「air polishing」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

AIR PRESSURE TYPE POLISHING METHOD AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

エアー加圧式研磨方法及びその装置 - 特許庁

OUTSIDE AIR COMMUNICATING MECHANISM FOR POLISHING DEVICE例文帳に追加

ポリッシング装置における外気連通機構 - 特許庁

CURVATURE SETTING DEVICE FOR POLISHING JIG AND METHOD FOR INJECTING AIR TO POLISHING JIG例文帳に追加

研磨治具用曲率設定装置および研磨治具へのエア注入方法 - 特許庁

BRAN REMOVING APPARATUS OF HORIZONTAL JET AIR GRINDING TYPE GRAIN POLISHING MACHINE例文帳に追加

横形噴風研削式精穀機の除糠装置 - 特許庁

BRAN DISCHARGE DEVICE OF HORIZONTAL JET AIR GRINDING TYPE GRAIN-POLISHING MACHINE例文帳に追加

横形噴風研削式精穀機の糠排出装置 - 特許庁

An ambient air temperature in a polishing chamber 200 is detected during polishing by an ambient air sensor 9, the ambient air controlled in a prescribed temperature is introduced in the polishing chamber 200 so as to hold the ambient air temperature at a fixed value in the polishing chamber 200.例文帳に追加

雰囲気温度センサ９により研磨室２００内の雰囲気温度を研磨中に検出し、研磨室２００内の雰囲気温度を一定温度に保つように、所定の温度に制御された雰囲気を研磨室２００内に導入する。 - 特許庁

To effectively discharge and remove bran in the grain polishing chamber of a horizontal jet air grinding type grain polishing machine.例文帳に追加

横形噴風研削式精穀機の精穀室内の糠の排出除去を有効に行う。 - 特許庁

This polishing pad has a polishing layer made of a polyurethane resin foam material having micro air bubbles.例文帳に追加

また、該研磨パッドを用いた半導体デバイスの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

An expandable/contractible air bag 18 is provided between the end of a polishing surface plate 14 and the end of the polishing pad 16, and the air bag 18 is expanded at a truing time of the polishing pad 16.例文帳に追加

研磨定盤１４の端部と研磨パッド１６の端部との間に膨縮自在なエアーバッグ１８を設け、このエアーバッグ１８を研磨パッド１６のツルーイング時に膨張させる。 - 特許庁

STRUCTURE OF AIR INJECTION PORT AND CURVATURE SETTING DEVICE FOR POLISHING TOOL例文帳に追加

エア注入口部の構造および研磨治具用曲率設定装置 - 特許庁

To provide a method for removing air from a polishing pad, which easily extracts the air from an air containing portion by surely detecting the positions of the air containing portion.例文帳に追加

空気溜まりの位置を確実に検出して、空気溜まりから空気を簡単に抜くことのできる研磨パッドの空気抜き方法を提供する。 - 特許庁

REMOVAL RICE BRAN SUCTION AIR INTERRUPTING DEVICE FOR GRAIN POLISHING APPARATUS, GRAIN POLISHING APPARATUS USING THE SAME, AND METHOD FOR ITS OPERATION CONTROL例文帳に追加

精穀装置用除糠吸引風遮断装置及びこれを用いた精穀装置並びにその運転制御方法 - 特許庁

A plurality of cooling grooves 24 guiding air arrived at the ventilating hole 23 to the outer circumference of the polishing disc, are formed at the polishing surface of the polishing disc 11, so that air exhausted out by the fan blade due to the rotation of the rotor 10, is thereby to cool both the polishing surface and the polishing disc.例文帳に追加

研磨ディスク１１の研磨面には、通気孔２３に到達した空気を研磨ディスク１１の外周に案内する複数の冷却溝２４が形成されており、回転体１０の回転によってファンブレードにより吐出された空気は被研磨面と研磨ディスクを冷却することになる。 - 特許庁

