「W-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

The treatment liquid of the organic waste liquid W in the reaction tower 2 is again sprinkled to the upper side than the liquid surface P of treatment liquid of the organic waste liquid W in the reaction tower 2.例文帳に追加

反応塔２内の有機性廃液Ｗの処理液が散水装置４にて再び反応塔２内の有機性廃液Ｗの処理液の液面Ｐよりも上方に散水させる。 - 特許庁

In a state that a wafer W is supported on an attachment table 31 of an attachment means 14, the support 11 is transferred so that the wafer W is placed in the inner space F1.例文帳に追加

貼合手段１４の貼合用テーブル３１上に、ウエハＷが支持された状態で、前記支持体１１がウエハＷをその内側空間Ｆ１内に配置するように移載される。 - 特許庁

A needle driving-in amount into the work W and a strength therein are regulated properly because an attaching position of the rollers 67, 68 is regulatable, and the needle is driven in response to the work W.例文帳に追加

ローラ６７，６８の取付位置を調節できるため、ワークＷへの針の打込み量や打込み強さを適正に調節でき、ワークＷに応じた針の打込みが可能になる。 - 特許庁

However, Cr included in W may cause segregation and hence the segregation of Cr can be suppressed by including X in the alloy containing W and Cr.例文帳に追加

しかし、Ｗ中に含有されるＣｒは偏析する場合があるため、ＷとＣｒとを含む合金にさらにＸを含有することで、Ｃｒの偏析を抑制することができる。 - 特許庁

The recess C is provided in a planar shape corresponding to the shape of a pattern P1 formed in the semiconductor wafer W, and an adhesive region to the semiconductor wafer W is secured widely.例文帳に追加

凹部Ｃは、半導体ウエハＷに形成されたパターンＰ１形状に対応した平面形状に設けられ、半導体ウエハＷとの接着領域を広く確保することができる。 - 特許庁

The stretchable warp knitted fabric (10) comprises a warp knitting yarn (11) forming a wale (W), a weft inserting yarn running in the course (C) direction and a stretchable warp inserting yarn (12) running in the wale direction.例文帳に追加

ウエール(W) を構成する経編糸(11)と、コース(C) 方向に走行する緯挿入糸と、ウエール方向に走行する伸縮可能な経挿入糸(12)とを有する伸縮性経編布地(10)である。 - 特許庁

A substrate W is immersed into the rinse liquid rC dissolving carbon dioxide stored in a processing tank 20 in order to clean the surface, and then the substrate W is pulled up from the processing tank 20.例文帳に追加

二酸化炭素溶解リンス液ｒＣを貯留した処理槽２０内に基板Ｗを浸漬して表面洗浄を行った後に、処理槽２０から基板Ｗを引き上げる。 - 特許庁

The device for receiving parts W finished by the machine tool is provided with a cage 30 in one tool station 21 of the turret head 20 in order to receive the finished parts W held by the chuck 10S.例文帳に追加

ターレートヘッド２０の一つの工具ステーション２１に、チャック１０Ｓに保持され加工の終了した部品Ｗを受け取る部品受取籠３０を設けた工作機械の部品受取装置。 - 特許庁

At the completion of stirring in the first stirrer tank 21 or at the initiation of stirring in the second stirrer tank 22, the stirring power per one unit of liquid is set to be at least 2 W/liter and at most 10 W/liter.例文帳に追加

第１攪拌槽２１での攪拌終了時、または、第２攪拌槽２２での攪拌開始時において、単位液量あたりの攪拌動力を２Ｗ／リットル以上１０Ｗ／リットル以下とする。 - 特許庁

In this way, the gas flows along the rear surface of the wafer W on the chuck 60 at its peripheral edge from inside the wafer W towards the outside in the radial direction.例文帳に追加

このようにして、スピンチャック６０上の半導体ウエハＷの周縁部の裏面に沿ってウエハＷの半径方向内側から半径方向外側に向かって気流が流れる。 - 特許庁

This vibration control device 1 is constituted to mix inert gas heavier in specific gravity than the atmosphere, in a space part 4 of the tank 3 storing the liquid W, to cover the surface of the liquid W.例文帳に追加

