W-Inの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 11340件
In order to make a seed layer have a high adhesive strength to a substrate W, metallic ions of Cu, etc., are brought into collision with the substrate W with higher energy.例文帳に追加
基板Wに対するシード層の高い付着強度を確保するために、Cu等の金属イオンをさらに高エネルギーで基板に衝突させる。 - 特許庁
By a lifter LH holding a substrate W and moving to/from the processing tank 10, the substrate W is immersed in the processing liquid and a prescribed substrate processing is performed.例文帳に追加
リフターLHが基板Wを保持して処理槽10に進退を行うことにより、基板Wを処理液中に浸漬して所定の基板処理を行う。 - 特許庁
Then, in the case of using W (kg/ton) as Al adding quantity and M (Pa/min) as pressure reducing speed, it is desirable to reduce the pressure within the range satisfying 0<M≤(1.50/W)+2.25.例文帳に追加
なおAl添加量をW(kg/ton )とし、減圧速度をM(Pa/min )として、0<M≦(1.50/W)+2.25を満足する範囲内で減圧することが好ましい。 - 特許庁
To provide a W/O/W composite emulsion having excellent stability with time and a feeling of use, and especially usable in medicines or cosmetics.例文帳に追加
経時安定性及び使用感に優れ、特に医薬品及び化粧品等に好適に使用されるW/O/W型複合エマルジョンを提供する。 - 特許庁
A W/O dispersion is prepared by dissolving a surfactant in an oil phase medium to obtain an oil phase, and putting an aqueous phase into the oil phase and agitating the mixture to obtain a W/O dispersion.例文帳に追加
油相媒体に界面活性剤を溶解して油相とし、この油相に水相を投入し撹拌してW/O分散系を調製した。 - 特許庁
At the side surface in the side of wafer W of the soaking vessel 30, a side surface aperture 33 is formed to insert the circumferential edge part B of the wafer W.例文帳に追加
浸漬容器30のウェハW側の側面には、ウェハWの周縁部Bを挿入するための側面開口部33が形成されている。 - 特許庁
When the power source of an R/W 1 is turned on, an antenna designating command 35 from a host 3 is received and the R/W 1 stores antenna control information in memories 26 and 27.例文帳に追加
R/W1の電源ON時、ホスト3からのアンテナ指定コマンド35を受信し、R/W1は、メモリ26、27にアンテナ制御情報を格納する。 - 特許庁
A gas flow moving toward the upper face side through the prepared hole H is generated in gaseous helium at the lower side of the work W when the negative pressure is generated at the upper face side of the work W.例文帳に追加
ワークWの上面側が負圧になると、ワークWの下面側のヘリウムガスが下孔Hを通って上面側に移動する気流が発生する。 - 特許庁
To provide a liquid filling device in which a workpiece W is easily set while minimizing man-induced errors when setting the workpiece W.例文帳に追加
ワークWをセットする際の人為的なミスを極力、抑えることができ、しかも、該ワークWを容易にセットすることができる液封入装置を提供する。 - 特許庁
The scraping plate 28 is operatively connected to the driving wire W, and is arranged in the action position or the nonaction position according to the moving direction of the wire W.例文帳に追加
掻き板28は駆動用ワイヤWと作動連結されており、ワイヤWの移動方向に応じて作用位置又は非作用位置に配置される。 - 特許庁
Each mark 28 has a dimension W in a direction along the first straight line L_1 and an angle P indicating one point between both ends of the dimension W.例文帳に追加
それぞれのマーク28は、第1の直線L_1に沿った方向の寸法Wと、寸法Wの両端間の一点を示す角Pと、を有する。 - 特許庁
Quantity of the W-material to be used is made to have a ratio of W in the CuW alloy of not less than 45 wt.% and less than 95 moll%.例文帳に追加
使用するW材の量は、CuW合金におけるWの割合が、45wt%以上、95moll%以下となるようにする。 - 特許庁