By jetting the rod-like polishing liquid against the mesh member 20, the polishing liquid is splashed, air is taken in to generate polishing force in the polishing liquid, and the polishing liquid after passing through the mesh member 20 is sprayed against the quartz plate 2.例文帳に追加

メッシュ部材２０に棒状の研磨液を噴射することで、研磨液が破砕され、空気が取り込まれることで、研磨液に研磨力が発生し、メッシュ部材２０通過後の研磨液が水晶素板２に吹き付けられる。 - 特許庁

In this polishing device to polish by a polishing material by feeding the polishing liquid to the polished surface of the polished material, an air blasting means 7 (a blower tube) to make the distribution of the polishing liquid on the polished surface even, is provided.例文帳に追加

研磨液を被研磨材の被研磨面に供給して研磨材により研磨を行う研磨装置であって、被研磨面の研磨液の分布を均一にする送風手段７（送風口）を設ける。 - 特許庁

A bran removing air is circulated to the polishing chamber 1 through the bran removing wind tunnel 5b.例文帳に追加

除糠風通路５ｂを通して搗精室１に除糠風を流通させる。 - 特許庁

A bran removing air is circulated to the polishing chamber 1 through the bran removing wind tunnel 5c.例文帳に追加

除糠風通路５ｃを通して搗精室１に除糠風を流通させる。 - 特許庁

A hard polishing pad 42 is used as the polishing body in a first process, and as the wafer 30 is pushed to the polishing pad 42 by air pressure, the wafer 30 is polished.例文帳に追加

第１の工程では、前記研磨体として硬質の研磨パッド４２を用いるとともに、エアー圧によりウエハ３０を研磨パッド４２側へ押圧しつつ、ウエハ３０を研磨する。 - 特許庁

The air line 105 comprises a high pressure air line 105a for producing first polishing pressure in the cylinder 104, and a low pressure air line 105b for producing second polishing pressure smaller than the first polishing pressure in the cylinder 104.例文帳に追加

エアーライン１０５は、シリンダー１０４内に第１の研磨圧力を生成するための高圧エアーライン１０５ａと、シリンダー１０４内に第１の研磨圧力よりも小さい第２の研磨圧力を生成するための低圧エアーライン１０５ｂとを有する。 - 特許庁

The air chuck grips the used polishing belt 53 to be hung on a roll 2 of the polishing machine, pulls it into the exchanger head and carries it on the mandrel.例文帳に追加

エアチャックは研磨機のロール２に掛けられる使用済み研磨ベルト５３を把持して交換ヘッドに引き入れ、マンドレルに掛ける。 - 特許庁

The air flows through the rice polishing section 14, a recovering section 13 and the blasting means 16 and is guided again to the rice polishing section 14.例文帳に追加

そして空気は、米とぎ部１４、回収部１５、送風手段１６へと流れていき、再び米とぎ部１４へ案内される。 - 特許庁

Water and air are merged into a flow of polishing and cleaning materials in spray nozzles 1, 2, and 3 by simultaneously sucking the water and air from inlets or halfway intake ports 4 of spray nozzles 1, 2, and 3 for polishing and cleaning materials.例文帳に追加

研掃材の噴射ノズル１，２，３の入り口又は途中の吸込口４から、水と空気を同時に吸引させて噴射ノズル１，２，３内の研掃材の流れに合流させる。 - 特許庁

To the polishing powder electrically charged by static electricity during polishing of the non-conductive workpiece W, ionized air is blown from an air blowout port 6b in a static eliminator 6.例文帳に追加

非導電性ワークＷの研磨処理中に静電気により帯電した研磨粉に、除電装置６の空気吹出口６ｂよりイオン化した空気を上記非導電性ワークＷに吹付ける。 - 特許庁

To provide a polishing method of a color filter substrate preventing air from entering during sticking a frame material, preventing wrinkles from being generated, providing ease of work, and accurately sticking and polishing during polishing the glass substrate by using an Oscar type polishing machine.例文帳に追加

オスカー型研磨機を用いガラス基板を研磨する際に、枠材の貼り付けを、空気を噛ませず、皺を作らず、作業性よく、且つ貼り付け精度を良好におこない、研磨するカラーフィルタ基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁

When the polishing is carried out by an abrasive material 2 such as a grinding wheel, by feeding a polishing liquid 3 to the polished surface of a polished material 1 such as a wafer, the polishing is carried out by making even the distribution of the polishing liquid on the polished surface by an air blasting.例文帳に追加

研磨液３をウエハー等の被研磨材１の被研磨面に供給して砥石等の研磨材２により研磨を行う際、送風により被研磨面の研磨液の分布を均一にして研磨を行う研磨方法。 - 特許庁

An air cylinder 36 to press a holding plate 55, holding a ferrule 60, against the polishing sheet side is capable of regulating an air pressure.例文帳に追加

フェルール６０を保持する保持板５５を研磨シート側に押圧するエアーシリンダ３６は、エアーの圧力調整が可能である。 - 特許庁

A charging inlet for charging rice grains bearing bran before polishing through and an air blowing port for circulating air are formed in the outer cylinder.例文帳に追加

外筒には糠の付着した精米前の米を投入する投入口と、循環空気を供給する送気口を設ける。 - 特許庁

To obtain a polishing and holding pad without air leakage and penetration of slurry containing polishing abrasive particles into pores at high productivity and low density.例文帳に追加

生産性が高く、低密度でありながらエアリークが無く、研磨砥粒を含むスラリーが気孔内に浸透することがない研磨保持用パッドを得る。 - 特許庁

A polishing means (polishing part) 16 is sealed and housed within a chamber 13 of an atmosphere of a different composition from the air, the atmosphere of the polishing means (polishing part) 16 is made into atmosphere of the different composition from the air, and a wafer W is polished while performing an electrolytic action by applying a voltage between the wafer W and a polishing pad 34a.例文帳に追加

研磨手段（研磨部）１６を大気とは別組成の雰囲気のチャンバ１３内に密閉収容し、研磨手段（研磨部）１６の雰囲気を大気とは異なる組成の雰囲気にすると共に、ウエーハＷと研磨パッド３４ａとの間に電圧を印加して、電解作用を行わせながら前記ウエーハＷを研磨するように構成した。 - 特許庁

To remove air bubble between a polishing pad and a level block more simply without a complicated structure.例文帳に追加

複雑な構造をとることなく、より簡便に研磨パッドと定盤の間の空気泡を除去する。 - 特許庁

The bran 4 produced during the rice polishing process is collected in the bran bag 39 by this air flow.例文帳に追加

この空気の流れにより、米とぎ工程で発生した糠４は糠袋３９へ捕集される。 - 特許庁

In this chemical mechanical polishing method, the polishing pad which has microrubber A hardness of 80 degrees or more, contains a polymer polymerized from polyurethane and a vinyl compound, and has independent air bubbles is attached to a device polishing a semiconductor wafer like a chemical mechanical to wash the surface of the polishing pad in a non- destruction manner after polishing the semiconductor wafer and remove polishing dust on the polishing pad.例文帳に追加

半導体ウェハ類を化学機械的に研磨する装置に、マイクロゴムＡ硬度が８０度以上でありポリウレタンとビニル化合物から重合される重合体を含有し独立気泡を有する研磨パッドを取り付けて、半導体ウェハを研磨した後、研磨パッド表面を非破壊で洗浄し、研磨パッド上の研磨屑を除去するを特徴とする化学機械研磨方法。 - 特許庁

Then, the exchanger head is shifted a preset distance to be changed over, and the air chuck grips the polishing belt 56 for exchange, pushes it to the polishing machine and hangs it on the roll 2.例文帳に追加

次に交換ヘッドを該ヘッドを一定量シフトすることにより切換え、エアチャックが交換用研磨ベルト５６を把持して研磨機に押出し、ロール２に掛ける。 - 特許庁

To provide an electric floor polishing machine restrained from the leakage of exhaust air and dust while feeding dust into a dust collecting chamber with dust feeding air.例文帳に追加