液体Ｗを貯留するタンク３の空間部４に、大気よりも比重の重い不活性ガスを混入させ、前記液体Ｗの表面を覆うようにした制振装置１とする。 - 特許庁

The measured articles W go to both end sides without accumulating only at a center part in the tank 2, so that the layer thickness of the measured articles W in the tank 2 becomes nearly uniform.例文帳に追加

これにより、被計量物Ｗがタンク２内の中央部のみに山積みされることなく両端部側まで行き渡り、タンク２内の被計量物Ｗの層厚がほぼ均一になる。 - 特許庁

When the reliability set in the image Z is lower than the reliability set in the image W, the motion vector determining part 114 outputs a motion vector from an image Y to the image W.例文帳に追加

画像Ｚに対して設定された信頼度が画像Ｗに対して設定された信頼度よりも低い場合には、画像Ｙから画像Ｗへの動きベクトルを出力する。 - 特許庁

In the forging press process, an inclined face W1 is formed on the upper face of a work W by operating a punch 10 for forging press to a boring part THx in the inclined work W.例文帳に追加

鍛圧工程では、傾斜したワークＷにおける孔の形成予定部分ＴＨｘに対し、鍛圧用パンチ１０を作動させて、ワークＷの上面に傾斜面Ｗ１を形成する。 - 特許庁

Preferably, the thermal conductivity of the graphite film in a film plane direction is not less than 200 W/mK and the thermal conductivity in a direction perpendicular to the film plane is not more than 20 W/mK.例文帳に追加

前記グラファイトフィルムにおけるフィルム面方向の熱伝導度が２００Ｗ／ｍＫ以上であり、フィルム面に垂直方向の熱伝導度が２０Ｗ／ｍＫ以下であることが好ましい。 - 特許庁

In a heating coil 1 for induction-heating the work W, a gas passage 7 for hardening-cooling and a spouting hole 8 for spouting gas in this passage 7 toward the work W, are arranged.例文帳に追加

ワークＷを誘導加熱する加熱コイル１に、焼入冷却用のガスの流路７と、この流路７内のガスをワークＷに向けて吐出する吐出口８とを設ける。 - 特許庁

To provide a non-oriented electrical steel sheet whose high frequency core loss is low in such a manner that W_10/1k surely reaches <53(W/kg) even in a non-oriented electrical steel sheet having a high Mn content, and to provide its production method.例文帳に追加

Mn量の高い無方向性電磁鋼板でも、確実にW_10/1kが53(W/kg)未満となる高周波鉄損の低い無方向性電磁鋼板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In this way each pressing pawl 20c orients to the upper part of the outside, and lies in a state of being capable of mounting a work W (or a state of capable of releasing the fixed work W).例文帳に追加

このため、押え爪２０ｃは外側の上方に向いており、ワークＷを装着できる状態（又は、固定されているワークＷを解放できる状態）になっている。 - 特許庁

This work machining system having a transverse-axis-type double-end grinding machine 1 for grinding the work W in a vertical state always machines the work W in the vertical state.例文帳に追加

ワークＷを垂直な状態で研削する横軸型の両頭研削盤１を備えたワーク加工システムにおいて、このワークＷを、常に垂直にした状態で処理することとした。 - 特許庁

The dotted mark (M), most superior in visibility in the group of the non-epitaxially grown dotted marks (M), is extracted from the group of the non-epitaxially grown dotted marks (M) and the orientation of the crystal axis of the wafer W is specified from this dotted mark (M) and the center of the wafer (W).例文帳に追加

前記非エピ成長ドットマーク(M) の群にあって最も視認性に優れたドットマーク(M) を抽出し、このドットマーク(M) とウェハ中心とから結晶軸の方位を特定する。 - 特許庁