Control information indicated by a recognized word W is converted into a control code C in the same format as that of a control code indicated by a remote control signal RK.例文帳に追加
認識された単語Wにより示される制御情報は、リモコン信号RKにより示される制御コードと同じフォーマットの制御コードCへ変換される。 - 特許庁
In the magnetic shield structure; a ratio of the interval d of the frames to a magnetic material width W satisfies 1≤d/W≤20, and a copper wire is wound like a coil around the frame.例文帳に追加
磁性体幅Wとフレーム間隔dの比が1≦d/W≦20であり、フレームに銅線をコイル状に巻きまわした磁気シールド構造。 - 特許庁
When the vertically resting portion W is not a magnet body, a stick holding member 9 is provided in advance by a fitting screw 12 or the like to the vertically resting portion W.例文帳に追加
前記立て掛け部Wが磁性体でない場合は、その立て掛け部Wに予め杖保持部材9を取付ねじ12等で設けておく。 - 特許庁
The W/O/W multiphase emulsion containing sugar esters of self-condensed products of ricinoleic acid is significantly improved in the stability with time.例文帳に追加
リシノール酸の自己縮合物の糖類エステルを含有するW/O/W型多相エマルジョンは、経時安定性が著しく改善されたものである。 - 特許庁
The diaphragm for the filter press is composed of a resin composition containing a thermoplastic resin and a filler and characterised in that the heat conductivity thereof at room temperature is 0.4-2.0 W/m.°C.例文帳に追加
熱可塑性樹脂と充填剤を含む樹脂組成物からなり、室温における熱伝導率が0.4〜2.0 W/m・℃であることを特徴とするフィルタープレス用ダイアフラム。 - 特許庁
Properly providing a (W/L) size to a plurality of N-ch MOS transistors (TRs) being components of the comparator allows the comparator to intentionally produce an offset voltage in its detected voltage.例文帳に追加
コンパレータを構成する複数のN-chMOSトランジスタの(W/L)サイズを適当に与えることによりコンパレータの検出電圧に意図的にオフセット電圧を発生させる。 - 特許庁
The concave lens 1 has a thickness t_1 in its center portion of ≤0.5 mm, and a ratio (W/t_1) of an outside diameter W with respect to the thickness t_1 of ≥24.例文帳に追加
凹レンズ1の中心部の厚さt_1は0.5mm以下であるとともに、中心部の厚さt_1に対する外径Wの比(W/t_1)が24以上である。 - 特許庁
This sorting device 1 includes a sorting means 5 for sorting articles W being conveyed and a collecting means 6 for collecting the sorted articles W in standing posture.例文帳に追加
仕分装置1は、搬送中の物品Wを仕分ける仕分手段5と、仕分けた物品Wを起立姿勢で集積する集積手段6とを具備する。 - 特許庁
As the punch holder 5 is lowered, a plate W is held by the holding part 6, and the punches A_1 and A_2 punch holes in the plate W.例文帳に追加
前記パンチホルダ5の下降とともに板材Wを押え部6が押さえ、前記穿孔パンチA_1 ,A_2 が板材Wに打抜き孔を穿孔すること。 - 特許庁
In each phase when keys are depressed (Ctrl+1, Ctrl+2)/released (Ctrl+Q, Ctrl+W)/continuously depressed (Ctrl+1, Ctrl+2), the set of codes to specify the keys is prepared/transmitted and collated.例文帳に追加
キーを押したとき(Ctrl+1、Ctrl+2)/離したとき(Ctrl+Q、Ctrl+W)/押し続けたとき(Ctrl+1、Ctrl+2)の各フェーズにおいて、キーを特定するコードの組を作成・送信し照合する。 - 特許庁
This inspection system using an integrated circuit tag is used for a distribution system for carrying a regulated product w such as a bearing and other mechanical parts put in a package container W.例文帳に追加
軸受やその他の機械部品等の規格化された製品wを梱包容器Wに複数入れて運搬する物流系統に適用される。 - 特許庁
The diameter of a holding surface 121a of a porous 121 holding the processed wafer W in the first holding part 110 is smaller than the diameter of the processed wafer W.例文帳に追加
