａの吸着力が低下するのを極力防止することができる。 - 特許庁

The solid-liquid separation device 30 for separating a solid component (for example, insoluble biomass component) from a processed liquid W1 processed by a pressurized hydrothermal reactor, includes: a separation cylinder 31 filled with magnetic particles 33 for guiding the processed liquid W thereto; and a magnet 34 for vibrating the magnetic particle 33 filled in the separation cylinder 31.例文帳に追加

固液分離装置３０は、加圧熱水反応装置で処理された処理液Ｗ１に含まれる固体成分（例えば、不溶性のバイオマス成分）を分離する装置であって、磁性粒子３３が充填されて処理液Ｗが導かれる分離筒３１と、分離筒３１に充填された磁性粒子３３に対して振動を加える磁石３４とを備える。 - 特許庁

Consequently, a machined groove for secondary electric discharge is not enlarged by the unnecessary material including sludge, and the machined groove having a small width and a large depth can be easily formed by wire electric discharge machining in the workpiece W having a condition exceeding general standard machining condition of wire electric discharge machining, for example, a large thickness.例文帳に追加

このため、スラッジを含む不要物によって二次放電等の加工溝１８０が拡大することがなく、ワイヤ放電加工の一般的な標準加工条件を逸脱した条件、例えば厚みの大きいワークＷに対しても、幅が狭くかつ深さの大きい加工溝１８０をワイヤ放電加工にて容易に形成することができる。 - 特許庁

A water-soluble polymer is produced by irradiating with light an aqueous solution of a monomer mixture containing a water-soluble acryloyl- group-containing monomer and a water-soluble methacryloyl-group-containing monomer under conditions including an irradiation intensity of 0.5-7 W/m^2 in the presence of an azoic polymerization initiator and an inorganic phosphorus compound.例文帳に追加

アゾ系重合開始剤および無機リン化合物の存在下に、アクリロイル基を有する水溶性単量体及びメタクリロイル基を有する水溶性単量体を含有する単量体混合物の水溶液に、光照射強度０．５〜７Ｗ／ｍ^2の条件下に光を照射して重合して水溶性重合体を製造する。 - 特許庁

An emission unit 16 emits laser beam SHG of YAG second harmonics received from a YAG laser oscillator via an optical fiber 18 through an optical lens in a unit from an emission port at the tip, and condenses and emits the same into a peeling region HW set to each contact W at an elliptic beam spot SP_SHG with a high flatness.例文帳に追加

出射ユニット１６は、ＹＡＧレーザ発振器より光ファイバ１８を介して受け取ったＹＡＧ第２高調波のレーザ光ＳＨＧをユニット内の光学レンズに通して先端の出射口より出射し、各コンタクトＷに設定された剥離領域ＨＥ内に扁平度の高い楕円状ビームスポットＳＰ_SHGで集光照射する。 - 特許庁

In this heating treatment device 1 comprising a housing 2 receiving a treated object W, a microwave oscillator 3 disposed at a proper part of the housing 2, and an auxiliary heating mechanism 4 for supplying the hot water or superheated steam into the housing, cooling drainage for cooling the microwave oscillator 3 is utilized as supply hot water of the auxiliary heating mechanism 4.例文帳に追加

処理対象物Ｗを収納する筐体２と、該筐体２の適所に配設するマイクロ波発振装置３と、温水又は過熱蒸気を筐体内に供給する補助加熱機構４を備えた加熱処理装置１において、マイクロ波発振装置３を冷却する冷却排水を補助加熱機構４の供給温水として利用する。 - 特許庁

Then, when pure air is jetted into the chamber 40 through the supply nozzle 35, the pure air cleaned by an FFU 30 and containing no organic substance and no particle is supplied around the pure water PW near the focal position of the liquid immersion objective lens 8 (that is, in between the liquid-immersion objective lens 8 and the wafer W).例文帳に追加

従って、供給ノズル３５から清浄な空気がチャンバ４０内に噴出されると、液浸対物レンズ８の焦点位置近傍（即ち、液浸対物レンズ８とウエハＷの間）の純水ＰＷの周囲に、ＦＦＵ３０によって清浄化された有機物やパーテイクルを含まない清浄な空気を供給することができる。 - 特許庁