This water-in-oil type emulsified oil composition contains at least 1 wt.% (w/w) of trehalose in its aqueous phase, and bread can be obtained by using the composition.例文帳に追加

トレハロースを１％（ｗ／ｗ）以上、水相中に含有する油中水型乳化油脂組成物、及び、それを用いて得られるパン類を提供することにより前記課題を解決する。 - 特許庁

The polymer compound thus obtained is dissolved in a Dulbecco's modified eagle's medium (DMEM) being one of culture solution on the market in 10 w/w% to give a freeze preservation solution having low toxicity.例文帳に追加

このようにして得た高分子化合物を、市販の培養液の一つであるダルベッコ改変培地（ＤＭＥＭ）に１０ｗ／ｗ％溶解させて、毒性の低い凍結保存液とする。 - 特許庁

In the incident Ryoma lost the gun and later bought two of S&W MODEL 1, 22, which were carried by Ryoma and Oryo and with which they enjoyed hunting during the stay in Satsuma. 例文帳に追加

しかし同事件の際に紛失し、後に買い求めたのがS&Wモデル122口径で、これは妻・お龍とともに1丁ずつ所持し、薩摩滞在時はこれで狩猟などを楽しんだという。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The marine structure 1 comprises leg parts 2 placed in the sea W and acting as cathodes, and an anodic material 4 electrically connected to the leg part 2 and acting as an anode in the sea W.例文帳に追加

海洋構造物１は、海中Ｗに設置されてカソードとなる脚部２と、脚部２と電気的に接続され、かつ海中Ｗでアノードとなるアノード材料４と、を含む。 - 特許庁

To measure a power accurately over long hours just after reception of a laser beam in a laser power detection device for measuring the power of the laser beam mainly in an infrared region or of several W or more.例文帳に追加

主として赤外線領域あるいは数W以上のレーザ光のパワーを測定するレーザパワー検出装置にあって、レーザ受光直後から長時間にわたり精度よくパワー測定する。 - 特許庁

A silicon wafer W for 6 inches is put in the hole part of an adapter template 15 in a template 15 for 8 inches to apparently increase the diameter of the 6-inch wafer W to that of an 8-inch wafer.例文帳に追加

８インチ用のテンプレート１４に６インチ用のシリコンウェーハＷをアダプタテンプレート１６の孔部に収容し、見かけ上、６インチウェーハＷの直径を８インチ用ウェーハに拡大する。 - 特許庁

The transmission type sensor 80, which falls integrally with the shutter member 5, sequentially detects substrates W in the cassette 1 for grasping the condition of substrates W in the cassette 1.例文帳に追加

シャッター部材５と一体となって下降する透過型センサ８０が、カセット１内の基板Ｗを順次検出していくことで、カセット１内の基板Ｗの状態を把握することができる。 - 特許庁

The reflection type sensor 10, which falls integrally with the shutter member 5, sequentially detects substrates W in the cassette 1 for grasping the condition of substrate W in the cassette 1.例文帳に追加

シャッター部材５と一体となって下降する反射型センサ１０が、カセット１内の基板Ｗを順次検出していくことで、カセット１内の基板Ｗの状態を把握することができる。 - 特許庁

A notch locating pin 74 is moved to the inside of the workpiece W in the radial direction, and a slider 743 is moved to the inside of the workpiece W in the radial direction by an energizing force of a spring 746.例文帳に追加

ノッチ位置決めピン７４をワークＷの半径方向内側に移動し、ばね７４６の付勢力によって、スライダー７４３を、ワークＷの半径方向内側に移動する。 - 特許庁

To provide a statot-manufacturing apparatus, in which a rectangular wire W constituting a coil can be readily arranged, in a stator core in a distributed winding manner.例文帳に追加

コイルを構成する平角線Ｗを、分布巻きでステータコアに容易に配置できるステータの製造装置を提供する。 - 特許庁

Then a dimension W or the main body 2 in the width direction is selected to be in the range of 0.9-1.1 times a dimension L thereof in the longitudinal direction.例文帳に追加