ダストを送塵風によって集塵室に送り込みながら排気漏れやダスト漏れが発生しにくい電気床磨き機を提供する。 - 特許庁

This polishing device is provided with an air cylinder reciprocating the polishing tool 1 relative to the workpiece 16, a rotating means varying the tilt angle of the polishing tool and the air cylinder, and a control means controlling at least one or the other of pressure of the air cylinder in the thrust direction and pressure compensating its own weight of a movable section in the air cylinder.例文帳に追加

研磨工具１を被加工物１６に対して進退させるエアシリンダと、研磨工具及びエアシリンダの傾斜角度を可変させる回転駆動手段と、前記傾斜角度に応じてエアシリンダの推力方向の圧力及びエアシリンダにおける可動部の自重を補償する圧力の少なくとも一方の圧力を制御する制御手段とを具備する。 - 特許庁

At this time, the air is guided by blasting means 16 from a ventilation route 32 to a rice polishing section 14.例文帳に追加

このとき、送風手段１６により通風経路３２から空気が米とぎ部１４へ案内される。 - 特許庁

To provide a polishing pad capable of restraining generation of defects due to air inclusion more than before.例文帳に追加

空気の噛み込みによる不具合が従来よりも発生しにくい研磨パッドを提供しようとするもの。 - 特許庁

In such a case, the hardness increases and the excess polishing of air bearing surfaces at the time of forming these surfaces is prevented.例文帳に追加

この場合、硬度が高くなりエアベアリング面の形成の際に過剰に研磨されることが防止される。 - 特許庁

To provide a tank which is used for manufacturing a polishing pad of satisfactory quality free from air voids, a method for manufacturing the polishing pad using the tank, and the polishing pad to be obtained by the manufacturing method.例文帳に追加

エアーボイドのない品質のよい研磨パッドを作製するために用いられるタンク、該タンクを用いた研磨パッドの製造方法、及び該製造方法により得られる研磨パッドを提供することを目的とする。 - 特許庁

The air bag-type polishing and cleaning head 40 comprises an approximately cylindrical air bag, and a sleeve made of an abrasive grain-contained fiber and covering an outer peripheral face of an air bag.例文帳に追加

エアバッグ式研磨洗浄用ヘッド４０は、略円筒状に形成されたエアバッグと、このエアバッグの外周面を覆うように被せられた砥粒入り繊維製スリーブとを備えている。 - 特許庁

To provide a minute component polishing device which can be downsized as a whole by improving a conventional minute component polishing device and overcoming a difficulty of downsizing of air cylinders.例文帳に追加

微小部品研磨装置を改良して、エアシリンダの小形化が困難であっても、これに妨げられることなく微小部品研磨装置を全体的に小形軽量化する。 - 特許庁

To provide a polishing device capable of pressing a mount plate by air with a broad uniform pressure to make a pressing force to a workpiece uniform and improving polishing ability.例文帳に追加

マウントプレートに対して広範囲で均一な圧力でエアにより押圧してワークに対する押付け力も均一とし、研磨能力を向上させる研磨装置を提供する。 - 特許庁

To adjust the air gap easily while reducing the labor required for polishing and enhancing the accuracy of polishing, and to enhance productivity by preventing chipping or damage.例文帳に追加

研磨工数の低減並びに研磨精度の向上を図り、容易に空隙調整を行うことができ、その際に欠けあるいは破損などが生じ難く生産性を高める。 - 特許庁

To provide an air pressure type polishing method and a device therefor to prevent adhesion of slurry grinding grains to a part to be machined occurring due to air drying.例文帳に追加

空気乾燥によって生じる被加工部へのスラリ砥粒の固着を防止することができるエアー加圧式研磨方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide an air blast control method and a device in which hanging in a pressurization tank is promptly released even in the air blast using an easily crushable polishing material.例文帳に追加

破砕されやすい研掃材を使用したエアブラストであっても加圧タンクへの棚吊りが早期に解除されるエアブラスト制御方法及び装置を提供する。 - 特許庁