The perpendicular magnetic recording medium has a perpendicular magnetic layer containing Co, Pt, Cr, and at least one additive component of Mo and W, formed at 280 to 450°C film-deposition temperature and comprising a plurality of magnetic crystal particles separated by grain boundaries, wherein the additive component and chromium are segregated in the grain boundaries.例文帳に追加

Ｃｏと、Ｐｔと、Ｃｒと、Ｍｏ及びＷのうち少なくとも１つの添加成分とを含有し、２８０〜４５０℃の成膜温度で形成され、結晶粒界に隔てられた複数の磁性結晶粒子を含む構造を有し、添加成分とクロムとが結晶粒界中に偏析された垂直磁性層をもつ垂直磁気記録媒体。 - 特許庁

In the device 1, the body 2 is provided with a liquid reservoir 9 into which the liquid is introduced, a liquid delivery flow path 10 being open to the workpiece W and extending to a position higher than the chamber 9, and a liquid flow path 12 through which the upper end of the chamber 9 communicates with the upper end of the path 10.例文帳に追加

このノズル装置１において、ノズル体２は、処理液が導入される液溜め室９と、被処理物Ｗ上に対峙して開口され、該開口端から液溜め室９より高い位置まで延設された液吐出流路１０と、液溜め室９の上端部と液吐出流路１０の上端部とを連通する液流路１２とを備えてなるものである。 - 特許庁

When an operator inputs the kind of an IC card to a control processor 50, a disk 39 is turned to set a reader/writer 31 fitting the IC card so as to be turned in the direction toward an issue processing area 24, and an R/W device shifting part 35 adjusts the distance H between the reader-writer and the IC card 60 to be a prescribed distance.例文帳に追加

作業者がＩＣカードの種類を制御処理装置５０に入力すると、円盤３９が回転されて、そのＩＣカードに適合するリード／ライタ装置３１が発行処理領域２４の方向に向くようにセットされ、Ｒ／Ｗ装置移動部３５により、リード／ライタ装置とＩＣカード６０の距離Ｈが所定の距離になるように調整される。 - 特許庁

The cleaning nozzle 1 is constituted so that the distance W between the elastic deformation part 31 and the cam surface 42 is changed by rotating the cam ring 41, and the elastic deformation part 31 is brought into contact with the cleaning solution S ejected from the ejection port 211 by sliding the slide member 5 in the diameter direction B to change the ejection condition of the cleaning solution S.例文帳に追加

洗浄用ノズル１は，カムリング４１を回動させて弾性変形部３１とカム面４２との間の距離Ｗを変化させ，スライド部材５を径方向Ｂにスライドさせて弾性変形部３１を噴出口２１１から噴出される洗浄液Ｓに接触させて，洗浄液Ｓの噴出状態を変更できるよう構成されている。 - 特許庁

The display device is attached to a wall cabinet WC installed on the upper side of an opening part Ww in a partition wall W, and is provided with a display panel 10 hanging from the bottom face of the wall cabinet WC, and a support member 20 for supporting this display panel 10 onto the bottom face of the wall cabinet WC so that it can be turned at the top part.例文帳に追加

間仕切壁Ｗにおける開口部Ｗｗの上側に設置された吊り戸棚ＷＣに取り付けられており、吊り戸棚ＷＣの下面から垂下する表示パネル１０と、この表示パネル１０を、その上端部において、回動可能に吊り戸棚ＷＣの下面に支持する支持部材２０とを備えている。 - 特許庁

In the welding tip holding device, a holder member 110 is attachably/detachably provided to the tip end of the welding gun 200 constituted of one of electrodes for performing the welding with a work W held therebetween, a tapered fitting hole 120 is formed on a part of the holder member 110, and a shank member 220 for holding the welding tip 210 is fitted to the tapered fitting hole 120.例文帳に追加

被溶接材Ｗをはさんで溶接する電極の一つから成る溶接ガン２００の先端にホルダ部材１１０を着脱自在に設ける一方、このホルダ部材１１０の一部にテ−パ付き嵌合孔１２０を形成し、このテ−パ付き嵌合孔１２０に溶接チップ２１０を保持するシャンク部材２２０を嵌合装着させて成るものである。 - 特許庁