第1の保持部110において被処理ウェハWを保持するポーラス121の保持面121aの径は、被処理ウェハWの径よりも小さい。 - 特許庁
The gravure roll 10 performs coating in such a state that the upper part of the peripheral surface thereof is pressed to the web W and the running surface of the web W is curved upwardly.例文帳に追加
グラビアロール10は、周面上部をウエブWに押し付けて、ウエブWの走行面が上突状に湾曲する状態で塗工を行う。 - 特許庁
In this sensor having a nano-wire W comprising a hydrogen embrittlement material, hydrogen is detected by detecting disconnection caused by the reaction between the nano-wire W and hydrogen.例文帳に追加
水素脆性材料からなるナノワイヤーWを有し、このナノワイヤーWが水素と反応して断線することを検出することにより水素を検知する。 - 特許庁
For example, in the Formula (1), W^11 is hydrogen or methyl, W^12 is hydrogen, X^1 is hydrogen, and Y^1 is a 1-20C alkylene.例文帳に追加
例えば、式(1)において、W^11は水素またはメチルであり、W^12は水素であり、X^1は水素であり、Y^1は炭素数1〜20のアルキレンである。 - 特許庁
Maraging steel W is heated in the presence of a halogen compound gas, and an oxide film on the surface of the maraging steel W is removed to form a halide film.例文帳に追加
マルエージング鋼Wをハロゲン化合物ガスの存在下に加熱して、マルエージング鋼W表面の酸化被膜を除去し、ハロゲン化物被膜を形成する。 - 特許庁
The tape sticking device 46 having a perforating roller forms perforation on the paper web W between two double-coated tapes in the width direction of the paper web W.例文帳に追加
2枚の両面テープの間において紙ウェブWの幅方向に、ミシン目加工ローラを有するテープ貼装置46により紙ウェブWにミシン目を設ける。 - 特許庁
In the vapor phase cleaning section, hydrofluoric acid steam is supplied onto the substrate W while the substrate W is rotated at a low speed, being kept at a prescribed temperature.例文帳に追加
気相洗浄処理部は、基板Wを所定の温度に維持しつつ低速回転させながら、基板Wにフッ酸蒸気を供給する。 - 特許庁
After the prepreg W is heated, the lifters 7a and 7b are allowed to fall to perform folding molding to obtain a molded product having no wrinkles in the folded part of the prepreg W.例文帳に追加
軟化させた後、リフタ7a,7bをそれぞれ降下させて折曲成形すると、プリプレグWの折曲部にしわが生じない成形品が得られる。 - 特許庁
The symmetric axis As and a rotary axis Ar when the substrate W is rotated are shifted in a direction parallel to the rotary face of the substrate W.例文帳に追加
そして、その対称軸Asと基板Wを回転させる際の回転軸Arとが、基板Wの回転面と平行な方向にずらされている。 - 特許庁
The workpiece holding table 2 has a magnet chuck 7 for holding the workpiece W, made of a magnetic body by magnetic force, and a measuring element 13 of the in-process gauge 6 is made of a magnetic body.例文帳に追加
ワーク保持台2は、磁力により磁性体製ワークWを保持するマグネットチャック7を有しており、インプロセスゲージ6の測定子13が磁性体製とされている。 - 特許庁
Even when the work W is a large- diameter silicon wafer, the work W is machined in the vertical state, and thus the work machining system requires only smaller installation floor area.例文帳に追加
このワークWが大径のシリコンウエハであっても、そのワークWは垂直な状態で処理されるので、ワーク加工システムの設置床面積は小さくて済む。 - 特許庁
A processing part 14 can grasp a state of the substrate W in the cassette 1 from the detection information of the substrate W and the position of the reflection sensor 10.例文帳に追加
処理部14は、基板Wの検出情報と、反射型センサ10の位置とから、カセット1内の基板Wの状態を把握することができる。 - 特許庁
In this case, a length L of the slot is made almost equal to half-wavelength λ/2, and it is desired that a relation between width W and wavelength λ be expressed as W<<λ.例文帳に追加
こゝに、スロットの長さLは半波長λ/2にほゞ等しい長さであり、巾Wは波長λに対してW<<λの関係が望ましい。 - 特許庁
