「active repeating」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which has a specified repeating unit expressed by general formula (I) and a specified repeating unit and the solubility of which with an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｃ）溶済を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) a resin containing specified silicon-containing repeating units and repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、主査に特定の脂環式構造を有する繰り返し単位とを含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）特定の構造の活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

An adhesive resin composition comprises a polymer having repeating units derived from an ethylenically unsaturated monomer having an active methylene group and repeating units derived from an ethylenically unsaturated monomer and a copolyester which has used, as the copolymerization component, a dicarboxylic acid having a sulfonate salt and/or an ester-forming derivative thereof.例文帳に追加

活性メチレン基を有するエチレン性不飽和モノマーから誘導される繰り返し単位とエチレン性不飽和モノマーから誘導される繰り返し単位を有するポリマーと、スルホン酸塩を有するジカルボン酸及び／又はそのエステル形成性誘導体を共重合成分として用いたコポリエステルとが含まれることを特徴とする接着性組成物である。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has at least each one kind of a repeating unit of a specified structure and a repeating unit having a specified partial structure and the solubility of which increases with an alkali developer by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の繰り返し単位と、特定の部分構造を有する繰り返し単位とをそれぞれ少なくとも１種ずつ有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains (A) a resin containing repeating structural units with norbornene and repeating structural units containing a specified alicyclic hydrocarbon structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）ノルボルネンを有する繰り返し構造単位、特定の脂環式炭化水素構造を含む繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive-type photoresist composition contains (A) a resin, containing repeating structural units with a specified bridged alicyclic structure and repeating units with a specified lactone structure and having rate of dissolution in an alkali developing solution increased due to the action of an acid and (B) a compound which generates the acid, when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の有橋式脂環式構造を有する繰り返し構造単位および特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a nonaqueous electrolyte secondary battery capable of lowering a generation volume of carbon dioxide remaining in a cathode active material, even when it is left unused at high temperature or at a time of actual use repeating a charge/discharge cycle at high temperature.例文帳に追加

高温で放置したり、高温で充放電サイクルを繰り返し行うような実使用時においても、正極活物質中に残存する炭酸ガスの発生量を低減できる非水電解液二次電池を提供するものである。 - 特許庁

To obtain a data repeating device, a data communication system and a data communication method capable of continuously providing data based on the request of a client and providing data based on active decision of a server and to obtain a recording medium.例文帳に追加

クライアントの要求に基づくデータ提供と、サーバの能動的な決定に基づくデータ提供とを、継続的に実行することのできるデータ中継装置、データ通信システム、データ通信方法及び記録媒体を提供する。 - 特許庁

The resist composition contains (A) a resin increasing a dissolution speed to an alkali developer due to the action of an acid having a specific repeating unit, and (B) a compound generating the acid due to irradiation with an active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

The electrode for a nonaqueous electrolyte secondary battery includes an organic radical compound, which has a radical structure represented by the following formula (1) in a repeating unit, as an active material, and the organic radical compound is supported by carbon serving as a conductive agent.例文帳に追加

繰り返し単位中に、下記式（１）のラジカル構造を有することを特徴とする有機ラジカル化合物を活物質として含み、該有機ラジカル化合物は導電剤としてのカーボンに担持されていることを特徴とする。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing repeating units each having a specified lactone structure and having alkali solubility increased by decomposition by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ならびに特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a resin having repeating units with a specified alicyclic lactone structure and repeating units with a specified di- or trihydroxyadamantane structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified nitrogen compound.例文帳に追加

特定の脂環ラクトン構造を有する繰り返し単位、及び特定のジ又はトリヒドロキシアダマンタン構造を有する繰り返し単位を各々有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤と、特定の窒素化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin having a specified repeating unit derived from a vinyl ether having a fluorine atom or a fluoroalkyl group in the α-position and a specified repeating unit derived from a vinyl ether and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）α位にフッ素原子又はフルオロアルキル基を有するビニルエーテルに由来する特定の繰り返し単位及びビニルエーテルに由来する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The human heavy chain variable part antibody which is active to bind with Her2 is successfully obtained by repeating a step of selecting a phage for expressing the human heavy chain variable part antibody a plurality of times which binds with Her2-expressing human cultured cell.例文帳に追加