そして、コンデンサ本体２の幅方向寸法Ｗを、長さ方向寸法Ｌの０．９〜１．１倍の範囲内に選ぶ。 - 特許庁

In Step 3, helium is injected to the water chamber 2a, and in Step 4, the water level of the seawater W in the water chamber 2b is changed.例文帳に追加

ステップＳ３では、水室２ａにヘリウムを注入し、ステップＳ４では、水室２ｂの海水Ｗの水位を変化させる。 - 特許庁

In an example shown in Fig.1, convex patterns a, b, and c of which the width W and length L are changed in units of 1, 5, 10 are arranged.例文帳に追加

図１に示す例では、１，５，１０の単位で、幅Ｗ・長さＬを変えた凸状のパターンａ，ｂ，ｃ等を配置する。 - 特許庁

In the work conveying-in device, the work W is conveyed-in to a work support means 3 directed to an approximately horizontal direction of a machine tool 1.例文帳に追加

工作機械１の略水平方向を向くワーク支持手段３にワークＷを搬入するワーク搬入装置である。 - 特許庁

In SPM (sulfuric acid hydrogen peroxide mixture) processing using SPM of about 200°C, a wafer W is held in a substrate lower part holding section 2.例文帳に追加

約２００℃のＳＰＭが用いられるＳＰＭ処理時には、基板下保持部２にウエハＷが保持される。 - 特許庁

In this held state, the plurality of the wafers W are film-formed at once in a reactor 80 for large size.例文帳に追加

この保持状態で大サイズ用のリアクタ８０において前記複数ウェハＷを一度に成膜処理する。 - 特許庁

In the detection apparatus, an optical sensor to detect the condition of a housed wafer W such as the thickness etc. is prepared in the support arm 43.例文帳に追加

ウェハＷの厚み等の収容状態を検出する光学センサは、支持アーム４３に設けられている。 - 特許庁

The water in the seismic isolation pit 2 is heated or cooled by a heat source device 4 to store heat in the water W.例文帳に追加

免震ピット２内の水Ｗは熱源装置４で加熱若しくは冷却されて水Ｗに熱を蓄える。 - 特許庁

The subrolls 3 pressurize the workpiece W toward the main roll 2 in a plurality of positions in the peripheral direction of the main roll 2.例文帳に追加

副ロール３は、主ロール２の周方向における複数の位置でワークＷを主ロール２に向けて押圧する。 - 特許庁

At least three kinds of slit widths are selectable in the slit width W of a photoreception slit 20, in the first condition.例文帳に追加

第１条件は受光スリット２０のスリット幅Ｗであり，少なくとも３種類のスリット幅を選ぶ。 - 特許庁

To prevent a wavy deformation in the end of a substrate W and an abnormal arc discharge, in a plasma CVD apparatus 1.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置１において、基材Ｗの端部の波状変形や異常なアーク放電を防止する。 - 特許庁

In a heating unit BAKE, heat treatment of a substrate W is performed in a high vacuum chamber CHb.例文帳に追加

加熱ユニットＢＡＫＥにおいては、高真空状態のチャンバＣＨｂ内で基板Ｗの加熱処理が行われる。 - 特許庁

In step S4, the product of obtained y(k) and a twist coefficient w(i,k) is calculated and the result is stored in y(k).例文帳に追加

次に、ステップＳ４では、得られたｙ(k)とひねり係数ｗ(i,k)の積をとり、結果をｙ(k)に格納する。 - 特許庁

Nonmagnetic gaps 41 having a predetermined width W in the direction of magnetic flux M are provided in the core 3.例文帳に追加

コア３には、磁束Ｍの方向に所定の幅Ｗを有する非磁性のギャップ部４１が設けられている。 - 特許庁

In this state, the positioning pin 1 is inserted into the positioning hole Wa formed in the workpiece W to position the workpiece.例文帳に追加

この状態で、位置決めピン１をワークＷの位置決め孔Ｗａに挿入して位置決めを行う。 - 特許庁