This object detection device 1 is equipped with a light emitting element 2 for irradiating an detection domain with light, a light receiving element 3 for receiving reflected light reflected by a detection object W placed in the detection domain, a rotation driving means 4 for rotating the light receiving element 3, and a detection means 5 for detecting the intensity of the reflected light received by the light receiving element 3.例文帳に追加

物体検知装置１は、光を被検知領域に照射する発光素子２と、被検知領域にある被検知物Ｗから反射された反射光を受光する受光素子３と、受光素子３を回転させる回転駆動手段４と、受光素３子により受光された反射光の強度を検知する検知手段５とを備える。 - 特許庁

A CPU 24 starts interruption processing in accordance with this interruption signal, and performs servo control using either of a head position (calculated head position) calculated from a position information detected by the R/W channel 20 or this time head position (prediction head position) predicted from position information detected by the servo detecting means the previous time.例文帳に追加

ＣＰＵ２４は、この割り込み信号に応じて割り込み処理を開始し、Ｒ／Ｗチャネル２０により検出された位置情報から算出されるヘッド位置（算出ヘッド位置）、または上記サーボ検出手段により前回検出された位置情報から予測される今回のヘッド位置（予測ヘッド位置）のいずれか一方を用いてサーボ制御を実行する。 - 特許庁

The method of manufacturing the multicomponent carbonitride powder includes forming an alloy powder consisting of W, Cr, at least one selected from among Ti, Zr, and Hf, and at least one of V, Nb and Ta, by a mechanical alloying and then carbonitriding the alloy powder by heating it together with a powdered carbon material and a catalyst in the existence of nitrogen gas.例文帳に追加

Ｗと、Ｃｒと、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆの少なくとも１種と、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａの少なくとも１種とを構成成分とする合金粉末をメカニカルアロイングにより生成した後、該合金粉末を粉末炭素材および触媒とともに窒素ガス存在下で熱処理することにより炭窒化して多元系炭窒化物粉末とするその製造方法。 - 特許庁

The polishing apparatus comprises a turntable 26 having a polishing face, and a top ring 28 moving freely up and down and in the horizontal direction while holding an object W to be polished and pressing the plane of the object being polished toward the turntable 26 wherein a mechanism for polishing the outer circumferential part of the object is disposed on the side of the turntable 26.例文帳に追加

研磨面を有するターンテーブル２６と、上下動及び水平移動自在でポリッシング対象物Ｗを保持して該ポリッシング対象物の被研磨面をターンテーブル２６に向けて押圧するトップリング２８とを備えたポリッシング装置において、ターンテーブル２６の側方にポリッシング対象物の外周部を研磨する外周部研磨機構を配置した。 - 特許庁

This semiconductor device inspection apparatus 1 is equipped with a stage 141 disposed in a vacuum chamber 11 for setting the semiconductor device (sample S), a femto-second laser device 12 for generating a femto-second laser beam FSLB for cutting the semiconductor device, and a scanning electron microscope (SEM 17) for observing the cut face W of the semiconductor device cut by the laser beam.例文帳に追加

半導体デバイス検査装置１は、半導体デバイス（試料Ｓ）をセットする真空チャンバー１１内に配設されたステージ１４１と、半導体デバイスを切削するフェムト秒レーザビームＦＳＬＢを生成するフェムト秒レーザ装置１２と、当該レーザビームにより切削した半導体デバイスの切削面Ｗを観察する電子顕微鏡（ＳＥＭ１７）とを備えている。 - 特許庁

A wafer stage WST which holds a wafer W and moves on an XY plane includes a rough movement stage WRS which moves on the XY plane and a fine movement stage WFS which moves relatively to the rough movement stage WRS in directions parallel to a Y axis and an X axis and rotates on the axes.例文帳に追加

ウエハＷを保持してＸＹ平面上を移動するウエハステージＷＳＴを、ＸＹ平面上を移動可能な粗動ステージＷＲＳと、該粗動ステージＷＲＳに対してＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸それぞれに平行な方向に相対移動可能で、かつ各軸回りの回転方向に回動することが可能な微動ステージＷＦＳとで構成する。 - 特許庁

When forming a groove G in the circumferential direction inside a cylindrical work W, by adopting a forming method such that a groove forming part is swelled outside by loading a liquid pressure on the groove forming part inside the work and the groove is formed by restricting the swelled part from the outside of the work, the groove G can be easily formed at low cost.例文帳に追加