Her2発現ヒト培養細胞に結合するヒト重鎖可変部抗体発現用ファージを選択するステップを複数回繰り返し行うことにより、Her2に対する結合活性を有するヒト重鎖可変部抗体を取得することに成功した。 - 特許庁

The positive resist composition contains: a resin which comprises a combination of specified repeating units and increases the solubility with an alkali developer solution by the effect of an acid; and a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し単位を組み合わせた、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a specified repeating unit and the solubility of which with an alkaline developing solution increases by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has three kinds of specified repeating units and which increases the dissolution rate with an alkali developer solution by the effect of an acid and (B) a compound which produces an acid by applying active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）３種の特定の繰り返し単位を含有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which contains three kinds of specified repeating units and which increases the dissolution rate with an alkali developer solution by the effect of an acid and (B) a compound which produces an acid by applying active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）３種の特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin which has a specified repeating unit and of which the solubility in an alkaline developing solution increases in the presence of an acid; and a compound which generates an acid by the action of active rays or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し単位を含有する、酸によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂（Ｂ） 活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

Then, solution is soaked into an interface of a solid electrolyte 12 in the porous solid electrolyte 14 and the electrode active material 16, by repeating a treatment several times to ten-odd times in which solution is supplied to (dropped on) the electrode part 18 and is dried.例文帳に追加

その後、電極部１８に溶液を供給（滴下）し、乾燥するという処理を数回〜１０数回ほど繰り返して、多孔質固体電解質１４中の固体電解質１２と電極活物質１６との界面に溶液を染み込ませる。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin containing a specified (meth)acrylic ester repeating unit and having velocity of dissolution in an alkaline developer increased by the action of an acid, and a compound which generates an acid upon irradiation with active light or radiation.例文帳に追加

特定の（メタ）アクリル酸エステル繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide an electrode for a battery having superior moldability, formed by uniformly dispersing electrode materials such as an active material in a matrix at high density, having superior adhesion with a collector and a large capacity, and little reducing the capacity even if repeating the charging/ discharging.例文帳に追加

成形性良く、マトリックス中に活物質等の電極材料が高密度でかつ均一に分散されてなり、集電体との密着性も良好で、大容量かつ充放電を繰り返したときの容量低下の少ない電池用電極を提供する。 - 特許庁

The fluorinated surface active agent contains at least one kind of the repeating units derived from the monomers as described in (A) and (B), wherein (A) is a specific (meth)acrylate compound having a fluoroalkyl group at the terminal of the side chain and (B) is an ethylenic unsaturated compound containing a poly(oxyalkylene) group.例文帳に追加

（Ａ）および（Ｂ）で表されるモノマー由来の繰り返し単位をそれぞれ１種以上含有する共重合体；（Ａ）フルオロアルキル基を側鎖末端に有する特定の（メタ）アクリレート化合物、および（Ｂ）ポリオキシアルキレン基含有エチレン性不飽和化合物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: a resin which has a repeating unit derived from isosorbide (meth)acrylate and which increases the solubility rate in an alkali developer solution by the effect of an acid; and a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a specific repeating unit having a norbornene structure at its side chain and is increased in solubility in an alkaline developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位と、特定の繰り返し単位とを有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains (A) a resin increasing a dissolution speed to an alkali developer due to the action of an acid having a repeating unit expressed by a general formula (I), and (B) a compound generating the acid due to irradiation with an active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin having a specified repeating unit and increasing the solubility with an alkali aqueous solution by the effect of an acid; (B) a compound generating an acid by the effect of active rays or radiation; and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin having a repeating unit of a specified structure and increasing the solubility with an alkali developer solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generated an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing repeating units each containing a group represented by a specified structure and increasing its rate of dissolution in an alkali developing solution under the action of the acid.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造で表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の混合溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The method for evaluating physiologically active substance comprises following steps, fusing a fluorescent protein gene with a gene KIAA0290 encoding the amino acid sequence of the protein, introducing fused gene into live cells, culturing the cells, measuring the repeating time of the assemble-diffusion of the protein or rate of eliminated cells after repeating period of the assemble-diffusion of the protein.例文帳に追加