By moving the second plate 5 in the travelling direction Z, the thin film on the sheet film F is pressed to the substrate W, thus transferring the thin film to the substrate W.例文帳に追加
第2プレート5を移動方向Zに沿って移動させることで基板WにシートフィルムF上の薄膜を押し付けて薄膜を基板Wに転写する。 - 特許庁
To prevent stripping of a W film due to an oxygen containing gas contained in an interlayer dielectric even when heat treatment is performed after the W film is formed.例文帳に追加
W膜形成後に熱処理が施された場合でも層間絶縁膜に含まれている酸素を含むガスに起因したW膜の剥がれを防止する。 - 特許庁
To provide an aluminum alloy for pressure casting having a high thermal conductivity of ≥150 W/(m.°C) and usable as heat radiating parts in place of pure aluminum.例文帳に追加
150 W/(m・℃)以上の熱伝導度を有し、純アルミニウムに代わって放熱部品として使用できる高熱伝導加圧鋳造用アルミニウム合金を開発する事にある。 - 特許庁
Phythantrtol (3,7,11,15- tetramethyl-1,2,3-hexadecanetriol) exists preferably in a form of O/W or W/O emulsion or cubic gel particles.例文帳に追加
フィタントリオール(3,7,11,15−テトラメチル−1,2,3−ヘキサデカントリオール)は、好ましくはO/W又はW/Oエマルション、又は立方ゲル粒子の形態で存在する。 - 特許庁
COSMETIC AND DERMATOLOGIC LIGHT SCREENING PREPARATION IN STATE OF O/W MACROEMULSION OR O/W MICROEMULSION CONTAINING POLYSULFONATED LIGHT SCREENING FILTER例文帳に追加
ポリスルホン化光線遮蔽フィルターを含む、O/Wマクロエマルション又はO/Wミクロエマルションの形態の化粧品及び皮膚科学的光線遮蔽調製物 - 特許庁
In an accessory conveyance mechanism 26, a wafer W on a wafer mounting stand 24 is mounted on a susceptor S on a susceptor mounting stand 25 so that the back face of the wafer W is covered.例文帳に追加
副搬送機構26は、ウェハ載置台24上のウェハWをサセプタ載置台25上のサセプタS上に、ウェハWの裏面が覆われるように載置する。 - 特許庁
Heat resistance of the Si susbtrate 102 in the direction of forming the gradient of the temperature distribution is larger than 20 K/W and smaller than 2,000 K/W.例文帳に追加
この温度分布の勾配が形成される方向におけるSi基板102の熱抵抗が20K/Wより大きくかつ2000K/Wより小さい。 - 特許庁
After input of predetermined numbers of workpieces W in the pockets 4 is completed, the workpieces W on the tip sides within the pockets 4 are pressed into the grinding part 2 by the carrier 3.例文帳に追加
またポケット4に所定数のワークWを投入し終えた後に、キャリア3によりポケット4内の先端側のワークWを研削部2に押し込む。 - 特許庁
In succession, the W plug is formed by removing the TiN film and the Ti film on an insulator film with a method of not preferentially removing the W film.例文帳に追加
続いて、W膜を優先的に除去しない方法により絶縁体膜上のTiN膜及びTi膜を除去することでWプラグを形成する。 - 特許庁
This eye lotion is characterized in that 0.05-0.3 w/v%; hyaluronic acid or salt thereof, and 1.0-3.0 w/v% taurine are formulated therewith.例文帳に追加
ヒアルロン酸またはその塩を0.05−0.3w/v%及びタウリンを1.0−3.0w/v%配合することを特徴とする点眼液である。 - 特許庁
The clamped work W in the vertically standing state is machined from both sides of the work W by a plurality of machining means MC.例文帳に追加
そして、垂直に立てた状態でクランプされたワークWに対し、ワークWの両面側から複数の加工手段MCでワークWを加工する。 - 特許庁
The (W/L) sizes of a plurality of P-chMOS transistors constituting the comparator are appropriately decided so that an offset voltage can be intentionally generated in the detected voltage of the comparator.例文帳に追加
コンパレータを構成する複数のP-chMOSトランジスタの(W/L)サイズを適当に与えることによりコンパレータの検出電圧に意図的にオフセット電圧を発生させる。 - 特許庁
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