円筒状ワークＷの内側に円周方向の溝Ｇを成形するに際し、ワーク内側の溝成形部分に液圧を負荷して溝成形部分を外側に膨出させると共に、その膨出部分をワーク外側から拘束して溝を成形する円筒状ワークの溝成形方法とすることにより、簡単に且つ低コストで溝Ｇを成形し得るようにした。 - 特許庁

The laser beam machining apparatus includes: a laser oscillator 10 for oscillating/outputting a machining laser beam LB; a transmitting optical fiber 14 for transmitting the laser beam LB from the laser oscillator 10 to a desired laser beam machining place; and a laser emission unit 16 for convergently irradiating a workpiece W with the laser beam LB in the laser beam machining place.例文帳に追加

このレーザ加工装置は、加工用のレーザ光ＬＢを発振出力するレーザ発振器１０と、レーザ発振器１０から所望のレーザ加工場所までレーザ光ＬＢを伝送する伝送用光ファイバ１４と、レーザ加工場所でレーザ光ＬＢを被加工物Ｗに向けて集光照射するレーザ出射ユニット１６とを有する。 - 特許庁

In the piezoelectric body 13, a peripheral portion 13A including at least outside portion from the position W of a wall face 21W of the liquid storing chamber 21 and a main portion 13B being the other portion are formed on different substrates and the breaking stress of the peripheral portion 13A is greater than that of the main portion 13B.例文帳に追加

圧電体１３は、少なくとも液体貯留室２１の壁面２１Ｗの位置Ｗより外側部分を含む周縁部１３Ａとその他の部分である主要部１３Ｂとが異なる下地上に形成されたものであり、かつ、周縁部１３Ａの破壊応力が主要部１３Ｂの破壊応力よりも大きい特性を有している。 - 特許庁

The pattern drawing apparatus carries out exposure scanning along a main scanning direction covering each of a plurality of scanning regions As defined by each prescribed width w from a start position Ps on a substrate 9 along a sub scanning direction, by relatively moving a plurality of exposure heads in the main scanning direction and the sub scanning direction with respect to the substrate.例文帳に追加

パターン描画装置では、複数の露光ヘッドを基板に対して主走査方向と副走査方向とに相対移動させることで、基板９上の開始位置Ｐｓから副走査方向に所定幅ｗごとに規定される複数の走査領域Ａｓのそれぞれを担当する主走査方向に沿った露光走査が行われる。 - 特許庁

When the ceramic catalyst is produced by directly supporting a noble metal catalyst such as Pt on a ceramic carrier prepared by substituting W for one or more kinds of elements, for example Al, in the structural elements of cordierite as the base ceramic material, a compound containing no chlorine such as dinitrodiammine platinum or the like is used as the start source material of the noble metal catalyst.例文帳に追加

基材セラミックであるコーディエライトの構成元素のうちの少なくとも１種類またはそれ以上の元素、例えばＡｌをＷで置換したセラミック担体に、Ｐｔ等の貴金属触媒を直接担持してセラミック触媒体とする際に、貴金属触媒の出発原料として、ジニトロジアンミン白金等の塩素を含まない化合物を使用する。 - 特許庁

In this manufacturing method, at least one of the sheet (S) or the film (F) has not less than 50 mN/m surface tension (γ) of a lamination surface (Sa and Fa) by corona discharge treatment at not less than 100 W min/m^2 discharge level.例文帳に追加

本発明の製造法では、シート(S)およびフィルム(F)のうちの少なくとも一方は、放電量１００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^2以上のコロナ放電処理により、貼合面(Sa、Fa)の表面張力(γ)を５０ｍＮ／ｍ以上とし、シート(S)は、貼合面(Sa)の温度(Ｔｓ)を式（Ｉ） Ｔｇｓ−７℃≦Ｔｓ≦Ｔｇｓ＋４０℃ （Ｉ） 〔Ｔｇｓはシートの貼合面のガラス転移温度を示す。 - 特許庁

This substrate treating device 1 can be improved in foot print, because wafers W are transferred among a load-lock chamber 8, a CVD 13, and an etching section 14 by means of a stage 18a which can move linearly, and a single-shaft articulated robot 19 which is a transporting means without accompanying any revolving motion.例文帳に追加