タンパク質のアミノ酸配列を規定している遺伝子ＫＩＡＡ０２９０に蛍光タンパク質遺伝子を融合した後、該融合遺伝子を生細胞に導入し、該細胞を培養して、該タンパク質の集合−拡散の繰り返し時間もしくは該タンパク質の集合−拡散の繰り返し周期を消失した細胞の割合を計測することを利用して、生理活性物質を評価する方法を提供する。 - 特許庁

This positive electrode for the alkaline storage battery is composed of an active material mix containing a nickel hydroxide component as an active material component, and a polymer component; and a conductive metal support, and a hydrogen bonding functional group is not contained in the repeating chemical structure of the polymer component whose weight ratio to the nickel hydroxide component is 0.2% or more, among the polymer components.例文帳に追加

活物質成分としての水酸化ニッケル成分と高分子成分を含む活物質合剤と、導電性金属支持体からアルカリ蓄電池用正極電極を構成し、前記高分子成分のうち、前記水酸化ニッケル成分に対する重量比が０．２％以上である成分の繰り返し化学構造に、水素結合性の官能基が含まれないようにする。 - 特許庁

The positive radiation sensitive composition contains (A1) an ionic compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation, (A2) a nonionic compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation, (B) a resin having a specified repeating unit, the solubility of which to an alkali developer liquid increases by the effect of the acid, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ１）活性光線又は放射線の照射により酸を発生するイオン性化合物、（Ａ２）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する非イオン性化合物、（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

In the container, the active mineral water is prepared by alternately repeating the following steps: a step for making water pressurized to 5-25 atom contact with and pass through a mineral inorganic substance selected from basalt, andesite, and magnetite; and a step for aerating the water obtained by the above process in an atmosphere less than the above atmosphere.例文帳に追加

活性化鉱水は、５〜２５気圧に加圧された水を玄武岩、安山岩、磁鉄鉱から選ばれる鉱物性無機物質に接触通過させる工程と、この工程を経た水を前記気圧未満の雰囲気下に曝気する工程を交互に繰り返して製造された活性化鉱水である。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin-containing specified silicon-containing repeating units and having solubility with respect to an alkali developing solution increased by the action of an acid, an acid generating agent which generates acid, when it is irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の混合溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The negative resist composition contains (A) a compound which produces an acid by radiation of active rays or radiation, (B) a crosslinking agent which crosslinks by an acid, and (C) an alkali-soluble resin having two kinds of specified structural repeating units as the structural component.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸により架橋する架橋剤、及び（Ｃ）２種の特定構造繰り返し単位を構成成分として有するアルカリ可溶性樹脂、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

Each of the positive type resist compositions contains (A) a resin which has repeating units with a specified structure and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

Each of the positive type resist compositions contains (A) a resin which has at least three repeating units with specified separate structures and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し単位を少なくとも３種有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains: resin which contains a repeating unit derived from an isosorbide (meth)acrylate and of which the dissolving rate to an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and a compound which has a naphthalene skeleton and generates an acid by being irradiated with active rays or radiation.例文帳に追加

イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、ナフタレン骨格を有する特定の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains (A) a resin which has a repeating unit having a specific group and increases its solubility in an alkaline developer under the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active light or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The resist composition contains: resin which contains a repeating unit derived from an isosorbide (meth)acrylate and of which the dissolving rate to an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and a specified sulfonium compound having an enone structure which generates an acid by being irradiated with active rays or radiation.例文帳に追加

イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生するエノン構造を有する特定のスルホニウム化合物を含有する感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has specified two kinds of repeating units having alicyclic groups and which increases the dissolving rate with an alkali developer by the effect of an acid and (B) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）脂環基を有する特定の繰り返し単位を２種含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