この基板処理装置１では、回転動作を伴うことなく、直線状に移動可能なステージ１８ａと搬送手段である１軸多関節ロボット１９とによって、ロードロック室８、ＣＶＤ処理部１３及びエッチング処理部１４との間でウェハＷの受け渡しを行っているので、フットプリントの向上を図ることができる。 - 特許庁

A substrate holding part 10 for holding the substrate and the cleaning nozzle 16 for ejecting two or more kinds of liquids toward the cleaning surface of the substrate W at the same time from two or more kinds of nozzle parts 28 and 30 arranged in a concentric state are provided and, as at least one of two or more kinds of liquids, the chemical liquid, functional water or gas dissolved water is used.例文帳に追加

基板を保持する基板保持部１０と、同心状に配置された２種類以上のノズル部２８，３０から基板Ｗの洗浄面に向けて２種類以上の液体を同時に噴射する洗浄ノズル１６とを備え、２種類以上の液体の少なくとも１つとして、薬液、機能水またはガス溶解水を使用するようにした。 - 特許庁

Since not only the thickness of a recessed part 4 but also the peripheral length of a recessed part 4 can be set freely by the amount corresponding to the clearances W, the settable range of the spring constant can be increased by the amount of freely settable length of the recessed part 4 in the circumferential direction, while surely performing relative positioning of the inner tube 1 to the outer tube 2.例文帳に追加

よって、すぐり部４の厚さだけでなく、隙間Ｗの分だけ、すぐり部４の周方向の長さも自由に設定することができるので、すぐり部４の周方向の長さを自由に設定できる分、内筒１及び外筒２の相対的な位置決めを確実に行いつつ、ばね定数の設定可能範囲をより広くすることができる。 - 特許庁

Even the work W having the plurality of local points W1 and W2 to be soldered where the soldering range is different each other can be efficiently soldered by raising only the nozzle 3 suitable for the size of the predetermined local point W1 to be soldered higher than the other nozzle 3a installed close thereto while avoiding the interference of the work W2 with the other nozzle 3a not in use.例文帳に追加

はんだ付け範囲の大きさが異なる複数のはんだ付け局所w1，w2を持つワークＷでも、特定のはんだ付け局所w1の大きさに適したノズル３のみを、それと接近して設置されている他のノズル3aよりも上昇させることで、使用しない他のノズル3aとワークw2との干渉を避けながら、能率良くはんだ付けする。 - 特許庁

This workpiece support device 10 includes: a support 16 supporting a workpiece W; a cylinder device 50 for moving the support in the vertical direction; an upward moving switch mechanism 66 pressed to operate the cylinder device, thereby moving the support upward; and a rocking member 20 having a rockable rocking body 22 and a contact part 35 provided on the rocking body.例文帳に追加

ワーク支持装置１０は、ワークＷを支持する支持台１６と、支持台を上下方向に移動させるシリンダ装置５０と、押圧されることによってシリンダ装置を操作して支持台を上方に移動させる上方移動スイッチ機構６６と、揺動可能な揺動体２２および揺動体に設けられた接触部３５を有する揺動部材２０と、を備えている。 - 特許庁

In this case, if a format code added to the material code is S, the apparatus 113 causes a program recording server 114 to record only the designated SD material, if it is H, causes the server 114 to record only the designated HD material, and if it is W, causes the server 114 to record the designated SD and HD materials.例文帳に追加

ここで、素材コードに付加されているフォーマットコードがＳの場合には番組収録サーバ１１４にＳＤ素材のみを指定して収録させ、Ｈの場合には番組収録サーバ１１４にＨＤ素材のみを指定して収録させ、Ｗの場合には番組収録サーバ１１４にＳＤ素材及びＨＤ素材を指定して収録させる。 - 特許庁

A ceramic substrate 1 comprising metal elements, in which Ti occupies not less than 20 mol% thereof, comprises a wiring conductive layer having a consecutive lamination of a contact metal layer 2 consisting of Cr or Ta2N, a diffusion preventing layer 3 consisting of one selected from Cr, Pd, Pt, Ni, Ni-Cr, Ti and Ti-W, and a main conductive layer 4 consisting of Au or Cu.例文帳に追加

含有された金属元素のうち２０ｍｏｌ％以上がＴｉであるセラミック基板１上に、ＣｒまたはＴａ_2Ｎからなる密着金属層２、Ｃｒ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｎｉ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｔｉ，Ｔｉ−Ｗのうちのいずれか１種からなる拡散防止層３、ＡｕまたはＣｕからなる主導体層４が順次積層されて成る配線導体層が形成されている。 - 特許庁

In performing laser welding by bisecting with reflection mirrors 113, 114 a laser beam L10 which is made a parallel laser beam L11 and by converging with a condensing lens group 115 these divided laser beams L12a, L12b on a part W to be machined, the optical image of the weld zone caught by the condensing lens group 115 is formed on an image sensor 131.例文帳に追加

平行レーザ光Ｌ１１にしたレーザ光Ｌ１０を反射ミラー１１３，１１４により２分割し、この分割レーザ光Ｌ１２ａ，Ｌ１２ｂを集光レンズ群１１５にて被加工部Ｗに集光させることによりレーザ溶接を行うにあたって、集光レンズ群１１５により捕らえられた溶接部の光学像をイメージセンサ１３１上に結像する。 - 特許庁

A vertical thermal treatment equipment 1, in which a heater 10 having a cylindrical heat insulator 11 is placed around an upright treatment container 2 for storing a plurality of bodies w to be treated and a platelike heat insulator 13 is placed on the barrel heat insulator 11 of the heater 10, comprises a plurality of cores 21 embedded into the platelike heat insulator 13.例文帳に追加

複数枚の被処理体ｗを収容する縦型の処理容器２の周囲に、筒状断熱材１１を有するヒータ１０を設置し、該ヒータ１０の筒状断熱材１１の上部に板状断熱材１３を被せてなる縦型熱処理装置１において、前記板状断熱材１３に複数本の芯棒２１を埋め込んでなる。 - 特許庁

Thereby, the data are obtained on each X-ray projection data in which the relative positions between the perspective image of the object W and an abnormal site of the X-ray detector 2 are different each other, and generation of the ring artifacts due to the abnormal site of the X-ray detector 2 on the resulting tomographic image is suppressed by subjecting it to the reconstitution operation.例文帳に追加

これにより、各Ｘ線投影データ上で、対象物Ｗの透視像とＸ線検出器２の異常部位との相対位置がそれぞれに相違するデータが得られ、これを再構成演算に供することで、得られる断層像にＸ線検出器２の異常部位に起因するリングアーチファクトが出現することを抑制する。 - 特許庁

When a side edge of the long paper 17 is supplied in the supply direction F to exceed the width W of the supply path 80, the side edge part of the long paper 17 is cut by the longitudinal paper 91, and an unnecessary part 17b of the cut long paper 17 is separated by a guide plate 92 and a discharge roller 93 to the outside of the supply path 80.例文帳に追加

長尺用紙１７の側縁が供給路８０の幅Ｗを超えて供給方向Ｆに供給されたとき、縦カッター９１によりその長尺用紙１７の側縁部分が切断され、切断された長尺用紙１７の不要部分１７ｂはガイド板９２と排出ローラ９３とによって供給路８０の外側に分離される。 - 特許庁

To improve a slack and disordered phenomenon of a wire or a rope w wound on a winding drum 3, caused by the inertial rotation of the winding drum 3 in a winch wherein the winding drum 3 is mounted to a drum support base 1, and a motor 4, an electromagnetic brake 5, a speed reducer 6 and an electromagnetic clutch 7 related to the winding drum 3 are mounted inside the winding drum 3.例文帳に追加

ドラム支持台１に巻取りドラム３を装着すると共に前記巻取りドラムの内方に該巻取りドラム３に関連したモータ４、電磁ブレーキ５、減速機６及び電磁クラッチ７を装設されたウインチにおいて、前記巻取りドラム３の慣性回転により、該巻取りドラム３に巻かれたワイヤ又はロープｗが弛緩し乱される現象を阻止する。 - 特許庁

The glaze G is sprayed on a ceramic body W by rotating a cylindrical or flat plate-like screen material 7 which is partially immersed in a glaze storage tank 3, continuously sending out the screen material 7 on which the glaze G is stuck to the front part of a compressed air spraying means 14 and spraying the glaze G stuck on the screen material 7 with the compressed air.例文帳に追加

一部が釉薬貯留槽３内に浸漬された筒状又は平板状から成る網材７を回転させ、圧縮空気噴射手段１４の前方に釉薬Ｇを付着させた網材７を連続送出し、網材７に付着させた釉薬Ｇを圧縮空気で噴射することにより、陶磁器素地Ｗに釉薬Ｇを吹き付ける。 - 特許庁

In the operating device 2 of the press brake with which a work W of sheet metal is bent, the operating device 2 of the press brake has a switch 43 provided on a shoe of an operator of the press brake 1, a transmitting means 45 for transmitting a signal by which the state of the switch 43 is expressed and a receiving means 49 for receiving the signal transmitted by the transmitting means 45.例文帳に追加

板金ワークＷの曲げ加工をおこなうプレスブレーキの操作装置２において、プレスブレーキ１の作業員の靴４１に設けられたスイッチ４３と、スイッチ４１の状態を示す信号を送信する送信手段４５と、送信手段４３で送信された信号を受信する受信手段４９とを有するプレスブレーキ操作装置２である。 - 特許庁

The method for producing the printed textile product includes the following process: A cationized cellulosic textile fiber material is printed with a printing paste composition containing a natural dye and an O/W emulsified sizing agent, and the cellulosic textile fiber material is steamed with 100-130°C saturated or heated steam so as to effect fixing the natural dye in the printing paste composition onto the cellulosic textile fiber material after printed.例文帳に追加

天然染料とＯ／Ｗエマルション糊剤とを含有する捺染糊組成物をカチオン化したセルロース系繊維材料に印捺し、印捺後に捺染糊組成物中の天然染料がセルロース系繊維材料に固着するように、当該セルロース系繊維材料を１００℃〜１３０℃の飽和蒸気又は加熱蒸気で蒸熱する。 - 特許庁

The surface treatment apparatus is provided with a vacuum vessel (1) housing a work (W), conductors (6, 30, 39, and 40) housed in the vacuum vessel (1), and a power source (11) for plasma generation for supplying the voltage for plasma generation used for generating the plasma within the vacuum vessel (1) to the conductors (6, 30, 39, and 40).例文帳に追加

本発明による表面処理装置は，ワーク（Ｗ）を収容する真空容器（１）と，真空容器（１）に収容されている導体（６，３０，３９，４０）と，真空容器（１）内にプラズマを発生するために使用されるプラズマ発生用電圧を前記導体（６，３０，３９，４０）に供給するプラズマ発生用電源（１１）とを備えている。 - 特許庁

In the determination of a text pixel, which difference out of differences between two pixels located on positions where a circle 12 having a radius equal to stroke width W around a pixel to be analyzed intersects with a row line, a column line and two lines having an 45° angle and the value of the pixel to be analyzed is larger than the relative threshold is examined.例文帳に追加

テキスト・ピクセルの決定は、分析されるピクセルについて、分析されるピクセルを中心としストローク幅Ｗに等しい半径を有する円１２が行線、列線、及び４５゜の角度を有する２つの線と交差する位置にある２つのピクセルの値と分析されるピクセルの値との差のいずれが相対しきい値よりも大きいかを検査する。 - 特許庁

In the metallic mold for molding glass consisting of at least a base material and a protective layer, the protective layer consists of at least one selected among Ir, Pt, Rh, Pd and Re and the total concentration of W, Co, Ni, Cr and Fe of a molding surface is not more than 1×10^17 atm/m^2.例文帳に追加

少なくとも母材および保護層からなるガラス成形用金型であって、前記保護層が、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｐｄ、およびＲｅよりなる群より選択された少なくとも１つからなり、成形表面のＷ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｒ、およびＦｅの合計濃度が１×１０^17ａｔｍ／ｍ^2以下であることを特徴とするガラス成形用金型。 - 特許庁

The illumination optical system for illuminating the surface (M;W) to be irradiated with light from a light source (1) has a distribution forming optical system (3, 4, 7, 8) including an optical integrator (8) and forming the pupil intensity distribution on an illumination pupil behind the optical integrator, and a correction filter (9) arranged in an illumination pupil space including the illumination pupil behind.例文帳に追加

光源（１）からの光で被照射面（Ｍ；Ｗ）を照明する照明光学系は、オプティカルインテグレータ（８）を有し、このオプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系（３，４，７，８）と、上記後側の照明瞳を含む照明瞳空間に配置された補正フィルター（９）とを備えている。 - 特許庁